Présentation
Découvrez le Wafer XRD 300 : votre module de diffraction des rayons X haute vitesse pour la production de wafers de 300 mm fournissant des données clés sur une variété de paramètres essentiels tels que l'orientation des cristaux et des caractéristiques géométriques telles que les encoches, les méplats et bien plus encore ; conçu pour s'intégrer parfaitement à votre ligne de traitement.
Fonctionnalités et avantages
Précision ultra-rapide grâce à notre technologie d'acquisition exclusive
La méthode utilisée ne nécessite qu'une seule rotation d'acquisition pour recueillir toutes les données nécessaires à la détermination complète de l'orientation des cristaux, ce qui offre une grande précision pour un temps de mesure très faible, de l'ordre de quelques secondes.
Manipulation et tri entièrement automatisés
Le Wafer XRD 300 est conçu pour maximiser votre rendement et votre productivité. Son intégration complète à votre automatisation de la manipulation et du tri en fait un complément puissant et efficace de votre processus.
Connectivité simple
L'automatisation puissante du Wafer XRD 300 s'intègre facilement à votre processus nouveau ou existant, car il est compatible avec les interfaces MES et SECS/GEM.
Haute précision, données plus poussées
Comprenez vos matériaux comme jamais auparavant avec les mesures clés du Wafer XRD 300, notamment :
- Orientation des cristaux
- Position, profondeur et angle d'ouverture de l'encoche
- Diamètre
- Position et longueur du méplat
- Autres capteurs disponibles sur demande
L'écart-type d'inclinaison (exemple : Si 100) pour l'acquisition azimutale est < 0,003o.
Puissant et polyvalent
À mesure que la recherche sur les semi-conducteurs évolue, il n'a jamais été aussi important de mesurer toute une variété d'échantillons. Le Wafer XRD 300 facilite et accélère l'analyse de centaines de matériaux, notamment :
- Si
- SiC
- AlN
- Al2O3 (saphir)
- GaAs
- Quartz
- LiNbO3
- BBO
Applications clés
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- Production et transformation
- Les progrès de l'automatisation changent nos industries. Le Wafer XRD 300 est à la pointe de la technologie en tant que solution pratique et puissante permettant de gérer les mesures d'orientation à des vitesses sans précédent.
- Contrôle qualité
- Le Wafer XRD 300 offre une efficacité et une polyvalence inégalées pour le contrôle qualité de la production, vous donnant des résultats très précis en moins de 10 secondes.
- Il est bien adapté aux environnements de production 300 mm où l'intégration dans l'automatisation personnalisée est essentielle.
Caractéristiques
| Débit | 10 000+ wafers par mois |
| Géométrie des wafers | Sur demande |
| Précision de l'inclinaison | 0,003 |
| Axe XRD vs encoche / position du méplat | 0,03° |
Assistance
Services d'assistance
- Assistance téléphonique et à distance
- Maintenance préventive et contrôles
- Contrats de service client flexibles
- Certificat de performances
- Mises à niveau matérielles et logicielles
- Assistance locale et mondiale
Expertise
- Solutions clés en main pour la métrologie élémentaire et structurelle des semi-conducteurs
- Automatisation et conseil
- Formation et éducation
