Wichtigste Anwendungen
Die Malvern Panalytical X'Pert³ MRD und MRD XL sind All-in-One-Röntgenlösungen, die in vielen Industrieanwendungen eingesetzt werden können, darunter:
Halbleiter und Einkristall-Wafer
Ob für Wachstumsstudien oder das Gerätedesign: Die Messung von Schichtqualität, Dicke, Dehnung und Legierungszusammensetzung mittels hochauflösender Röntgendiffraktion steht im Mittelpunkt der Forschung und Entwicklung von elektronischen und optoelektronischen Multilayer-Halbleiterbauelementen. Mit einer Auswahl an Röntgenspiegeln, Monochromatoren und Detektoren bieten die X'Pert³ MRD und MRD XL hochauflösende Konfigurationen für verschiedene Materialsysteme, von gitterangepassten Halbleitern über entspannte Pufferschichten bis hin zu neuartigen exotischen Schichten auf nicht standardmäßigen Substraten
Polykristalline Feststoffe und Dünnschichten
Polykristalline Schichten und Beschichtungen sind ein wichtiger Bestandteil vieler Dünnschichten und mehrschichtiger Geräte. Die Entwicklung der polykristallinen Schichtmorphologie während der Abscheidung ist ein wichtiger Untersuchungsbereich in der Forschung und Entwicklung von Funktionswerkstoffen. X'Pert³ MRD und X'Pert³ MRD XL können mit einer Reihe von Blenden, einem Parallelstrahl-Röntgenspiegel, einer Polykapillarlinse, einer Kreuzblende und Monokapillaren ausgestattet werden, um die volle Auswahl an Optiken für den einfallenden Strahl für Reflektometrie, Belastung, Textur und Phasenidentifizierung zu bieten.
Ultradünne Schichten, Nanomaterialien und amorphe Schichten
Funktionale Geräte können ungeordnete oder amorphe Dünnschichten oder Nanokomposit-Dünnschichten enthalten. Die Flexibilität der Systeme X'Pert³ MRD und MRD XL ermöglicht die Integration mehrerer Analysemethoden. Eine Reihe von hochauflösenden Optiken, Blenden und Parallelplattenkollimatoren stehen zur Verfügung, um die optimale Leistung für Verfahren mit streifendem Einfall, In-plane-Beugung und Reflektometrie zu bieten.
Messung unter Non-ambient-Bedingungen
Die Untersuchung des Verhaltens von Materialien unter verschiedenen Bedingungen ist ein wesentlicher Bestandteil der Materialforschung und Prozessentwicklung. Die X'Pert³ MRD und MRD XL wurden für die einfache Integration der Non-ambient-Probenbühne DHS1100 von Anton Paar entwickelt und ermöglichen automatisierte Messungen unter verschiedenen Temperaturen und inert Atmosphären.
