Cámaras que no se encuentran a temperatura ambiente

Solución completa para el análisis de rayos X in situ

El análisis de rayos X in situ, a menudo denominado análisis en condiciones no ambientales, es una de las aplicaciones clave para la investigación avanzada de materiales tanto en entornos académicos como industriales.

Cualquier propiedad macroscópica de un material está directamente relacionada con su propiedad estructural (p. ej., simetría cristalográfica, tamaño de cristalito, vacantes, tamaño y forma de nanopartículas o poros). La temperatura, la presión, la variación de la atmósfera de gas y la transformación de fase de activación de tensión mecánica, las reacciones químicas, la recristalización, etc.

Las técnicas de dispersión de rayos X (XRD) y dispersión de rayos X son la primera y, a veces, la única opción para la caracterización in situ correcta y exacta de estos cambios. Ya sea para la optimización de un proceso de fabricación o el ajuste de un procedimiento de síntesis, o para la investigación y creación de nuevos materiales de vanguardia, el análisis de rayos X in situ es la herramienta más completa para la resolución de problemas.

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HTK 16N: calentador de banda

Para XRD de polvo en la geometría de reflexión con calentamiento rápido a 1600 °C.

HTK 1200N: calentador de horno

Para XRD de polvo en geometría de transmisión y reflexión, análisis de tensión mecánica básica, SAXS, PDF y película delgada a temperaturas de hasta 1200 °C.

HTK 2000N: calentador de banda

Para XRD de polvo en la geometría de reflexión con calentamiento rápido a 2000 °C.

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TTK 600: cámara de baja temperatura

Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión y transmisión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de -190 °C a +600 °C.

CHC plus+: cámara de refrigeración y humedad

Para la XRD de polvo en reflexión, la tensión mecánica básica y el análisis de película delgada con temperatura y humedad controladas.

MHC-trans: cámara de humedad de varias muestras

Para XRD de polvo en mediciones de transmisión y SAXS básicas con condiciones controladas de temperatura y humedad.

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PheniX: Criostato de baja temperatura

Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de -261 °C (12 °K) a +25 °C (298 °K).

Cryostream Plus compacto

Para XRD de polvo, SAXS básico y PDF en la geometría capilar en el rango de temperatura de -193 °C (80 °K) a 227 °C (500 °K).

Chimera: cámara de enfriamiento y calentador

Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de -203 °C (70 °K) a 252 °C (525 °K).

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HPC 900: cámara de alta presión

Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de 900 °C y presión hasta 100 bar.

XRK 900: cámara del reactor

Para la XRD del polvo en reflexión, el estrés básico y el análisis de película delgada a temperaturas de hasta 900 °C y presiones de hasta 10 bar con varios gases.

DCS 500: etapa de enfriamiento abovedada

Para el análisis avanzado de películas delgadas y mediciones de tensión mecánica a temperaturas de -180 °C a 500 °C.

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DHS 1100: etapa caliente abovedada

Para el análisis avanzado de película delgada, tensión mecánica, textura y la XRD de polvo básico en reflexión a temperaturas de hasta 1100 °C.

BTS 150/500: etapas de calentamiento de laboratorio

Las etapas de calentamiento en la mesa de Anton Paar BTS 150 y BTS 500, una solución de bajo costo para XRD in situ (de -10 °C a +500 °C).

Descargue el folleto para obtener una descripción general de los accesorios no ambientales y su campo de aplicación.