HTK 16N – chambre haute température

Pour chauffage rapide à 1 600 ºC

Anton Paar HTK 16N est une chambre de chauffage à bande conçue pour les études in situ de diffraction des rayons X sur poudre en géométrie de réflexion à des températures allant jusqu'à 1 600 ºC dans le vide, l'air ou l'atmosphère inerte. Selon les exigences expérimentales, différents types de bandes chauffantes (Pt, Ta, graphite ; autres sur demande) peuvent être montés à l'intérieur de la chambre. En raison du chauffage direct de l'échantillon, le taux de chauffe avec une bande Pt ou Ta peut atteindre 400 ºC/min. La conception de la chambre est optimisée pour un gradient de température minimal le long de la bande chauffante et pour une stabilité de position maximale de l'échantillon. Deux thermocouples sont disponibles pour une mesure et un contrôle précis de la température. En option, un couteau de faisceau peut être placé au-dessus de l'échantillon pour améliorer le bruit de fond à de faibles angles. Le HTK 16N est adapté aux études XRD de matériaux organiques et inorganiques.

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Présentation générale

XRD à haute température avec chauffage très rapide

La conception du HTK 16N est optimisée pour les études in situ de diffraction des rayons X sur poudre dans la géométrie de réflexion, pour l'étude des changements structurels dynamiques, des transformations de phase, des réactions chimiques, des processus de recuisson et de vieillissement à des températures allant jusqu'à 1 600 ºC.