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登録商標

登録商標状態
AERIS®
AERIS PANALYTICAL®
(ASD Inc) logo®
アルキメデス®
AXIOS®
Bohlin
CHI-BLUE®
Claisse®
CUBIX®
CUBIX3 (superindex the 3)®
dCore
EAGON®
Eagon 2®
EASY SAXS®
Empyrean®
EPSILON®
EPSILON X-FLOW®
EXPERT SAXS®
EASY SAXS®
FieldSpec®
FIPA®
FLUOR’X®
GALIPIX 3D®
Gemini
goLab
HandHeld 2
HIGHSCORE®
Hydrosight
iCore
(i logo)®
Indico Pro
インシテック®
(Insitec logo)®
(Insitec Measurement Systems logo)®
ISys®
LabSizer
LabSpec®
LeNeo®
LeDoser
LeDoser-12
M3 PALS
M4
MADLS®
マルバーン®
(Triangular hills logo + Malvern Instruments)®
Malvern in Chinese characters®
マルバーン®
Malvern Instruments in Chinese characters®
Malvern Link
(Malvern Plus Hills Logo)®
マスターサイザー®
マスターサイザー 2000
MC (stylised)®
MDRS®
Microcal®
モフォロギ®
(Triangular hills logo)®
ナノサイト®
NIBS
OIL-TRACE®
OMNIAN®
OmniSEC®
PANALYTICAL®
PANALYTICAL LOGO (picture)®
PANTOS®
PEAQ-ITC®
PIXCEL®
PIXCEL 1D®
PIXCEL 3D®
QualitySpec®
(r logo)®
(Realogica logo)®
スプレーテック
SST®
SST-MAX®
SUPER SHARP TUBE®
STRATOS®
SUPER Q®
SyNIRgi®
TerraSpec®
TheOx® Advanced®
Ultrasizer®
VENUS MINILAB®
ViewSpec
Viscogel®
Viscotek®
X’CELERATOR®
XPERT3 (superindex the 3)®
ゼータサイザー®
ZETIUM®
ZS Helix®

特許

Malvern Panalyticalには、以下の特許および特許出願によって保護されている、市場をリードする独自の製品が数多くあります。

マスターサイザー

特許番号特許タイトル装置
EP1167946B1 (GB, FR, DE60135521D1)試料の取り扱いに関するシステムHydro MV、Hydro LV、Hydro EV
GB2364774B
US6800251B2
粒子特性評価の装置で使用する試料の取り扱いに関するシステムHydro MV、Hydro LV
GB2494735B光散乱による粒度分布を測定する装置MS3000、MS3000E
CN104067105B
EP2756283B1 (GB, FR, DE602012015707.0)
US9869625B2
JP6154812B
光散乱による粒度分布を測定する装置と方法MS3000、MS3000E
US10837889B2
GB2494734B
光散乱による粒度分布を測定する装置と方法MS3000、MS3000E

ゼータサイザー

特許番号特許タイトル装置
US7217350B2
表面電荷から生じる移動性と効果ゼータサイザーアドバンスシリーズ、Nano ZS、Nano Z、Nano ZS90、Nano ZSP、Helix
EP2467701A1
CN102575984B
US9279765B2
JP5669843B2
US10317339B2
US20200096443A1
改善された単一拡散モード検出を備えた複雑な流体の動的光散乱法をベースにしたマイクロレオロジーゼータサイザーアドバンスシリーズ、Nano ZSP、Helix
CN103608671B
CN105891304B
EP2721399B1 (BE, CH+LI, DK, FR, GB, NL, DE602012031338.2, IT502017000050268)
JP06023184B2
US9829525B2
US10274528B2
US20200072888A1
表面電荷測定Zeta Plate Cellアクセサリ
US8702942B2
CN103339500B
EP2652490B1 (GB, FR, DE602011046775.1)
JP06006231B2
JP06453285B2
US10648945B2
拡散障壁を使用したレーザードップラー電気泳動法ゼータサイザーアドバンスシリーズ、 Nano ZS、Nano S、Nano ZS90、S90、Nano ZSP
EP2742337B1 (GB, FR, DE602012018122.2)
US9816922B2
微粒子のデュアルモード特性評価ゼータサイザーへリックス
US10197485B2
US10520412B2
US10845287B2
EP3353527A1
JP2018535429A
CN108291861A
粒子の特性評価ゼータサイザーアドバンスシリーズ
US10119910B2粒子の特性評価装置ゼータサイザーアドバンス: UltraとPro
US8675197B2
JP6059872B2
EP2404157B1
粒子の特性評価ゼータサイザーアドバンスアクセサリ
EP3521806A1
US20210063295A1
CN111684261A
WO2019154882A1
多角度動的光散乱法ゼータサイザーアドバンス: Ultra

インシテック

特許番号特許タイトル装置
US7418881B2
EP1592957B1 (GB)
希釈システムと方法Insitec (一部の製品)
US7871194B2
EP1869429A2
希釈システムと方法Insitec (一部の製品)
EP2640499B1 (GB)インライン分散機と紛体混合法インシテック(乾式)

モフォロギ

特許番号特許タイトル装置
EP2106536B1 (GB, FR, DE602008039489.1)
US8111395B2
US8564774B2
不均一性の分光分析モフォロギ G3-ID
GB2522735B
JP6560849B2
乾式分散の方法と装置モフォロギG3-ID、モフォロギG3

Viscosizer

特許番号特許タイトル装置
US2018067901A1
JP2018511129A
EP3274864A1
CN107430593A
多成分モデルのパラメーター化Viscosizer TD

Hydro Sight

特許番号特許タイトル装置
US8456633B2分光プロセス監視Hydro Sight
CN104704343B
EP2864760A2
US10509976B2
不均一な流体試料の特性評価Hydro Sight

ナノサイト

特許番号特許タイトル装置
US7751053B2
JP04002577B2
EP1499871B1 (FR, DE60335872.1)
GB2388189B
US7399600B2
粒子解析のための光学検出ナノサイト NS300
ナノサイト NS500
ナノサイト LM10
EP3071944B1 (GB, FR, DE602014059002.0)
US9909970B2
JP6505101B2
CN105765364A
装置の校正の改善または関連ナノサイト NS300

MicroCal ITC

特許番号特許タイトル装置
CN101855541B
EP2208057A1
JP05542678B2
US8449175C1
US8827549C1
等温滴定型マイクロカロリメーター装置と使用方法MicroCal ITC製品
CN102232184B
EP2352993B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009044685.1)
JP5476394B2
US9103782B2
US9404876B2
US10036715B2
US10254239B2
EP3144666B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009059932.1)
US20200025698A1
EP3647776A1
自動等温滴定型マイクロカロリメーター装置と使用方法MicroCal ITC製品

MicroCal DSC

特許番号特許タイトル装置
US8635045B2
CN103221808B
EP2646811A1
IN336472
JP5925798B2
カロリメトリーデータの自動ピーク検出方法MicroCal DSC製品

OmniSEC

特許番号特許タイトル装置
US9759644B2
US10551291B2
バランスキャピラリーブリッジ粘度計OmniSEC
US9612183B2
EP2619543B1 (GB, FR, DE602011011174.4)
JP05916734B2
CN103168223B
IN341558
モジュラーキャピラリーブリッジ粘度計OmniSEC

床置きXRF

特許番号特許タイトル装置
US8210000B2
JP5554163B2
CN101941789B
EP2270410B1 (GB, FR, NL, DE602009003389.1)
ビーズ炉Zetium
Axios FAST
Epsilon5
US6823043B2材料パラメーターの決定
Zetium*
Axios FAST*
2830 ZT (wafer analyser)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US7949092B2
X線分析を実施する装置と方法
Zetium*
Axios FAST*
2830 ZT (wafer analyser)*
Epsilon5*
SEMYOS
US6574305B2
試料の状態を検査する装置と方法Zetium*
Axios FAST*
2830 ZT (wafer analyser)*
Epsilon5*
SEMYOS*
JP4111336B2X線で試料を試験する装置
Epsilon5

US7042978B2材料試料の検査Zetium*
Axios FAST*
Epsilon5
SEMYOS*
JP5782451B2
EP2510397B1 (GB, FR, NL, DE602010021859.7)
xuv波長範囲に適応するために横方向パターンを備えた多層構造を製造する方法、およびこの方法に従って製造されたbfとImag構造Zetium*
Axios FAST
2830 ZT (wafer analyser)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US9658352B2
CN104833557B
JP656263B2
JP6804594B2
基準の作成方法Zetium
Axios FAST
EP2787342B1 (GB, FR, NL, DE602013028642.6)
JP6360151B2
押して試料ペレットを準備Zetium
Axios FAST
US10107551B2
EP2966039B1 (GB, FR, NL, DE602014024004.2)
JP6559486B2
CN105258987B
フラックスとプラチナるつぼを使用したXRF用試料の準備Zetium
Axios FAST
US9784699B2
JP6861469B2
CN105937890B
EP3064931B1 (GB, FR, NL, CH, DE)
定量的X線分析 - マトリックスの厚さの補正Zetium*
Axios FAST
US9739730B2
JP6706932B2
CN105938113B
EP3064933B1 (GB, FR, NL, CH, DE)
定量的X線分析 - 多光路装置Zetium*
Axios FAST
US9851313B2
JP6762734B2
CN105938112B 
EP3064932B1 (GB, FR, NL, CH+LI, DE602016024126.9)
定量的X線分析 - 比率補正Zetium*
Axios FAST
JP3936912B2液体のX線分析用フローティングカバーつき試料コンテナZetium
Axios FAST
2830 ZT (wafer analyser)
Epsilon5
SEMYOS
US9239305B2試料ホルダZetium*
Axios FAST*
Epsilon5
US7978820B2
X線回析と蛍光Zetium
Axios FAST*
2830 ZT (wafer analyser)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US7720192B2
JP5574575B2
CN101311708B
蛍光X線装置Zetium*
Axios FAST*
2830 ZT (wafer analyser)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US7194067B2
X線光学システムZetium
Axios FAST*
2830 ZT (wafer analyser)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US8223923B2
JP5266310B2
CN101720491B
EP1983547B1 (GB, FR, NL, DE602008000361D1)
金属線カソードを備えたX線源Zetium
Axios FAST
2830 ZT (wafer analyser)
Epsilon5
SEMYOS
US9911569B2
JP2016131150A
CN105810541B
EP3043371B2 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
X線管アノード配置
Zetium
Axios FAST
2830 ZT (wafer analyser)
Epsilon5
SEMYOS
US10281414B2
EP3330701B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602017006751.2)
EP3480587A1
US10393683B2
JP6767961B2
CN108132267A
X線測定用コニカルコリメータZetium*
*· オプション/製品の標準ではありません

ベンチトップXRF

特許番号特許タイトル装置
US8210000B2
JP5554163B2
CN101941789B
EP2270410B1 (GB, FR, NL, DE602009003389.1)
ビーズ炉Epsilon 1範囲
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
US6823043B2材料パラメーターの決定
Epsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US7949092B2
X線分析を実施する装置と方法
Epsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US6574305B2
試料の状態を検査する装置と方法Epsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US7042978B2材料試料の検査Epsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9658352B2
CN104833557B 
JP6562635B2
JP6804594B2
基準の作成方法Epsilon 1範囲
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
EP2787342B1 (GB, FR, NL, DE602013028642.6)
JP6360151B2
押して試料ペレットを準備Epsilon 1範囲
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
US10107551B2
JP6559486B2
CN105258987B 
EP2966039B1 (GB, FR, NL, DE602014024004.2)
フラックスとプラチナるつぼを使用したXRF用試料の準備Epsilon 1範囲
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
US9784699B2
JP6861469B2
CN105937890B
EP3064931B1 (GB, FR, NL, CH, DE)
定量的X線分析 - マトリックスの厚さの補正Epsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9739730B2
JP6706932B2
CN105938113B 
EP3064933B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016056347.9)
定量的X線分析 - 多光路装置Epsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9851313B2
JP6762734B2
CN105938112B 
EP3064932B1 (GB, FR, NL, CH+LI, DE602016024126.9)
定量的X線分析 - 比率補正Epsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
JP3936912B2液体のX線分析用フローティングカバーつき試料コンテナEpsilon 1範囲
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
US9239305B2試料ホルダEpsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9547094B2
CN104849295B
EP2908127B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602014011398.2)
JP6526983B2
X線分析装置
Epsilon 1範囲
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
US7978820B2
X線回析と蛍光Epsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US7194067B2
X線光学システムEpsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US8223923B2
JP5266310B2
CN101720491B
EP1983547B1 (GB, FR, NL, DE602008000361D1)
金属線カソードを備えたX線源Epsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9911569B2
JP2016131150A
CN105810541B
EP3043371B2 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
X線管アノード配置
Epsilon 1範囲*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
* オプション/製品の標準ではありません

床置きXRD

特許番号特許タイトル装置
US6815684B2
固体状態位置高感度X線検出器を備えた分析用X線装置Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
CubiX³ range
US6823043B2材料パラメーターの決定
Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US6574305B2
試料の状態を検査する装置と方法Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US9506880B2
CN104251870B
EP2818851A1
JP6403452B2
回析イメージングEmpyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US7116754B2回析装置Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US8488740B2
JP6009156B2
CN102565108B
EP2455747B1 (GB, FR, NL, DE602011022779.3)
回析装置
Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US7858945B2
JP5254066B2
CN101521246B
EP2088451B1 (GB, FR, NL, DE602008041760.3)
イメージング検出器Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
EP2088625B1 (GB, FR, NL, CH + LI, DE602009040563.2)イメージング検出器Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US9110003B2
CN103383363B
EP2634566B1 (GB, FR, NL, DE602012058202.2)
JP6198406B2
マイクロ回析
Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
CubiX³ range
US6704390B2
多層ミラーと出口コリメータを備えたX線分析装置Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US9640292B2
CN104777179B
EP2896960B1 (GB, FR, NL, DE602014012155.1)
JP6564683B2
X線装置
Empyrean
X'Pert³ Powder
CubiX³ range
US7756248B2
JP5145263B2
CN101545873B
EP2090883B1 (GB, FR, NL, DE602008002143D1)
パッケージングのX線検出
Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
US8477904B2
JP5752434B2
CN102253065B
EP2365319B1 (GB, FR, NL, DE602011055847.1)
X線回折とコンピュータ断層撮影法Empyrean
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US7542547B2
JP5280057B2
CN101256160B
EP1947448B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602007031351.1)
X線散乱法用X回折装置
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
EP1287342B1 (GB, FR, DE60147121.0)X線回折装置Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US7477724B2
EP1703276B1 (GB, FR, NL, DE602005033962.0)
X線装置Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range
US7194067B2
X線光学システムEmpyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US8437451B2
JP5999901B2
CN102610290B
EP2477191B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602011035906.1)
X線シャッターの配置Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
CubiX³ range
US9911569B2
JP2016131150A
CN105810541B
EP3043371B1 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
X線管アノード配置
Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
EP3553508A2
US20190317030A1
JP2019184609A
CN110389142A
X線分析装置と方法Empyrean*
US10359376B2
EP3273229A1
JP6701133B2
CN107643308A
X線分析用試料ホルダEmpyrean*
* オプション/製品の標準ではありません

QualitySpec 7000

特許番号特許タイトル装置
US8164747B2
CA2667650C
EP2092296B1 (CH+LI, NL, SE, DK, DE602007045593.6)
光学分光測定のための装置、システムおよび方法QualitySpec 7000

TerraSpec Halo

特許番号特許タイトル装置
US9207118B2モノクロメーターおよびダイオードアレイ分光計機器をスキャンするための装置、システム、および方法TerraSpec Halo

QualitySpec Trek

特許番号特許タイトル装置
US9207118B2モノクロメーターおよびダイオードアレイ分光計機器をスキャンするための装置、システム、および方法QualitySpec Trek

ベンチトップXRD

特許番号特許タイトル装置
US6815684B2
固体状態位置高感度X線検出器を備えた分析用X線装置Aeris*
US6823043B2材料パラメーターの決定
Aeris*
US9506880B2
CN104251870B
EP2818851A1
JP6403452B2
回析イメージングAeris*
US7116754B2回析装置Aeris*
US8488740B2
JP6009156B2
CN102565108B
EP2455747B1 (GB, FR, NL, DE602011022779.3)
回析装置Aeris*
US7858945B2
JP5254066B2
CN101521246B
EP2088451B1 (GB, FR, NL, DE602008041760.3)
イメージング検出器Aeris*
EP2088625B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602009040563.2)イメージング検出器Aeris*
US6704390B2
多層ミラーと出口コリメータを備えたX線分析装置Aeris*
US9640292B2
JP6564572B2
CN104777179B
EP2896960B1 (GB, FR, NL, DE602014012155.1)
X線装置Aeris
US8477904B2
JP5752434B2
CN102253065B
EP2365319B1 (GB, FR, NL, DE602011055847.1)
X線回折とコンピュータ断層撮影法Aeris*
US7542547B2
JP5280057B2
CN101256160B
EP1947448B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602007031351.1)
X線散乱法用X回折装置
Aeris*
EP1287342B1 (GB, FR, DE60147121.0)X線回折装置Aeris*
US7477724B2
EP1703276B1 (GB, FR, NL, DE602005033962.0)
X線装置Aeris*
US7194067B2
X線光学システムAeris*
US8437451B2
JP5999901B2
CN102610290B
EP2477191B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602011035906.1)
X線シャッターの配置Aeris
US9911569B2
JP2016131150A
CN105810541B
EP3043371B1 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
X線管アノード配置
Aeris*

* オプション/製品の標準ではありません