カスタマイズ可能なオンライン・インライン粒度分布測定機インシテック スプレーは、バッチ式または連続のスプレー工程で完全自動化のリアルタイム粒度分布測定を可能にします。 既存の設備に容易に組み込むことができるため、風洞および大気チャンバ内の状態のモニタリング、エアロゾルおよびパーソナルケア製品の特性評価、スプレー乾燥および造粒のようなプロセスのモニタリングと制御などのアプリケーションに使用することができます。

  • 特定の製造仕様を満たすようにGAMP5基準に準拠。また、CIP/SIPに対応
  • オペレーターの介在を不要とした、使いやすいソフトウェアと完全自動化運転
  • 既存のプラント制御システムとの統合が容易
  • 95% 以上の高い信頼性、メンテナンスに要するダウンタイムは最低限。高い費用対効果
  • 可変経路長セルにより、特定のアプリケーションの要件に合わせてカスタマイズし、既存の装置との統合を効率化できる柔軟性

インシテックの設置は、 アプリケーションの独自の要件に合わせて行われます。 インシテックは、連続モニタリングやアットライン(マニュアルサンプリング測定)から完全自動制御システムまで対応が可能です。 Malvern Panalyticalはお客様のご要望にあったシステム構築に対応できるよう、ハードウェアからソフトウェアまでご提供可能です。 費用対効果を見込めるプロジェクトをご提案させていただきます。

正確なオンライン・ インライン粒度分布測定を行うためには、重要な条件があります。

  • プロセスインターフェース
  • 測定の信頼性
  • データ説明と使用

インシテックは製造プロセスに取り付ける機器で、 プラント内でご利用いただく装置です。 装置とプラントの間のインターフェースを正しく設定することは、長期間トラブルのない運転のために不可欠です。

Malvern Panalyticalには、様々なスプレーの粒度測定に関して実績のあるインシテック技術があります。 アットライン用粒度分布測定機のインシテックスプレーは、プロセスの側で可動し手動のインターフェイスが装備されます。 自動連続運転を行うために、インシテックはプロセスライン内やサンプリング箇所に設置されます。 また、インシテックには最小限の設置作業ですむディテクタをスプレーまたはエアロゾルの周りに設置したりするフレキシブルなオプションもあります。 パイロットプラントや可動済みのプロセスにも取り込むことが可能です。 巧みに設計されたインラインインターフェイスにより、信頼性の高い測定を行えるようにして、プロセスへの影響を最小限に抑えます。

インシテックは、 粒子径を迅速に測定するためにレーザ回折の技術を採用しています。 スプレーシステムと連携することで、1 秒以内に粒度を測定し、瞬間的なモニタリングが可能となります。 スプレー パターンに微細な一時的変動があっても、効率的に追跡できます。

インシテック スプレーは、スプレーまたはエアロゾルを直接測定します。 そのような場合、高濃度の粒子を含む場合があるため、正確な粒度を測定できない場合がありました。 しかし、すべてのインシテックに搭載されている特許取得の多重散乱アルゴリズムにより、粒子の光散乱に影響を与える濃度の影響を数学的に補正します。 測定値はサンプル濃度に依存しなくなります。 それにより、高濃度のスプレーやエアロゾルに対しても信頼性の高い粒度分布を提供することができます。

インシテックは、信頼性が高く、タイムリーで完全な粒度分布を報告します。 そのため、プロセスを制御するための重要な情報を提供します。

データ説明と使用
インシテックシステムは、プロセスプラント内に組み込まれます。 そしてインシテックは中央管理室から操作され、測定結果が日々のプラントコントロールの決定の要素となります。 強力なソフトウェア パッケージによって、一体化とデータ解釈を簡単にします。

Malvern Link IIソフトウェアは、お客様がお使いの既存の制御システム内でインシテックを統合し、プロセス制御を自動化するためのソフトウェアです。 Malvern Link IIソフトウェアにより、専用PCまたは制御パネルからオンライン・インライン粒度分布測定機の操作が可能です。 特に重要な点としては、Malvern Link IIはインシテックのインテグレートだけでなく、 他の種類の装置との一体化も容易にして、多変数制御も行えます。

マルバーンのRTSizerソフトウェアは、明確で利用しやすい方法で測定データを提供します。 タイムヒストリーにより、動的なスプレーの挙動を監視が可能です。 お客様のご要望に合うように、測定結果のレポートをカスタマイズすることが可能です。 インシテックの測定データは以下の場合にご利用いただけます。

  • プロセス状況の理解をより向上する場合
  • 異常値の即時検出の実現
  • 包括的なプロセス最適化のサポート
  • 自動プロセス制御

粒度分布測定が可能なため、どのようなサイズの粒子径もモニタリングが可能です。 最適化されているプロセスの手動制御方法をさらにインシテックは促進し、プロセス制御の完全自動化を可能にします。それにより、費用対効果も見込まれます。

システム

測定タイプ:
粒子サイズ
測定範囲:
0.1 ~ 2500 µm
測定原理:
レーザ回折法
光学モデル:
Mie 理論
精度:
±2%(検証レチクルによるDv50)

一般

電源:
100/240V
筐体等級:
IP65
動作プラットフォーム:
10 bar(g)
ソフトウェア:
RTSizer (装置制御用) Malvern Link II (システム自動化およびデータリンク用)
機器と PC の最大距離:
500m(光ケーブルを使用した場合、最大 2km)

使用環境

温度:
10 ~ 70℃
湿度:
35 ~ 80%(結露なし)