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X'Pert³ MRD XL

長い歴史と高い評価を誇るMalvern Panalyticalの薄膜単結晶解析X線回折装置(MRD)は、X’Pert³ MRD XL世代でも採用されています。 新しいプラットフォームの向上したパフォーマンスと信頼性により、X線散乱法の分析能力と機能を強化し、次の分野に対応しています。

• 最先端材料物性
• 研究ならびに工業用薄膜技術
• 半導体プロセス開発での計量特性評価

X'Pert³ MRD XLは、半導体、薄膜、および最先端材料の各分野で要求されるすべての高分解能XRD分析能力に応える製品です。 最大200mmまでの完全なウェハーマッピングが可能 X’Pert3バージョンは、最長の耐用期間を誇る入射光コンポーネント(CRISP)を搭載し、空圧式シャッターとビーム減衰器により最大稼働時間を達成しています。 

洗練された自動ウェハー装填オプションにより最大300 mm径のウェハー分析が可能なX'Pert³ MRD XLは、多層薄膜構造の品質管理に対応した高度なツールとして機能します。

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アクセサリ

検出器

PIXcel3D

0D-1D-2Dおよび3Dデータを回析計に取り込む最初の検出器

PIXcel3Dは、独自の2D固体ハイブリッドピクセル検出器です。 各ピクセルは、55 ミクロン x 55 ミクロンで、検出器アレイは256 x 256 ピクセルです。 現在、Medipix3テクノロジーに基づく検出器は、1ピクセルの点像分布関数と、複数のエネルギー識別レベルにより、卓越した信号をノイズにもたらします。

General

X’Pert³ MRD XLクリーンルームパッケージ

測定環境が増えても、追加投資は最小限に抑えられます

X'Pert3 MRD XLクリーンルームパッケージは、ファンフィルターユニットなど、既存の機器に後付けしたり、新しい機器に追加したりできる、MRD XL用のスマートソリューションで構成されています。

MRD XLクリーンルームパッケージは、半導体ウェーハサンプルの周囲の空気をフィルタリングして、分析時の汚染を防止します。これにより、新しい機器に投資することなく、幅広い環境で測定することができます。

X'Pert³ MRD XL Automation

複雑な積層計測用完全自動化ソリューション

X'Pert3 MRD XLツールの追加ソフトウェアソリューションとして、既存システムの自動化を可能にし、SECS/GEMに準拠したホストコントロールを提供します。

これらの新機能により、MRD XLシステムは、そのモジュール性と柔軟性をホスト制御されたファブ環境で発揮することができるようになりました。これにより、汚染のない研究環境や生産環境を確保できるようになります。 

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ソリューション

お客様の装置が最高の状態を保ち、最高レベルで機能するために、
Malvern Panalyticalではさまざまなサービスを提供しています。 当社の専門知識とサポートサービスは、
装置が最適に機能するよう保証します。

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