완전 자동화 농도 제어 기능을 가진 Insitec Wet

농축된 습식 흐름을 위한 신뢰할 수 있는 연속 공정 입도 조절

농축된 습식 공정 흐름을 모니터링하기 위해 통합되고 자동화된 농도 제어를 이용한 연속 레이저 회절 입도 조절 솔루션 고체-액체 또는 액체-액체 흐름의 0.1 - 2500µm 크기를 갖는 입자를 측정하는 데 적합함.

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개요

연속 또는 배치 공정에서 입자의 습식 측정 결과를 연속해서 온라인으로 (또는 수동으로 at-line 또는 오프라인으로) 제공하기 위하여 레이저 회절 입도 조절 센서를 완전 자동으로 농도 제어하는 통합 솔루션. 시료 희석은 전처리 희석기와 연속(cascade) 희석기를 통해 근접하게 자동으로 제어에 사용되며, 이러한 옵션은 고농축 고체-액체와 액체-액체 흐름을 위해 사용됩니다.

  • 입자 축적을 피하기 위해 연마되어 균일한 표면; 세척이 간편하도록 설계된 표면.
  • 특정한 제조 규격을 충족시킬 수 있도록 GAMP5 표준과 CIP/SIP 요구 조건을 준수하도록 제조된 기본 모델 하드웨어. 검증과 21 CFR 파트 11의 옵션
  • 교육 요구 조건을 최소화하고 작업자 부담을 최소화할 수 있도록 사용하기 쉬운 소프트웨어와 완전 자동화된 작동.
  • 기존 제어 플랫폼과 통합하여 자동화된 제어 절차의 개발을 단순화.
  • 95%가 넘는 높은 신뢰도, 최소한의 유지보수 및 운전중지, 최대의 수익.
  • 유해 구역 환경에서 이용 가능한 본질 안전화 버전

작동 방법

개요
완전 자동화 농도 조절용 시료 희석 디바이스와 내구력 있는 레이저 회절 입도분석 센서로 구성된 Insitec wet system 이 시스템의 두 가지 요소는 단순 오프라인, 수동 공급형 시스템에서부터 연속 모니터링과 다변량 제어를 위한 완전 자동화 검증 온라인 솔루션에 이르는 다양한 범위의 특정 애플리케이션의 요건을 만족시키도록 맞춤 제작되었습니다.

시료 희석
정확한 레이저 회절 분석을 위해 광이 시료를 관통할 수 있어야 하며 측정하기 위한 농도를 한정할 때 절대적으로 높은 농도를 한계 농도로 지정합니다. 레이저 광이 검출 이전에 2개 이상의 입자와 상호 작용하는 다중 산란이 문제가 될 수 있습니다. 따라서 시료 희석은 더 농축된 액체-액체 또는 고체-액체 흐름의 분석에 중요한 요소입니다.

이 시스템에서, 전처리 희석기와 연속 희석기가 동시에 작동하여 희석충격을 피할 수 있으며 대표성을 확보할 수 있는 최적의 레벨까지 시료의 농도를 감소시킵니다. 희석 충격은 농도를 너무 급격하게 감소시켜 시료가 비가역적으로 변형되는 것입니다.

공압 작동기와 전기 제어 솔레노이드를 가진 중간 차단(cross-cut) 시료 채취 밸브(시료 차단은 0.98, 1.4, 1.9, 2.5cc 중에서 선택)를 이용하면 온라인 애플리케이션에서 공정 흐름 중 대표성을 가진 시료를 채취할 수 있습니다. 시료 루프를 통과하는 흐름이 연속적이기 때문에 시스템의 잠재적 시차를 없애며 막힘(blockage)의 가능성이 감소합니다. 모든 액체 이송 부분은 316SS와 PTFE로 되어 있습니다.

At-line 애플리케이션과 오프라인 애플리케이션에서 시료가 희석 시스템에 수동으로 유입됩니다.

전처리 희석기는 공압 교반기와 희석 정도를 제어하기 위한 레벨 센서를 구비한 유리 챔버입니다. 연속 희석기는 희석률이 희석 단계의 수와 내부 흐름 노즐의 치수에 의해 제어되는 동축 벤투리관(coaxial venturi)을 바탕으로 한 희석액 주입형의 특허받은 디자인 장치입니다. 전처리 희석기와 연속 희석기는 최소의 이동으로 자동 세척 기능이 있는 완전 자동화된 장치입니다.

희석 시스템의 설계는 측정에 적합한 농도를 달성함과 동시에 희석액 이용을 최소화하도록 최적화되었습니다. 사용된 희석액은 보통 물이며 낭비를 최소화하기 위해 공정 내에서 재사용하는 것이 바람직합니다.

시료 측정
모든 Insitec 시스템은 레이저 회절 기술을 사용하여 입자 크리를 빠르게 측정하며, 다중 산란 보정 알고리즘을 사용하여 최대한의 농도범위에서 측정이 가능합니다. 이러한 알고리즘은 시료 희석 요건을 최소한으로 줄이고 모든 측정이 시료 농도에 확실히 독립적이라는 것을 보장하는 다중 산란의 농도 의존 효과를 수학적으로 보정합니다.

이러한 완전 자동화 솔루션에서 예컨대 안전한 운전을 위한 옵션이 있는 애플리케이션 요건을 만족시키는 센서가 선택됩니다. 모든 센서는 1초도 안되는 시간 동안 완전한 입도 분포를 측정할 수 있습니다. 희석 하드웨어와 함께 작동하는 센서는 신뢰할 수 있고 안정적이며, 완전한 데이터를 산출하여 전체 입도 분포를 보고합니다. 이러한 데이터는 제어가 매뉴얼이건 자동이건 공정을 더 잘 제어할 수 있는 확실한 근거를 제공합니다.

데이타 제공과 사용
Insitec 시스템은 공장의 공정과 연계되어 사용됩니다. 일반적으로 중앙 제어실에서 운용하며 측정 결과는 일상적인 의사 결정에 사용됩니다. 강력한 소프트웨어 패키지로 통합과 데이터 해석을 직관적으로 할 수 있습니다.

Malvern Link II 소프트웨어는 Insitec을 기존 제어 시스템에 통합하고 공정 제어를 자동화하는 데 필요한 기능을 제공합니다. Malvern Link II 소프트웨어는 모든 희석 하드웨어를 포함하여 분석기를 전용 PC 또는 기존의 제어기에서 작동시킬 수 있습니다. 가장 중요한 점은 Malvern Link II가 Insitec 통합에만 국한되지 않는다는 것입니다. 이 소프트웨어는 다른 유형의 계측기와의 통합도 쉽게 만들어 다변량 제어를 단순화합니다.

RTSizer 소프트웨어는 명확하고 이용 가능한 방법으로 측정 데이터를 제시합니다. 결과 보고서는 산업과 고객의 기준에 맞게 맞춤화해서 정보 흐름을 개선할 수 있습니다. Insitec 데이터는 다음과 같은 용도에 사용합니다.

  • 공정에 대한 이해를 높입니다.
  • 문제를 즉시 탐지합니다.
  • 종합적인 공정 최적화를 지원합니다.
  • 공정 제어를 자동화합니다.

완전한 입자 크기 분포가 보고되기 때문에 감시와 제어의 기준을 예를 들어 3-30µm의 미분 함량, 200µm입자의 함량과 같이 관심있는 어떠한 크기 범위로도 설정할 수 있습니다. Insitec 데이터는 최적화된 매뉴얼 제어 전략을 지원하고 공정 제어의 완전 자동화를 보장해 실질적인 경제적 이득을 실현합니다. 

사양

시스템

측정 유형 입자 크기
측정 범위 0.1 - 2500µm
측정 원리 레이저 회절
광학 모델 Mie 이론
정확도 ±2% - Dv(50)에서 검증선을 사용

일반

전원 100/240V
외함 등급(Enclosure rating) IP65
작동 플랫폼 10bar(g)
소프트웨어 RTSizer (장비 컨트롤용) Malvern Link II (시스템 자동화 및 데이타 링크용)
장비에서 PC까지 최대 거리 500m(광섬유를 사용했을 때 최대 2km)

사용 환경

온도 10°C – 70°C
습도 35% - 80% (비응축)