X'Pert³ is now a Smart Instrument!. Find out more
Find out more
Malvern Panalytical MRD(Materials Research Diffractometer)의 긴 성공 역사가 X’Pert³ MRD XL의 세대에서 계속됩니다. 성능과 신뢰성이 개선된 새 플랫폼에서는 다음과 같은 분야의 X선 산란 연구에 더 많은 분석 기능과 동력을 제공합니다.
• 신소재 과학
• 과학 및 산업용 박막 기술
• 반도체 공정의 도량형 특성 연구 개발
X’Pert³ MRD XL에서는 200mm까지 전체 웨이퍼를 매핑하므로 광범위한 분야에 적용할 수 있습니다.
X'Pert³ MRD 시스템은 연구에서 공정 개발, 공정 제어에 활용할 수 있는 혁신적인 고급 X선 회절 솔루션입니다. 모든 시스템 필드를 모든 기존 옵션과 향후 새롭게 개발되는 하드웨어 및 소프트웨어로 업그레이드할 수 있는 기술을 사용했습니다.
X'Pert³ Extended MRD(XL)를 통해 X'Pert³ MRD 시스템 시리즈의 융통성이 증가합니다. PreFIX 장착 플랫폼을 추가하면 X선 거울과 고분해능 단색광 분광기를 직렬로 장착하여 입사 빔이 강도를 대폭 늘릴 수 있습니다.
데이터 품질 손상 없이 증가하는 적용 융통성, 고강도의 고분해능 X선 회절, 역격자 공간 매핑과 같은 측정의 측정 시간 단축 및 PreFIX 개념에 따라 몇 분 만에 표준 구성을 확장 구성으로 재구축 등의 이점이 제공됩니다. 2세대 PreFIX는 쉽게 재구성할 수 있으며 광학 장치 위치를 이전보다 더 정확하게 조정할 수 있습니다.
평면 회절용 X'Pert PRO MRD(XL) 시스템을 사용하면 샘플 표면에 수직인 격자면으로부터의 회절을 측정할 수 있습니다.
단일 시스템에서의 일반적인 분석은 물론 in-plan 분석 할 수 있다는 점, 그리고 다결정 분석과 박막 분석을 할 수 있다는 점은 이 시스템의 여러 가지 장점 중 일부에 불과합니다.
| 케이스 | 측각기(Goniometer) | X선 소스 검출기들/스테이지들 |
|---|---|---|
| 크기: 1370(w) x 1131(d) x 1972(h)mm | 수평 측각기 | Malvern Panalytical 특수 제조 공장의 청정실에서 제조되는 완전 세라믹 X선관 |
| 무게: 1150kg | 반경: 420mm | 선형빔과 포인트빔간 초점 변경 시 도구 불필요 |
| -40°< 2θ <160°의 최대 사용 범위(부속품에 따라 다름) | 모든 전류 규격과 출시 예정 X선관을 지원하는 3kW 발전기 | |
| 모든 유형의 양극으로 전 세계의 전자, 기계 및 X선 안전 관련 규정 충족 | 정밀하게 정렬된 Heidenhain 인코더를 사용하여 전체 수명 기간 동안 측각기의 정확도를 보장하는 직접 광학 인코딩 시스템 | 시중에서 가장 작은 픽셀 크기(55 x 55µm2)의 하이브리드 픽셀 검출기 |
| 시스템에 바퀴가 있어 간편한 설치 및 이동 가능 | 긴 거리 정확도: ±0.0025° | 200 x 200mm2 x y 평행 이동의 5축 크래들 |
| 단거리(0.5°) 정확도: ±0.0004° | 카이(Chi) 회전: ±92° | |
| 각도 재현성: < 0.0002° | 파이(Phi) 회전: 2 x 360° | |
| 최소 각도 분해능: 0.0001° |
PIXcel3D는 고유한 2D 고체상 하이브리드 픽셀 검출기입니다. 각 픽셀은 55미크론 x 55미크론이고 검출기 어레이는 256 x 256픽셀입니다. 현재 Medipix3 기술을 기반으로 하는 이 검출기는 1픽셀, 멀티 에너지 구분 수준의 점상 분포 함수를 통해 높은 신호 대 잡음비를 제공합니다.
X'Pert3 MRD XL 클린룸 패키지는 팬 필터 장치를 포함한 스마트 솔루션으로 구성되어 있으며, 기존 기기에 맞춰 개량하거나 새 기기와 함께 제공될 수 있는 MRD XL용 솔루션입니다.
MRD XL 클린룸 패키지는 반도체 웨이퍼 샘플 주변의 공기를 필터링하여 웨이퍼 분석 시 오염을 방지할 수 있도록 도와줍니다. 따라서, 새로운 기기에 투자하지 않고도 광범위한 환경에서 측정할 수 있습니다.
X'Pert3 MRD XL 도구의 추가 소프트웨어 솔루션인 Automation은 기존 기기에 통합되어 SECS/GEM에 적합한 호스트 제어 기능을 제공합니다.
이제 이러한 새로운 기능을 통해 MRD XL 시스템은 호스트로 제어되는 Fab 환경에서 모듈성과 유연성을 발휘할 수 있습니다. 이를 통해 오염이 없는 연구 또는 생산 환경을 보장할 수 있습니다.
장비가 최상의 상태로 유지되고 최고 수준으로 작동하게 하도록
Malvern Panalytical은 다양한 서비스를 제공하고 있습니다. 전문 기술과
지원 서비스를 통해 장비가 최적의 기능을 할 수 있도록 보장합니다.
평생 서비스
•전화 및 원격 지원
• 예방적 유지보수 및 점검
• 유연한 고객 관리 계약
• 성능 인증서
• 하드웨어 및 소프트웨어 업그레이드
• 지역 및 글로벌 지원
공정에 가치 추가
• 샘플 준비 개발/최적화
• 분석 방법론
• XRD를 위한 턴키 솔루션
• IQ/OQ/PQ, 품질 보증(GLP, ISO17025) 또는 순차순환/연구실 간 연구를 통한 운영
• 연구실 공정 자동화
• 자문 서비스
• 현장 또는 당사 교육 센터에서 교육
• 제품, 응용 분야 및 소프트웨어에 대한 다양한 기본 및 고급 과정
• 전문가(XRF) 분석 서비스
• 산화물 및 미량 분석
• 맞춤형 교정 물질
Malvern Panalytical X’Pert³ MRD 및 MRD XL은 다음과 같은 다양한 산업 응용 분야에 사용할 수 있는 올인원 X선 솔루션 시스템입니다.
반도체 및 단결정 웨이퍼
성장 연구 또는 장치 설계 등, 고분해능 XRD를 사용한 레이어 품질, 두께, 변형 및 합금 조성의 측정은 전자 및 광전자 멀티레이어 반도체 장치 연구 및 개발의 핵심입니다. X선 거울, 단색광 및 검출기 등으로 X’Pert3 MRD 및 MRD XL은 완화된 버퍼층을 통한 격자 정합 반도체부터 비표준 기판의 새로운 이종 층에 이르기까지 다양한 물질 시스템에 적합한 고해상도 구성을 제공합니다.
다결정 고체 및 박막
다결정 층과 코팅은 많은 박막 및 다층 장치의 중요한 구성 요소입니다. 증착 중 다결정 층 형태학의 발전은 기능 재료 연구 및 개발의 주요 연구 영역입니다. X’Pert3 MRD 및 X’Pert3 MRD XL는 다양한 슬릿, 평행 빔 X선 거울, 폴리카필러리 렌즈, 크로스 슬릿 및 모노카필러리를 모두 갖추고 있어 반사측정, 응력, 텍스처 및 상 식별을 위한 입사 빔 광학을 완벽하게 선택할 수 있습니다.
초박막, 나노물질 및 비정질 층
기능성 장치는 무질서한 비정질 또는 나노복합체 박막을 포함할 수 있습니다. X’Pert3 MRD 및 MRD XL 시스템의 유연성을 통해 여러 분석 방법을 통합할 수 있습니다. 다양한 고분해능 광학, 슬릿 및 평행 플레이트 시준기를 사용하여 그레이징 입사 방법, 평면 회절 및 반사측정에서 최적의 성능을 얻을 수 있습니다.
비대기 조건에서 측정
다양한 조건에서 물질의 거동을 연구하는 것은 재료 연구 및 공정 개발의 필수적인 부분입니다. X’Pert3 MRD 및 MRD XL은 Anton Paar의 DHS1100 비대기 샘플 스테이지를 쉽게 결합하도록 설계되었으며, 다양한 온도와 불활성 대기 상태에서 자동화된 측정을 가능하게 합니다.
