Приборы для исследования тонких пленок, основанные на методах рентгеновского измерения XRD, XRR и XRF, обеспечивают быстрое выполнение неразрушающего анализа Они доказали высокую эффективность при автономном (ex-situ) исследовании критически важных параметров тонких слоев, гетероструктур и систем со сверхрешеткой, в том числе в нанодиапазоне. Полученная информация позволяет оптимизировать качество пленки, повысить эффективность производства и снизить расходы. Компания Malvern Panalytical предлагает аналитические решения для контроля разработки и производства различных многослойных микро- и оптоэлектронных устройств.