Рентгенофлуоресцентная спектрометрия (XRF) представляет собой метод анализа химического состава широкого диапазона образцов, в том числе твердых и жидких веществ, суспензий и сыпучих порошков. Рентгенофлуоресцентная спектрометрия (XRF) также применяется для определения толщины и состава слоев и покрытий. Возможен анализ элементов от бериллия (Be) до урана (U) в концентрациях от 100% по массе до очень низких концентраций.

Рентгенофлуоресцентная спектрометрия - это надежный метод, который сочетает высокую точность и достоверность результатов с простой и быстрой процедурой подготовки образцов. Ее можно легко автоматизировать для использования в высокопроизводительных промышленных системах; кроме того, XRF позволяет получать одновременно качественную и количественную информацию об образце. Простое сочетание ответов на вопросы «что?» и «сколько?» позволяет проводить быстрый классификационный (полуколичественный) анализ.

Рентгенофлуоресцентная спектрометрия представляет собой метод атомной эмиссии, который аналогичен оптикоэмиссионной спектрометрии (OES), спектроскопии с индуктивно связанной плазмой (ICP) и методу импульсной быстрой активации тепловыми нейтронами (гамма-спектроскопия). В таких методах выполняется измерение длины волны и интенсивности «излучения» (в данном случае рентгеновских лучей), испускаемого возбужденными атомами образца. В рентгенофлуоресцентной спектрометрии облучение первичным рентгеновским лучом из рентгеновской трубки вызывает излучение флуоресцентных рентгеновских лучей с дискретными энергиями, характерными для элементов, присутствующих в образце.

Технология, используемая для разделения (дисперсии), идентификации и измерения интенсивности спектра рентгеновской флуоресценции образца, позволяет выделять два основных типа спектрометров: дисперсионные системы обнаружения по длинам волн (WDXRF) и энергодисперсионные (EDXRF) системы.

Zetium

Серия Epsilon

Axios FAST

2830 ZT

Zetium

Элементное превосходство

Серия Epsilon

Axios FAST

Высокая производительность

2830 ZT

Передовое решение для анализа тонких пленок полупроводников

Подробнее Подробнее Подробнее Подробнее
Анализируемые свойства
Исследования тонких пленок
Elemental analysis
Contaminant detection and analysis
Elemental quantification
Химический состав
Технология
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)
Диапазон элементов Be-U Na-Am, C-Am Be-U Be-U
LLD 0.1 ppm - 100% 1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
Разрешение (Mg-Ka) 35eV 145eV 35eV 35eV
Скорость обработки образца 160per 8h day - 240per 8h day 240per 8h day - 480per 8h day up to 25 wafers per hour