碾磨和研磨

高效的研磨监控。

针对研磨应用,监测关键工艺参数得到的信息,可以:

  • 始终满足严格制定的产品规格。
  • 减少浪费。
  • 优化能耗。
  • 提升产量。
  • 立刻发现工艺异常。

研磨通常需要减少粒度,以满足限定产品性能的规格。 然而,研磨工艺的能源密集型特性使其必须消除粒度过度减少。 对于许多工艺而言,基于实时粒度测量的自动化研磨控制是降低能耗、增加产量的有效方法。 即时性异常检查通过降低意外停机的可能性节约了生产投入,在高产量应用中更是如此。

研磨工艺的跨度从克到100吨/小时不等,同时需要从头至尾对粒度进行追踪,因此粒度范围也相对较宽。 在马尔文帕纳科Insitec传感器周围建立的工艺接口经证实能够为任何应用提供优化解决方案, 包括用于大吨位粗研磨的双级系统到用于低流量系统量的简单喷射器。 自动化选项则从简单的数据呈现到一体化多元自动控制功能一应俱全。

通过与研磨技术提供商及客户的合作,马尔文帕纳科提供的分析方法,可以低成本确保合格的产品质量。

Insitec 系列

Insitec 系列

稳健可靠的实时粒径测量

Mastersizer 系列

Mastersizer 系列

世界上最受歡迎的粒徑分析儀

Parsum 系列

Parsum 系列

线内探头使用空间滤波测速技术进行粒度测量

Zetasizer 系列

Zetasizer 系列

世界上最廣泛應用的奈米粒子、膠體及生物分子顆粒尺寸與電荷的測量系統

技術類型
激光衍射
空間濾波測速
光散射
電泳光散射
靜態光散射
動態光散射