Cualquier propiedad macroscópica de un material está directamente relacionada con su propiedad estructural (p. ej., simetría cristalográfica, tamaño de cristalito, vacantes, tamaño y forma de nanopartículas o poros). La temperatura, la presión, la variación de la atmósfera de gas y la transformación de fase de activación de tensión mecánica, las reacciones químicas, la recristalización, etc.
Las técnicas de dispersión de rayos X (XRD) y dispersión de rayos X son la primera y, a veces, la única opción para la caracterización in situ correcta y exacta de estos cambios. Ya sea para la optimización de un proceso de fabricación o el ajuste de un procedimiento de síntesis, o para la investigación y creación de nuevos materiales de vanguardia, el análisis de rayos X in situ es la herramienta más completa para la resolución de problemas.
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Para XRD de polvo en la geometría de reflexión con calentamiento rápido a 1600 °C.
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HTK 1200N: calentador de horno Para XRD de polvo en geometría de transmisión y reflexión, análisis de tensión mecánica básica, SAXS, PDF y película delgada a temperaturas de hasta 1200 °C.
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HTK 2000N: calentador de banda Para XRD de polvo en la geometría de reflexión con calentamiento rápido a 2000 °C. |
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TTK 600: cámara de baja temperatura Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión y transmisión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de -190 °C a +600 °C.
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CHC plus+: cámara de refrigeración y humedad Para la XRD de polvo en reflexión, la tensión mecánica básica y el análisis de película delgada con temperatura y humedad controladas.
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MHC-trans: cámara de humedad de varias muestras Para XRD de polvo en mediciones de transmisión y SAXS básicas con condiciones controladas de temperatura y humedad.
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PheniX: Criostato de baja temperatura Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de -261 °C (12 °K) a +25 °C (298 °K).
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Para XRD de polvo, SAXS básico y PDF en la geometría capilar en el rango de temperatura de -193 °C (80 °K) a 227 °C (500 °K).
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Chimera: cámara de enfriamiento y calentador Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de -203 °C (70 °K) a 252 °C (525 °K). |
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HPC 900: cámara de alta presión Para la XRD de polvo en el análisis de reflexión, tensión mecánica básica y película delgada en el rango de temperatura de 900 °C y presión hasta 100 bar.
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Para la XRD del polvo en reflexión, el estrés básico y el análisis de película delgada a temperaturas de hasta 900 °C y presiones de hasta 10 bar con varios gases.
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DCS 500: etapa de enfriamiento abovedada Para el análisis avanzado de películas delgadas y mediciones de tensión mecánica a temperaturas de -180 °C a 500 °C. |
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DHS 1100: etapa caliente abovedada Para el análisis avanzado de película delgada, tensión mecánica, textura y la XRD de polvo básico en reflexión a temperaturas de hasta 1100 °C.
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BTS 150/500: etapas de calentamiento de laboratorio Las etapas de calentamiento en la mesa de Anton Paar BTS 150 y BTS 500, una solución de bajo costo para XRD in situ (de -10 °C a +500 °C). |
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