Propriedade intelectual

Nossos direitos autorais, marcas comerciais e patentes

Somos os proprietários ou os licenciados de todos os direitos de propriedade intelectual em nosso site e no material publicado nele.  Esses trabalhos são protegidos por leis e tratados de direitos autorais no mundo todo.  Todos esses direitos são reservados.

Você pode imprimir uma cópia e baixar trechos de quaisquer páginas de nosso site para uso pessoal e pode chamar a atenção de outros em sua organização para o teor publicado em nosso site.  

Você não tem permissão para modificar cópias impressas ou digitais de quaisquer materiais impressos ou baixados, e não poderá usar nenhuma ilustração, fotografia, sequências de vídeo, áudio ou gráfico separadamente de qualquer texto que o acompanha.

Nosso status (e o de qualquer contribuinte identificado) como os autores do teor em nosso site devem sempre ser reconhecidos.

O uso comercial de qualquer parte do teor em nosso site não é permitido sem nossa respectiva licença ou de nossos licenciadores.

Se você imprimir, copiar ou baixar qualquer parte de nosso site de maneira que viole estes termos de uso, seu direito de usar nosso site será interrompido imediatamente e você deverá, a nosso critério, devolver ou destruir quaisquer cópias feitas dos materiais.

Marcas registradas

Marca ComercialStatus
AERIS®
AERIS PANALYTICAL®
(ASD Inc) logo®
Archimedes®
AXIOS®
Bohlin
CHI-BLUE®
Claisse®
CUBIX®
CUBIX3 (superindexar o 3)®
dCore
EAGON®
Eagon 2®
EASY SAXS®
EMPYREAN®
EPSILON®
EPSILON X-FLOW®
EXPERT SAXS®
EASY SAXS®
FieldSpec®
FIPA®
FLUOR’X®
GALIPIX 3D®
Gemini
goLab
HandHeld 2
HIGHSCORE®
Hydrosight
iCore
(Logotipo i)®
Indico Pro
Insitec®
(Logotipo Insitec)®
(Logotipo da Insitec Measurement Systems)®
ISys®
LabSizer
LabSpec®
LeNeo®
LeDoser
LeDoser-12
M3 PALS
M4
MADLS®
Malvern®
(Logotipo de colinas triangulares + Instrumentos Malvern)®
Malvern in Chinese characters®
Malvern Instruments®
Malvern Instruments in Chinese characters®
Malvern Link
(Logotipo Malvern Plus Hills)®
Mastersizer®
Mastersizer 2000
MC (estilizado)®
MDRS®
Microcal®
Morphologi®
(Logotipo de colinas triangulares)®
Nanosight®
NIBS
OIL-TRACE®
OMNIAN®
OMNISEC®
PANALYTICAL®
PANALYTICAL LOGO (imagem)®
PANTOS®
PEAQ-ITC®
PIXCEL®
PIXCEL 1D®
PIXCEL 3D®
QualitySpec®
(Logotipo r)®
(Logotipo da Realogica)®
Spraytec
SST®
SST-MAX®
SUPER SHARP TUBE®
STRATOS®
SUPER Q®
SyNIRgi®
TerraSpec®
TheOx® Advanced®
Ultrasizer®
VENUS MINILAB®
ViewSpec
Viscogel®
Viscotek®
X’CELERATOR®
XPERT3 (superindexar o 3)®
Zetasizer®
ZETIUM®
ZS Helix®

Patentes

A Malvern Panalytical tem uma variedade de produtos exclusivos, líderes de mercado, protegidos pelas seguintes aplicações de patentes e patentes:

Mastersizer

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
EP1167946B1 (GB, FR, DE60135521D1)Sistema de trocador de amostrasHydro MV, Hydro LV, Hydro EV
GB2364774B
US6800251B2
Sistema de trocador de amostras para uso em um aparelho de caraterização de partículasHydro MV, Hydro LV
GB2494735BAparelho para medir a distribuição do tamanho das partículas por espalhamento de luzMS3000, MS3000E
CN104067105B
EP2756283B1 (GB, FR, DE602012015707.0)
US9869625B2
JP6154812B
Aparelho e método para medir a distribuição do tamanho das partículas por espalhamento de luzMS3000, MS3000E
US10837889B2
GB2494734B
Aparelho e método para medir a distribuição do tamanho das partículas por espalhamento de luzMS3000, MS3000E

Zetasizer

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US7217350B2
Mobilidade e efeitos decorrentes da carga da superfícieLinha Zetasizer Advance, Nano ZS, Nano Z, Nano ZS90, Nano ZSP, Helix
EP2467701A1
CN102575984B
US9279765B2
JP5669843B2
US10317339B2
US20200096443A1
Microrreologia de fluidos complexos baseada em espalhamento dinâmico de luz com detecção de modo de espalhamento único aprimoradoLinha Zetasizer Advance, Nano ZSP, Helix
CN103608671B
CN105891304B
EP2721399B1 (BE, CH+LI, DK, FR, GB, NL, DE602012031338.2, IT502017000050268)
JP06023184B2
US9829525B2
US10274528B2
US20200072888A1
Medição de carga de superfícieAcessório de célula de placa zeta
US8702942B2
CN103339500B
EP2652490B1 (GB, FR, DE602011046775.1)
JP06006231B2
JP06453285B2
US10648945B2
Eletroforese Doppler a laser que utiliza uma barreira de difusãoLinha Zetasizer Advance, Nano ZS, Nano S, Nano ZS90, S90, Nano ZSP
EP2742337B1 (GB, FR, DE602012018122.2)
US9816922B2
Caracterização de modo duplo de partículasZetasizer Helix
US10197485B2
US10520412B2
US10845287B2
EP3353527A1
JP2018535429A
CN108291861A
Caracterização de partículasLinha Zetasizer Advance
US10119910B2Instrumento de caracterização de partículasZetasizer Advance: Ultra e Pro
US8675197B2
JP6059872B2
EP2404157B1
Caracterização de partículasAcessório Zetasizer Advance
EP3521806A1
US20210063295A1
CN111684261A
WO2019154882A1
Espalhamento de luz dinâmico multi-ânguloZetasizer Advance: Ultra

Insitec

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US7418881B2
EP1592957B1 (GB)
Sistema e método de diluiçãoInsitec (alguns produtos)
US7871194B2
EP1869429A2
Sistema e método de diluiçãoInsitec (alguns produtos)
EP2640499B1 (GB)Método de mistura em pó e dispersor em linhaInsitec dry

Morphologi

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
EP2106536B1 (GB, FR, DE602008039489.1)
US8111395B2
US8564774B2
Investigação espectrométrica da heterogeneidadeMorphologi G3-ID
GB2522735B
JP6560849B2
Método e aparelho para dispersão de póMorphologi G3-ID, Morphologi G3

Viscosizer

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US2018067901A1
JP2018511129A
EP3274864A1
CN107430593A
Parametrização do modelo de vários componentesViscosizer TD

Hydro Sight

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US8456633B2Monitoramento do processo espectrométricoHydro Sight
CN104704343B
EP2864760A2
US10509976B2
Caracterização de amostra de fluido heterogêneoHydro Sight

NanoSight

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US7751053B2
JP04002577B2
EP1499871B1 (FR, DE60335872.1)
GB2388189B
US7399600B2
Detecção óptica para análise de partículasNanoSight NS300
NanoSight NS500
NanoSight LM10
EP3071944B1 (GB, FR, DE602014059002.0)
US9909970B2
JP6505101B2
CN105765364A
Melhorias na ou relacionadas à calibração de instrumentosNanoSight NS300

MicroCal ITC

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
CN101855541B
EP2208057A1
JP05542678B2
US8449175C1
US8827549C1
Aparelho de microcalorímetro de titulação isotérmica e método de usoLinha MicroCal ITC
CN102232184B
EP2352993B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009044685.1)
JP5476394B2
US9103782B2
US9404876B2
US10036715B2
US10254239B2
EP3144666B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009059932.1)
US20200025698A1
EP3647776A1
Aparelho de microcalorímetro automático de titulação isotérmica e método de usoLinha MicroCal ITC

MicroCal DSC

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US8635045B2
CN103221808B
EP2646811A1
IN336472
JP5925798B2
Método para descoberta automática de pico em dados calorimétricosLinha MicroCal DSC

OMNISEC

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US9759644B2
US10551291B2
Viscosímetro de ponte capilar balanceadoOMNISEC
US9612183B2
EP2619543B1 (GB, FR, DE602011011174.4)
JP05916734B2
CN103168223B
IN341558
Viscosímetro de ponte capilar modularOMNISEC

FRX apoiados no chão

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US8210000B2
JP5554163B2
CN101941789B
EP2270410B1 (GB, FR, NL, DE602009003389.1)
Amostra fundida de esferasZetium
Axios FAST
Epsilon5
US6823043B2Determinação dos parâmetros do material
Zetium*
Axios FAST*
2830 ZT (analisador de wafers)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US7949092B2
Dispositivo e método para realizar a análise de raios X
Zetium*
Axios FAST*
2830 ZT (analisador de wafers)*
Epsilon5*
SEMYOS
US6574305B2
Dispositivo e método para a inspeção da condição de uma amostraZetium*
Axios FAST*
2830 ZT (analisador de wafers)*
Epsilon5*
SEMYOS*
JP4111336B2Dispositivo para testar a amostra com raios X
Epsilon5

US7042978B2Exame de amostras de materiaisZetium*
Axios FAST*
Epsilon5
SEMYOS*
JP5782451B2
EP2510397B1 (GB, FR, NL, DE602010021859.7)
Método para fabricação de uma estrutura multicamadas com um padrão lateral para aplicação na faixa de comprimento de onda xuv, e estruturas bf e Imag fabricadas de acordo com este métodoZetium*
Axios FAST
2830 ZT (analisador de wafers)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US9658352B2
CN104833557B
JP656263B2
JP6804594B2
Método de criação de um padrãoZetium
Axios FAST
EP2787342B1 (GB, FR, NL, DE602013028642.6)
JP6360151B2
Preparação dos pellets de amostra através de pressurizaçãoZetium
Axios FAST
US10107551B2
EP2966039B1 (GB, FR, NL, DE602014024004.2)
JP6559486B2
CN105258987B
Preparação de amostras para FRX com a utilização de fluxo e cadinho de platinaZetium
Axios FAST
US9784699B2
JP6861469B2
CN105937890B
EP3064931B1 (GB, FR, NL, CH, DE)
Análise quantitativa por raios X - Correção da espessura da matrizZetium*
Axios FAST
US9739730B2
JP6706932B2
CN105938113B
EP3064933B1 (GB, FR, NL, CH, DE)
Análise quantitativa por raios X - Instrumento de trajeto óptico múltiploZetium*
Axios FAST
US9851313B2
JP6762734B2
CN105938112B 
EP3064932B1 (GB, FR, NL, CH+LI, DE602016024126.9)
Análise quantitativa por raios X - Correção da razãoZetium*
Axios FAST
JP3936912B2Recipiente de amostra com tampa flutuante para análise por raios X de líquidosZetium
Axios FAST
2830 ZT (analisador de wafers)
Epsilon5
SEMYOS
US9239305B2Suporte de amostraZetium*
Axios FAST*
Epsilon5
US7978820B2
Difração de raios X e fluorescênciaZetium
Axios FAST*
2830 ZT (analisador de wafers)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US7720192B2
JP5574575B2
CN101311708B
Aparelho de fluorescência de raios XZetium*
Axios FAST*
2830 ZT (analisador de wafers)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US7194067B2
Sistema óptico de raios XZetium
Axios FAST*
2830 ZT (analisador de wafers)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US8223923B2
JP5266310B2
CN101720491B
EP1983547B1 (GB, FR, NL, DE602008000361D1)
Fonte de raios X com cátodo de fio metálicoZetium
Axios FAST
2830 ZT (analisador de wafers)
Epsilon5
SEMYOS
US9911569B2
JP2016131150A
CN105810541B
EP3043371B2 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
Disposição do ânodo da ampola de raios X
Zetium
Axios FAST
2830 ZT (analisador de wafers)
Epsilon5
SEMYOS
US10281414B2
EP3330701B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602017006751.2)
EP3480587A1
US10393683B2
JP6767961B2
CN108132267A
Colimador cônico para medições de raios XZetium*
*· Opcional/não padrão no produto

FRX de bancada

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US8210000B2
JP5554163B2
CN101941789B
EP2270410B1 (GB, FR, NL, DE602009003389.1)
Amostra fundida de esferasSérie Epsilon 1
espectrômetros Epsilon 3X
edição Epsilon 4 Air Quality
US6823043B2Determinação dos parâmetros do material
Série Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
US7949092B2
Dispositivo e método para realizar a análise de raios X
Série Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
US6574305B2
Dispositivo e método para a inspeção da condição de uma amostraSérie Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
US7042978B2Exame de amostras de materiaisSérie Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
US9658352B2
CN104833557B 
JP6562635B2
JP6804594B2
Método de criação de um padrãoSérie Epsilon 1
espectrômetros Epsilon 3X
edição Epsilon 4 Air Quality
EP2787342B1 (GB, FR, NL, DE602013028642.6)
JP6360151B2
Preparação dos pellets de amostra através de pressurizaçãoSérie Epsilon 1
espectrômetros Epsilon 3X
edição Epsilon 4 Air Quality
US10107551B2
JP6559486B2
CN105258987B 
EP2966039B1 (GB, FR, NL, DE602014024004.2)
Preparação de amostras para FRX com a utilização de fluxo e cadinho de platinaSérie Epsilon 1
espectrômetros Epsilon 3X
edição Epsilon 4 Air Quality
US9784699B2
JP6861469B2
CN105937890B
EP3064931B1 (GB, FR, NL, CH, DE)
Análise quantitativa por raios X - Correção da espessura da matrizSérie Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
US9739730B2
JP6706932B2
CN105938113B 
EP3064933B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016056347.9)
Análise quantitativa por raios X - Instrumento de trajeto óptico múltiploSérie Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
US9851313B2
JP6762734B2
CN105938112B 
EP3064932B1 (GB, FR, NL, CH+LI, DE602016024126.9)
Análise quantitativa por raios X - Correção da razãoSérie Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
JP3936912B2Recipiente de amostra com tampa flutuante para análise por raios X de líquidosSérie Epsilon 1
espectrômetros Epsilon 3X
edição Epsilon 4 Air Quality
US9239305B2Suporte de amostraSérie Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
US9547094B2
CN104849295B
EP2908127B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602014011398.2)
JP6526983B2
Aparelho de análise por raios X
Série Epsilon 1
espectrômetros Epsilon 3X
edição Epsilon 4 Air Quality
US7978820B2
Difração de raios X e fluorescênciaSérie Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
US7194067B2
Sistema óptico de raios XSérie Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
US8223923B2
JP5266310B2
CN101720491B
EP1983547B1 (GB, FR, NL, DE602008000361D1)
Fonte de raios X com cátodo de fio metálicoSérie Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
US9911569B2
JP2016131150A
CN105810541B
EP3043371B2 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
Disposição do ânodo da ampola de raios X
Série Epsilon 1*
espectrômetros Epsilon 3X*
edição Epsilon 4 Air Quality*
* Opcional/não padrão no produto

DRX apoiados no chão

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US6815684B2
Aparelho de raios X analítico fornecido com um detector de raios X sensível à posição do estado sólidoLinha Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
CubiX³
US6823043B2Determinação dos parâmetros do material
Linha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
US6574305B2
Dispositivo e método para a inspeção da condição de uma amostraLinha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
US9506880B2
CN104251870B
EP2818851A1
JP6403452B2
Imagens por difraçãoLinha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
US7116754B2DifratômetroLinha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
US8488740B2
JP6009156B2
CN102565108B
EP2455747B1 (GB, FR, NL, DE602011022779.3)
Difratômetro
Linha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
US7858945B2
JP5254066B2
CN101521246B
EP2088451B1 (GB, FR, NL, DE602008041760.3)
Detector de imagensLinha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
EP2088625B1 (GB, FR, NL, CH + LI, DE602009040563.2)Detector de imagensLinha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
US9110003B2
CN103383363B
EP2634566B1 (GB, FR, NL, DE602012058202.2)
JP6198406B2
Microdifração
Linha Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
CubiX³
US6704390B2
Aparelho de análise por raios X fornecido com um espelho multicamadas e um colimador de saídaLinha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
US9640292B2
CN104777179B
EP2896960B1 (GB, FR, NL, DE602014012155.1)
JP6564683B2
Aparelho de raios X
Linha Empyrean
X'Pert³ Powder
CubiX³
US7756248B2
JP5145263B2
CN101545873B
EP2090883B1 (GB, FR, NL, DE602008002143D1)
Detecção de raios X na embalagem
Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
US8477904B2
JP5752434B2
CN102253065B
EP2365319B1 (GB, FR, NL, DE602011055847.1)
Difração de raios X e tomografia computadorizadaLinha Empyrean
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
US7542547B2
JP5280057B2
CN101256160B
EP1947448B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602007031351.1)
Equipamento de difração de raios X para dispersão de raios X
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
EP1287342B1 (GB, FR, DE60147121.0)Difratômetro de raios XLinha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
US7477724B2
EP1703276B1 (GB, FR, NL, DE602005033962.0)
Instrumento de raios XLinha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³
US7194067B2
Sistema óptico de raios XLinha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
US8437451B2
JP5999901B2
CN102610290B
EP2477191B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602011035906.1)
Disposição do obturador de raios XLinha Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
CubiX³
US9911569B2
JP2016131150A
CN105810541B
EP3043371B1 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
Disposição do ânodo da ampola de raios X
Linha Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³*
EP3553508A2
US20190317030A1
JP2019184609A
CN110389142A
Aparelho e método de análise por raios XEmpyrean*
US10359376B2
EP3273229A1
JP6701133B2
CN107643308A
Suporte de amostra para análise por raios XEmpyrean*
* Opcional/não padrão no produto

QualitySpec 7000

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US8164747B2
CA2667650C
EP2092296B1 (CH+LI, NL, SE, DK, DE602007045593.6)
Aparelho, sistema e método para medições espectroscópicas ópticasQualitySpec 7000

TerraSpec Halo

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US9207118B2Aparelho, sistema e método para varredura da instrumentação do espectrômetro de matriz de diodo e monocromadorTerraSpec Halo

QualitySpec Trek

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US9207118B2Aparelho, sistema e método para varredura da instrumentação do espectrômetro de matriz de diodo e monocromadorQualitySpec Trek

DRX de bancada

Números de patentesTítulo da patenteEquipamentos
US6815684B2
Aparelho de raios X analítico fornecido com um detector de raios X sensível à posição do estado sólidoAeris*
US6823043B2Determinação dos parâmetros do material
Aeris*
US9506880B2
CN104251870B
EP2818851A1
JP6403452B2
Imagens por difraçãoAeris*
US7116754B2DifratômetroAeris*
US8488740B2
JP6009156B2
CN102565108B
EP2455747B1 (GB, FR, NL, DE602011022779.3)
DifratômetroAeris*
US7858945B2
JP5254066B2
CN101521246B
EP2088451B1 (GB, FR, NL, DE602008041760.3)
Detector de imagensAeris*
EP2088625B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602009040563.2)Detector de imagensAeris*
US6704390B2
Aparelho de análise por raios X fornecido com um espelho multicamadas e um colimador de saídaAeris*
US9640292B2
JP6564572B2
CN104777179B
EP2896960B1 (GB, FR, NL, DE602014012155.1)
Aparelho de raios XAeris
US8477904B2
JP5752434B2
CN102253065B
EP2365319B1 (GB, FR, NL, DE602011055847.1)
Difração de raios X e tomografia computadorizadaAeris*
US7542547B2
JP5280057B2
CN101256160B
EP1947448B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602007031351.1)
Equipamento de difração de raios X para dispersão de raios X
Aeris*
EP1287342B1 (GB, FR, DE60147121.0)Difratômetro de raios XAeris*
US7477724B2
EP1703276B1 (GB, FR, NL, DE602005033962.0)
Instrumento de raios XAeris*
US7194067B2
Sistema óptico de raios XAeris*
US8437451B2
JP5999901B2
CN102610290B
EP2477191B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602011035906.1)
Disposição do obturador de raios XAeris
US9911569B2
JP2016131150A
CN105810541B
EP3043371B1 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
Disposição do ânodo da ampola de raios X
Aeris*

* Opcional/não padrão no produto