Wafer XRD 200 Pre-installation Manual (English)
Número da versão: 1
Visão geral
Com base na projeção azimutal, Wafer XRD 200 é uma solução ultrarrápida, de alta precisão e totalmente equipada para metrologia de wafer, com uma infinidade de opções adicionais.
O Wafer XRD 200 é o seu sistema de difração de raios X totalmente equipado e automatizado para produção e pesquisa de wafer, fornecendo alta velocidade e precisão.
Projetado para se adequar perfeitamente à sua linha de processo, ele fornece dados importantes, como orientação de cristal, reconhecimento de características geométricas, como entalhes e planos, medições de distância e outras opções, como resistividade muito mais.
Rápido e preciso: método de leitura azimutal
O método de projeção Azimutal requer apenas uma rotação de medição para reunir todos os dados necessários para determinar totalmente a orientação, entregando os resultados em 10 segundos, sem comprometer a precisão.
A amostra é girada 360°, com a fonte de raios X e o detector posicionados para atingir um determinado número de reflexões por volta.
Essas reflexões permitem que a orientação da rede cristalina seja medida em relação ao eixo de rotação com uma alta precisão de até 0,01°.
Manuseio e classificação totalmente automatizados
Capaz de medir uma cassete completa de 25 wafers em menos de 10 minutos, o Wafer XRD 200 faz isso de forma completamente independente, tornando-o um elemento poderoso e eficiente em seu processo de QC.
Os custos operacionais são baixos para o Wafer XRD 200, graças ao seu baixo consumo de energia e ao tubo de raios X refrigerado a ar – não é necessário resfriar a água.
Conectividade fácil
O instrumento pode ser facilmente integrado em processos existentes em ambientes de produção usando suas várias interfaces MES, SECS/GEM e similares.
Insights mais profundos
O Wafer XRD 200 faz você entender seus materiais como nunca antes, sendo capaz de medir:
- Orientação de cristal
- Posição do encaixe, profundidade e ângulo de abertura
- Posição e comprimento planos
- Diâmetro
- Resistividade etc.
Versátil e flexível
O Wafer XRD 200 está bem equipado para ambientes de produção em que um grande número de amostras precisa ser analisado rapidamente.
Pode medir amostras com até 200 mm de diâmetro, com alta estabilidade devido à medição de um material definido a partir do abaixo:
- SiC
- GaAs
- Si
- Al2O3 (safira)
- InP
- Quaisquer outros materiais cristalinos únicos
Principais aplicações
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- Produção e processamento
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A automação é uma necessidade nessa indústria de ritmo acelerado, e o Wafer XRD 200 está na liderança como uma solução prática e poderosa para gerenciar o manuseio, a classificação e as medições em profundidade de orientação de cristal, encaixe óptico e determinação plana, medições de resistividade e outros parâmetros importantes. Experimente você mesmo o aumento da produtividade!
- Controle de qualidade
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Compreender seus materiais com precisão e rapidez é a chave para um ótimo controle de qualidade, e o Wafer XRD 200 é a solução ideal. Usando o método ultrarrápido Omega-Scan, ele determina a orientação do cristal em uma única medição, oferecendo resultados em cinco segundos. Com funcionalidade adicional, incluindo medição de resistividade e determinação de caraterísticas geométricas, o Wafer XRD 200 oferece eficiência e versatilidade incomparáveis para o controle de qualidade da produção.
- Pesquisa de materiais
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Nem todos os ambientes ocupados são um ambiente de produção. O Wafer XRD 200 está igualmente equipado para fornecer análises de alto rendimento em ambientes de P&D. Capaz de caracterizar centenas de materiais diferentes, de Si, SiC e GaAs a quartzo, LiNbO3 e BBO, o Wafer XRD 200 tem a versatilidade de embasar sua pesquisa de materiais e inovação ajudando você a moldar o futuro da tecnologia de semicondutores.
