Visão geral
O Epsilon Xline combina nossa tecnologia avançada de energia dispersiva XRF (EDXRF) com funcionalidade em linha. Essa solução avançada permite o monitoramento de materiais em tempo real e o controle de processos em processos de revestimento rolo a rolo (R2R). A análise direta permite a otimização contínua da composição e o carregamento do material, ajudando a minimizar a produção fora da especificação e maximizar a eficiência de custos.
O Epsilon Xline adaptável pode fornecer controle de processo preciso e exato em uma ampla gama de superfícies e elementos.
Características
-
Automação em linha completa: Aproveite a produção contínua de R2R graças aos recursos de integração perfeita do Epsilon Xline, adequados para uma variedade de aplicações de filme fino e revestimento.
-
Simples e seguro: O Epsilon Xline é totalmente seguro contra raios X e fácil de usar, ao contrário dos instrumentos portáteis ou antigos, e fornece dados analíticos altamente precisos.
-
Uma vida inteira de experiência: Com base nos mais de 70 anos de experiência da Malvern Panalytical em análise elementar , o Epsilon Xline foi desenvolvido em colaboração com os nossos parceiros do setor para atender às suas necessidades atuais e, ao mesmo tempo, olhar juntos para o futuro do setor.
-
Rendimento maximizado: Obtenha uma produção competitiva em termos de custo com monitoramento em tempo real e sem interrupções, oferecendo as percepções diretas e o controle de que você precisa para obter o máximo de suas operações.
-
Excelente eficiência dos materiais: Elimine inconsistências, evite o desperdício de materiais preciosos e garanta um produto de alta qualidade com nossa solução padrão do setor.
-
Precisão comprovada e patenteada: Desenvolvido e testado com os clientes, o Epsilon Xline apresenta uma tecnologia patenteada de correção de altura que garante uma análise estável para resultados precisos.
Por que Epsilon Xline?
- Controle de processo em linha não destrutivo. Nenhuma amostragem é necessária
- Variedade de modos de escaneamento para acomodar processos de revestimento de patches contínuos e de várias faixas
- Fácil de integrar em processos de produção com protocolos de comunicação padrão
- Capaz de medir todos os elementos valiosos de interesse, incluindo platina e cério
- Capaz de medir camadas finas com excelente precisão
- Acomoda uma variedade de larguras de rolo
- Braço robótico patenteado exclusivo que fornece controle de distância ideal ao pairar o cabeçote de medição sobre a linha de produção em todas as direções
Enfrentando os desafios da produção de células de combustível
Com os catalisadores de platina responsáveis por mais de 20% dos seus custos totais de células de combustível, é essencial otimizar o revestimento do catalisador através de dispersão uniforme e camadas consistentes. E o monitoramento rápido e preciso do processo é a solução ideal! O Epsilon Xline facilita o controle operacional eficiente, ajudando você a:
- Minimizar sua produção fora de especificação
- Evitar que a platina valiosa seja desperdiçada
- Produzir produtos finais competitivos em termos de custo
Análise elementar dentro de seu processo
A fluorescência de raios X (XRF) é uma tecnologia de análise elementar não destrutiva que permite o monitoramento em linha durante os processos de revestimento das membranas catalíticas, sem a necessidade de colher amostras e sem alterações químicas ou físicas.
A análise em linha em tempo real resultante permite a rápida otimização de muitos parâmetros de processo e propriedades do produto.
Medições altamente repetíveis e precisas com baixa manutenção
A tecnologia comprovada e robusta usada no Epsilon Xline e em toda a nossa série de instrumentos Epsilon é alimentada pelos mais recentes avanços em tecnologia de excitação e detecção.
Com um trajeto óptico bem concebido, uma vasta gama de recursos de excitação para elementos leves e pesados e um sistema de detector SDD de alta resolução rápido contribuem para o poder do Epsilon Xline. Essas inovações levam a resultados altamente repetíveis e precisos com baixa manutenção.
