X'Pert³ 시리즈 - 지원
개선된 X’Pert 플랫폼
X'Pert의 성공이 Malvern Panalytical X선 회절 시스템의 X'Pert³ 시리즈에서 계속됩니다. 새로운 온보드 제어 전자 장치가 있고, 가상 엄격한 최신 X선 및 운동 안전성 표준을 준수하고, 환경친화성과 신뢰성에서 앞서가는 X'Pert³는 미래를 내다보는 플랫폼입니다.
• CRISP를 통한 입사 빔 구성 요소의 최장 수명
• 공압식 셔터 및 빔 감쇠기를 통한 최대 가동 시간
• 2세대 PreFIX 기술을 바탕으로 새로운 응용 분야로 쉽게 확장
• 공구 없이 튜브 집중 위치를 빠르고 안정적으로 교체
• 인터넷에 직접 연결하는 새로운 온보드 전자 장치
• 가장 엄격한 안전 규정 준수
지원되는 제품
X'Pert³ MRD
Versatile materials research diffraction system
- 측정
-
Epitaxy analysis
Interface roughness
Phase identification
Phase quantification
Reciprocal space analysis
Residual stress
Texture analysis
Thin film metrology
- Wafer mapping
- 100 mm
- C-to-C wafer loader
- No
- Goniometer configuration
- Horizontal goniometer, Θ-2Θ
- Minimum step size
- 0.0001º
- 기술 유형
-
X-ray Diffraction (XRD)
X'Pert³ MRD XL
다목적 물질 연구 회절 시스템
- 측정
-
Epitaxy analysis
Phase identification
Phase quantification
Thin film metrology
Residual stress
Texture analysis
Reciprocal space analysis
Interface roughness
- Wafer mapping
- 200 mm
- C-to-C wafer loader
- Yes
- Goniometer configuration
- Horizontal goniometer, Θ-2Θ
- Minimum step size
- 0.0001º
- Detector
- PIXcel1D, PIXcel3D, Proportional counter, Scintilation detector
- X-ray tube anode material
- Cu, Co,Cr, Mn, Fe, Mo
- 기술 유형
-
X-ray Diffraction (XRD)
X'Pert³ Powder
The next generation cost-effective, multipurpose X-ray diffraction platform
- 측정
-
3D structure / imaging
Contaminant detection and analysis
Crystal structure determination
Interface roughness
Phase identification
Phase quantification
Pore size distribution
Residual stress
Surface area
Thin film metrology
- Wafer mapping
- No
- C-to-C wafer loader
- No
- Goniometer configuration
- Vertical goniometer, Θ-Θ
- Minimum step size
- 0.001º
- Detector
- PIXcel3D, Proportional counter, Scintilation detector
- X-ray tube anode material
- Cu, Co,Cr, Mn, Fe, Mo, Ag
- 기술 유형
-
X-ray Diffraction (XRD)