Wafer XRD 300 Pre-installation Manual
Número da versão: 1
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A automação completa da fábrica está um passo mais perto com Wafer XRD 300, um sistema de metrologia de wafer ultrarrápido, de alto rendimento e máxima precisão, pronto para integração em sua linha de processo.
O Wafer XRD 300 é um sistema de difração de raios X de alta velocidade, capaz de analisar wafers de 300 mm e fornecer dados-chave, como orientação de cristal, características geométricas como diâmetro ou posição de entalhe, e muito mais.
Ele é projetado para caber em um front-end de manuseio de wafer da etapa de processamento de sua preferência.
O método de projeção Azimutal requer apenas uma rotação de medição para reunir todos os dados necessários para determinar totalmente a orientação, entregando os resultados em 10 segundos, sem comprometer a precisão.
A amostra é girada 360°, com a fonte de raios X e o detector posicionados para atingir um determinado número de reflexões por volta.
Essas reflexões permitem que a orientação da rede cristalina seja medida em relação ao eixo de rotação com uma alta precisão de até 0,01°.
Com medições concluídas em apenas 10 segundos por amostra, o Wafer XRD 300 permite que você verifique cada wafer que passa por seu processo, tornando-o um elemento poderoso e eficiente em seu processo de QC.
Os custos operacionais são baixos para o Wafer XRD 300, graças ao seu baixo consumo de energia e ao tubo de raios X refrigerado a ar – não é necessário resfriar a água.
O instrumento pode ser facilmente integrado em processos existentes em ambientes de produção usando suas várias interfaces MES, SECS/GEM e similares.
Altamente preciso na medição de sua orientação de cristal de wafer Si.
O Wafer XRD 300 faz você entender seus materiais como nunca antes, sendo capaz de medir:
Os avanços na automação estão mudando nossas indústrias, e o Wafer XRD 300 está na liderança como uma solução prática e poderosa para gerenciar medições de orientação em velocidades sem precedentes.
O Wafer XRD 300 oferece eficiência e versatilidade incomparáveis para o controle de qualidade da produção, proporcionando resultados altamente precisos em menos de 10 segundos.
É adequado para ambientes de produção de 300 mm, em que a integração na automação personalizada é fundamental.
| processamento de amostra | Mais de 10.000 wafers por mês
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|---|---|
| Geometry | Sob demanda
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| Precision | Precisão de inclinação: 0,003 |
| XRD axis vs notch / flat position | 0,03° |
Número da versão: 1
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