Wafer XRD 300 Pre-installation Manual
Número de versión: 1
Información general
La automatización completa de la fábrica está un paso más cerca con Wafer XRD 300, un sistema de metrología de obleas ultrarrápido, de alto rendimiento y máxima precisión, listo para integrarse en su línea de proceso.
Wafer XRD 300 es un sistema de difracción de rayos X de alta velocidad, capaz de analizar obleas de 300 mm y proporcionar datos clave como la orientación del cristal, características geométricas como el diámetro o la posición de la muesca, y mucho más. Está diseñado para encajar en un extremo frontal de manipulación de obleas de la etapa de procesamiento que elija.
Rápido y preciso: método de escaneo azimutal
El método de escaneo azimutal requiere solamente una rotación de medición para reunir todos los datos necesarios a fin de determinar por completo la orientación, lo que proporciona resultados en un plazo de 10 segundos sin comprometer la precisión.
La muestra se gira 360°, con la fuente de rayos X y el detector posicionados para lograr un determinado número de reflejos por giro. Estos reflejos permiten la orientación de la red de cristales que se va a medir en relación con el eje de rotación con una alta precisión de hasta 0,01°.
Manipulación totalmente automatizada
Con mediciones realizadas en tan solo 10 segundos por muestra, Wafer XRD 300 le permite comprobar cada oblea que pasa por su proceso, lo que lo convierte en un elemento potente y eficaz en su proceso de CC.
Los costos de funcionamiento del Wafer XRD 300 son bajos, gracias a su bajo consumo de energía y a su tubo de rayos X refrigerado por aire (no requiere refrigeración por agua).
Fácil conectividad
El instrumento se puede integrar fácilmente a los procesos existentes en entornos de producción utilizando sus diversas interfaces MES, SECS/GEM y similares.
Información más detallada
Medición altamente precisa de la orientación de los cristales de sus obleas de silicio.
Wafer XRD 300 le permite comprender sus materiales como nunca antes, siendo capaz de medir lo siguiente:
- Orientación del cristal
- Posición, profundidad y ángulo de apertura de muescas
- Diámetro
Aplicaciones clave
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- Producción y procesamiento
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Los avances en la automatización están cambiando nuestras industrias, y Wafer XRD 300 está liderando como una solución práctica y potente para gestionar las mediciones de orientación a velocidades sin precedentes.
- Control de calidad
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Wafer XRD 300 ofrece una eficiencia y una versatilidad sin precedentes para el control de calidad de la producción, lo que le brinda resultados altamente precisos en menos de 10 segundos.
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Es muy adecuado para entornos de producción de 300 mm en los que la integración en la automatización personalizada es clave.
