La diffraction des rayons X haute résolution est de nos jours un outil puissant pour l'analyse structurale non destructive des couches épitaxiées, des hétérostructures et des super réseaux. Il s'agit d'un outil standard utilisé dans la production industrielle ainsi que dans la phase de développement des structures cultivées épitaxiées.
Beaucoup d'informations importantes peuvent être obtenues à partir des figures de diffraction : la composition des alliages et l'uniformité des couches épitaxiées, leur épaisseur, la déformation et la relaxation de la déformation, ainsi que la perfection cristalline liée à leur densité de dislocation. Même la formation d'interdiffusion et les mélanges d'interfaces peuvent être étudiés dans certaines circonstances.
Dans le cadre d'une étude rapide, les positions de pic du substrat et des couches peuvent être utilisées pour l'analyse. Cependant, en général, des simulations complètes de modèle basées sur la théorie de diffusion dynamique sont appliquées à la détermination quantitative des paramètres importants.
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Technologie | |||
Diffraction des rayons X (XRD) | |||
Type de mesure | |||
Analyse de l'épitaxie | |||
Identification de phase | |||
Quantification de la phase | |||
Rugosité de l'interface | |||
Métrologie des couches minces | |||
Contraintes résiduelles | |||
Analyse de texture | |||
Analyse de réseau réciproque | |||
Forme des particules | |||
Taille des particules | |||
Détermination de la structure cristalline | |||
Détection et analyse de contaminants | |||
Imagerie/structure 3D |