X'Pert³ MRD XL Pre-installation manual (English)
Numéro de version: 6
Aperçu
La longue et prospère histoire des diffractomètres MRD continue avec une nouvelle génération – X’Pert³ MRD and X’Pert³ MRD XL. Les performances et la fiabilité accrues de la nouvelle plateforme ont augmenté les capacités d'analyse et la puissance dans les études des:
- sciences des matériaux avancés
- Technologies des couches minces scientifiques et industrielles
- Caractérisations métrologiques dans le développement des procédés des semiconducteurs
Les deux systèmes traitent la même gamme d'applications avec la cartographie complètes de wafers jusqu'à 100 mm (X’Pert³ MRD) ou 200 mm (X’Pert³ MRD XL).
Flexibilité du système à l’épreuve du temps
Version standard pour la recherche et le développement des échantillons de couches minces, wafers (cartographie complète jusqu'à 100 mm) et matériaux solides.
Les capacités d'analyses haute-résolution sont améliorées avec la précision inégalée du nouveau goniomètre haute résolution utilisant des encodeurs Heidenhain
X'Pert³ étendu MRD (XL)
Le X'Pert³ étendu MRD (XL) augmente la polyvalence de la gamme des systèmes X'Pert³ MRD. Un PreFIX supplémentaire permet de monter à la fois un miroir et un monochromateur haute-résolution, augmentant de manière significative l'intensité du faisceau incident.
On bénéficie ainsi d'une polyvalence d'application sans compromis sur la qualité des données à haute résolution diffraction des rayons X avec des intensités élevées et de réduction des temps de mesure telles que la cartographie de l'espace réciproque, et la reconfiguration de standard à étendu se fait en quelques minutes grâce au concept des PreFIX. Avec la deuxième génération de PreFIX, le passage d'une configuration à une autre est simple et le positionnement optique est encore plus précis que jamais.
X'Pert³ MRD (XL) In-plane
Avec le X'Pert³ MRD (XL) pour la diffraction in-plane ou dans le plan, il devient possible de mesurer la diffraction à partir des plans du réseau qui sont perpendiculaires à la surface de l'échantillon.
Géométrie standard et dans le plan sur un même système et un large éventail d'expériences de diffraction sur polycristallin et couches minces parfaites, ne sont que deux des nombreux avantages.
Applications clés
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- Semi-conducteurs et plaquettes monocristallines
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Qu'il s'agisse d'études de croissance ou de conception de dispositifs, la mesure de la qualité, de l'épaisseur, de la déformation et de la composition des alliages des couches par DRX haute résolution a été au cœur de la recherche et du développement dans le domaine des dispositifs semi-conducteurs multicouches électroniques et optoélectroniques. Avec un choix de miroirs à rayons X, de monochromateurs et de détecteurs, les X'Pert3 MRD et MRD XL offrent des configurations haute résolution pour s'adapter à différents systèmes de matériaux allant des semi-conducteurs adaptés au réseau, en passant par des couches tampons détendues, jusqu'à de nouvelles couches exotiques sur des substrats non standard.
- Solides polycristallins et couches minces
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Les couches et revêtements polycristallins constituent un composant important de nombreux films minces et dispositifs multicouches. L'évolution de la morphologie des couches polycristallines au cours du dépôt est un domaine d'étude clé dans la recherche et le développement de matériaux fonctionnels. X'Pert3 MRD et X'Pert3 MRD XL peuvent être entièrement équipés d'une gamme de fentes, d'un miroir à rayons X à faisceau parallèle, d'une lentille polycapillaire, de fentes croisées et de monocapillaires pour offrir un choix complet d'optiques à faisceau incident pour la réflectométrie, la contrainte, la texture et l'identification de phase.
- Films ultra-minces, nanomatériaux et couches amorphes
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Les dispositifs fonctionnels peuvent contenir des films minces désordonnés, amorphes ou nanocomposites. La flexibilité des systèmes X’Pert3 MRD et MRD XL permet l’incorporation de plusieurs méthodes analytiques. Une gamme d'optiques haute résolution, de collimateurs à fentes et à plaques parallèles est disponible pour offrir des performances optimales pour les méthodes d'incidence rasante, de diffraction dans le plan et de réflectométrie.
- Mesure dans des conditions non ambiantes
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L'étude du comportement des matériaux dans diverses conditions constitue une partie essentielle de la recherche sur les matériaux et du développement de procédés. Les X'Pert3 MRD et MRD XL sont conçus pour l'intégration facile de la platine d'échantillonnage non ambiante DHS1100 d'Anton Paar, permettant des mesures automatisées dans une plage de températures et sous atmosphère inerte.
Instrument gives excellent accuracy and is of good quality.Good intensity and rapid performance. It is easy to operate.
Yifan Zheng — Zhejiang University of Technology
