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La longue et prospère histoire des diffractomètres MRD continue avec une nouvelle génération – X’Pert³ MRD and X’Pert³ MRD XL. Les performances et la fiabilité accrues de la nouvelle plateforme ont augmenté les capacités d'analyse et la puissance dans les études des:
Les deux systèmes traitent la même gamme d'applications avec la cartographie complètes de wafers jusqu'à 100 mm (X’Pert³ MRD) ou 200 mm (X’Pert³ MRD XL).
Version standard pour la recherche et le développement des échantillons de couches minces, wafers (cartographie complète jusqu'à 100 mm) et matériaux solides.
Les capacités d'analyses haute-résolution sont améliorées avec la précision inégalée du nouveau goniomètre haute résolution utilisant des encodeurs Heidenhain
Le X'Pert³ étendu MRD (XL) augmente la polyvalence de la gamme des systèmes X'Pert³ MRD. Un PreFIX supplémentaire permet de monter à la fois un miroir et un monochromateur haute-résolution, augmentant de manière significative l'intensité du faisceau incident.
On bénéficie ainsi d'une polyvalence d'application sans compromis sur la qualité des données à haute résolution diffraction des rayons X avec des intensités élevées et de réduction des temps de mesure telles que la cartographie de l'espace réciproque, et la reconfiguration de standard à étendu se fait en quelques minutes grâce au concept des PreFIX. Avec la deuxième génération de PreFIX, le passage d'une configuration à une autre est simple et le positionnement optique est encore plus précis que jamais.
Avec le X'Pert³ MRD (XL) pour la diffraction in-plane ou dans le plan, il devient possible de mesurer la diffraction à partir des plans du réseau qui sont perpendiculaires à la surface de l'échantillon.
Géométrie standard et dans le plan sur un même système et un large éventail d'expériences de diffraction sur polycristallin et couches minces parfaites, ne sont que deux des nombreux avantages.
Les Malvern Panalytical X'Pert³ MRD et MRD XL sont des systèmes de solution à rayons X tout-en-un qui peuvent être utilisés dans de nombreuses applications industrielles, notamment :
Qu'il s'agisse d'études de croissance ou de conception de dispositifs, la mesure de la qualité des couches, leur épaisseur, la déformation et la composition des alliages à l'aide de la XRD haute résolution a été au cœur de la recherche et du développement dans les dispositifs électroniques et optoélectroniques à semi-conducteurs multicouches. Avec un choix de miroirs à rayons X, de monochromateurs et de détecteurs, les modèles X'Pert3 MRD et MRD XL offrent des configurations haute résolution pour s'adapter à différents systèmes de matériaux allant des semi-conducteurs de réseau, aux couches de tampons souples, en passant par les nouvelles couches exotiques sur des substrats non standard.
Les couches et revêtements polycristallins sont un composant important de nombreux films minces et dispositifs multicouches. L'évolution de la morphologie de la couche polycristalline pendant le dépôt est un domaine d'étude clé dans la recherche et le développement de matériaux fonctionnels. Les modèles X'Pert3 MRD et X'Pert3 MRD XL peuvent être équipés d'une gamme complète de fentes, d'un miroir à rayons X à faisceau parallèle, d'une lentille polycapillaire, de fentes croisées et de monocapillaires pour offrir un choix complet d'optiques à faisceau incident pour la réflectométrie, la contrainte, la texture et l'identification de phase.
Les dispositifs fonctionnels peuvent contenir des films minces désordonnés, amorphes ou nanocomposites. La flexibilité des systèmes X'Pert3 MRD et MRD XL permet l'incorporation de plusieurs méthodes d'analyse. Une gamme d'optiques, de fentes et de collimateurs plan haute résolution est disponible pour offrir des performances optimales pour les méthodes d'incidence rasante, la diffraction dans le plan et la réflectométrie.
L'étude du comportement des matériaux dans diverses conditions est un élément essentiel de la recherche de matériaux et du développement de processus. Les modèles X'Pert3 MRD et MRD XL sont conçus pour l'incorporation facile du support d'échantillon non ambiant DHS1100 d'Anton Paar, permettant des mesures automatisées sous une plage de températures et une atmosphère inerte.
Instrument gives excellent accuracy and is of good quality.Good intensity and rapid performance. It is easy to operate.
Yifan Zheng — Zhejiang University of Technology
| Dimensions | 1370 (w) x 1131 (d) x 1972 (h) mm
Le système est sur roues pour une installation et un déplacement faciles
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|---|---|
| Poids | 1150 kg |
| Type | Goniomètre horizontal
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|---|---|
| Radius | 420 mm |
| Range | -40°< 2θ <160° (selon accessoires)
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| Exactitude | Précision longue portée ±0,0025°
Précision à courte portée (0,5°) ±0,0004°
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| Reproductibilité | < 0.0002°
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| Features | Tubes à rayons X entièrement en céramique fabriqués par l'usine spécialisée de Malvern Panalytical dans des conditions de salle blanche
Échange de ligne à point sans outil
Générateur de 3 kW compatible avec tous les tubes à rayons X actuels et futurs
Détecteurs de pixels hybrides avec la plus petite taille de pixel (55 x 55 µm2) disponible sur le marché
Berceau 5 axes avec translation 200 x 200 mm2 x, y
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|---|---|
| Rotation | Rotation du Chi ±92°
Rotation Phi 2 x 360°
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| Smallest addressable increment | 0.0001° |
Libérez le potentiel de vos données
Jusqu’à présent, les données des instruments étaient souvent bloquées dans des enregistrements manuels, des feuilles de calcul ou des serveurs locaux. En connectant le X'Pert3 à notre Smart Manager et en analysant continuellement les données dans le cloud, vous pouvez libérer tout leur potentiel. Il s’agit de l’une de nos solutions numériques, faisant partie du Connected World de Malvern Panalytical.
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Ajout de valeur à vos procédés
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