La fluorescence X (XRF) est une technique d'analyse qui peut être utilisée pour déterminer la composition chimique d'une grande variété de types d'échantillons, y compris les solides, les liquides, les boues et les poudres libres. La fluorescence X est également utilisée pour déterminer l'épaisseur et la composition des couches et des revêtements. Elle peut analyser des éléments allant du béryllium (Be) à l'uranium (U) dans des gammes de concentrations allant de 100 wt% à des niveaux inférieurs au ppm.

La technique XRF est robuste, combinant haute précision et précision avec une préparation d'échantillons simple et rapide. Elle peut être facilement automatisée pour une utilisation dans des environnements industriels à rendement élevé. En outre, la fluorescence X fournit des informations qualitatives et quantitatives sur un échantillon. Une combinaison simple d'informations sur la nature du contenu et les quantités permet également une analyse rapide (semi-quantitative).

La fluorescence X est une méthode d'émission atomique, similaire à la spectroscopie d'émission optique (OES), à la spectrométrie d'émission plasma (ICP) et à l'analyse par activation neutronique (spectroscopie gamma). Ces méthodes mesurent la longueur d'onde et l'intensité de la « lumière » (les rayons X dans ce cas) émise par les atomes énergisés de l'échantillon. En fluorescence X, l'irradiation par un faisceau de rayons X primaire depuis un tube à rayons X provoque l'émission de rayons X fluorescents dotés d'énergies discrètes caractéristiques des éléments présents dans l'échantillon.

La technologie utilisée pour la séparation (dispersion), l'identification et la mesure de l'intensité du spectre de fluorescence X d'un échantillon donne lieu à deux principaux types de spectromètre : les systèmes à dispersion de longueur d'onde (WDXRF) et à dispersion d'énergie (EDXRF).

Zetium

Gamme Epsilon

Axios FAST

2830 ZT

Zetium Gamme Epsilon Axios FAST 2830 ZT

L'excellence élémentaire

Cadence d'analyse élevée

Solution avancée de métrologie des couches minces de semi-conducteurs

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Type de mesure
Métrologie des couches minces
Elemental analysis
Contaminant detection and analysis
Elemental quantification
Identification chimique
Technologie
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)
Plage élémentaire Be-U Na-Am, C-Am Be-U Be-U
LLD 0.1 ppm - 100% 1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
Résolution (Mg-Ka) 35eV 145eV 35eV 35eV
Débit d'échantillon 160per 8h day - 240per 8h day 240per 8h day - 480per 8h day up to 25 wafers per hour