고객들은 생산 위치에 관계없이 고분자 성능의 뛰어난 일관성과 고객 안전을 요구합니다. 에너지 분산 X선 형광(EDXRF) 벤치톱 분광기인 Epsilon 4는 뛰어난 반복성과 정확도를 갖춘 원소 분석을 제공하여 고객의 일관성 요구를 만족시킵니다.
사용하기 쉬운 측정 절차와 제한된 유틸리티 요건을 통해 여러 생산 현장에 걸쳐 생산 라인 가까이에서 재현 가능한 분석이 가능합니다. Epsilon 4는 재보정할 필요 없이 몇 개월 동안 믿을 수 있는 결과를 전달합니다. 제품 품질을 보장하는 일은 결코 쉬운 일이 아니었습니다.
벤치톱 XRF의 장점: 최신 여기 및 검출 기술과 지능형 설계를 결합한 Epsilon 4의 분석 성능은 더욱 강력한 스탠드형 분광기의 성능에 근접합니다. 선택적 여기와 함께 X선 선관 출력과 검출기 시스템 용량 간 세밀한 매칭을 통해 탁월한 시스템 성능을 제공합니다.
낮은 운용 비용: Epsilon 4는 ICP와 AAS에서는 필수적인 고가의 산성 물질, 가스 및 배기용 후드 사용이 불필요합니다. 주 전원과 일부의 경우 샘플 내 경원소의 감도를 높이기 위한 헬륨의 사용만 필요합니다. 또한 XRF 분광기의 개별 구성품은 마찰이나 열에 노출되는 일이 없기 때문에 수년간 높은 내구성을 유지합니다.
비파괴 분석: Epsilon 4를 사용한 측정은 샘플 준비가 거의 또는 아예 필요 없이 완제품에서 직접 수행됩니다. XRF는 비파괴 기법을 사용하기 때문에 필요한 경우 계속해서 다른 분석 기법을 사용하여 샘플을 측정할 수도 있습니다.
더 빠른 분석 속도와 더 높은 감도: 더욱 높은 강도를 발생시키는 최신 실리콘 드리프트 검출기 기술을 사용하여 신속한 측정이 가능합니다. 검출기의 고유한 전자 장치는 1,500,000 cps(50% 불감 시간(dead time)에서)를 초과하는 선형 계수율 용량 및 스펙트럼의 분석 라인의 분리 개선을 위해 일반적으로 135eV보다 더 높은 계수율 비의존성 분해능을 제공합니다. 이를 통해 Epsilon 4 분광기는 최대 출력에서 작동할 수 있으며 따라서 기존 EDXRF 벤치톱 기기보다 훨씬 높은 시료 처리량을 제공합니다.
Epsilon 4는 고분자, 플라스틱 및 페인트 생산자에게 가치를 직접 제공합니다. 생산 공정 전체에 걸쳐 가까이에서 신속한 직접 분석을 통해 빈틈없는 추적성을 가능하게 합니다.
입고 원료 물질의 품질을 검증하고 완제품에 첨가제, 촉매 잔류물 또는 독성 성분이 있는지 분석합니다.
Malvern Panalytical 고유의 보정 솔루션인 ADPOL, TOXEL 및 RoHS는 사용자를 지원하여 고객 안전 및 일관되고 높은 수준의 제품 품질과 성능을 실현합니다.
올바른 보정 샘플에 액세스하는 것이 XRF의 핵심입니다.
플라스틱 및 고분자 산업을 위해 당사는 첨가제, 촉매 잔류물(ADPOL), 독성 성분(TOXEL)을 정확하게 분석하고 ASTM F2617 및 IEC 62321-3-1에 따라 RoHS 준수(RoHS)를 보장하기 위한 고유의 보정 솔루션을 개발했습니다.
Epsilon 4 분광기는 무게가 밀리그램에서 대형 벌크 샘플에 이르는 다양한 샘플을 처리할 수 있습니다. 샘플을 다음 형태로 측정할 수 있습니다.
Great tool. Quick analysis, easy-to-use repeatable. Very helpful and competent assistance.
Omar Scaccabarozzi — Analyst
| 샘플 용량 | 10개 위치의 탈착식 샘플 교체기 |
|---|---|
| 샘플 크기 | 분광기에 최대 52mm 직경의 샘플(가루 분말, 액체, 슬러리 및 고체) 수용 가능 |
| Features | 액체, 슬러리 및 분말에 대한 더 정확한 결과를 얻기 위해 스피너 포함 |
| Features | 금속-세라믹 측면 창으로 최대 안정성 제공
경원소(Na, Mg, Al, Si) 분석에서 높은 감도를 제공하는 50마이크로미터의 얇은 베릴륨 창 |
|---|---|
| Tube setting | P, S 및 Cl 분석에서 최상의 성능을 제공하는 Ag 양극 X선 선관 |
| 검출기 유형 | 고분해능 실리콘 드리프트 검출기(SDD), 일반적으로 135eV @ Mn-Kα |
|---|---|
| Features | 최대 50% 불감 시간(dead time)에서 1,500,000회/s의 계수율
높은 감도를 제공하는 얇은 입구 검출기 창 |
| 소프트웨어 |
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Epsilon 소프트웨어는 PANalytical의 Epsilon 1 및 Epsilon 4 제품군 벤치톱 EDXRF 시스템과 함께 사용할 수 있는 XRF 분석 소프트웨어 플랫폼입니다. Epsilon 소프트웨어는 Epsilon 벤치탑 시스템을 설정하고 운용하는 데 필요한 모든 기능을 제공합니다. 분석 프로그램 어셈블리가 소프트웨어에 내장된 높은 수준의 인텔리전스를 통해 활용되므로 사용자는 반세기에 이르는 작업 전문 지식을 활용할 수 있습니다. 이제 경험이 없는 직원도 최소한의 교육만 받으면 매일 반복되는 XRF 분석 작업을 일상적인 작업으로 편리하게 수행할 수 있습니다. 소프트웨어의 유용성을 향상시키기 위해 많은 기능이 제공됩니다.
Omnian을 사용하면 전용 기법이나 인증된 표준물질이 존재하지 않는 상황에서도 가능한 최고의 분석을 수행할 수 있습니다. 트렌드세팅 비표준 분석 패키지인 Omnian은 기술을 초월한 첨단 소프트웨어와 설정 시료를 통합합니다. Epsilon 1, Epsilon 4 및 Zetium 분석기에 사용할 수 있는 Omnian은 시료 유형 또는 매트릭스에 관계없이 빠르고 안정적인 결과를 제공합니다.
Stratos 소프트웨어 모듈은 측정에서 획득한 층상 재료의 화학적 조성과 두께를 동시에 확인할 수 있는 알고리즘을 갖추고 있습니다. 이 소프트웨어는 코팅, 표면층 및 다층 구조를 분석하는 빠르고 간단하며 비파괴적인 수단을 제공합니다. Virtual Analyst는 복잡한 스택에 대한 측정 프로그램을 설정하는 동안 인텔리전스를 제공합니다.
Epsilon 4 EDXRF 및 Zetium XRF 분광계에 사용할 수 있는 Stratos는 샘플 유형 또는 매트릭스에 관계없이 빠르고 안정적인 결과를 제공합니다.
EDS(Enhanced Data Security) 모듈은 Zetium XRF 분광계(SuperQ 소프트웨어를 통해) 및 Epsilon XRF 분광계 사용자에게 결과의 신뢰성을 높여 주는 소프트웨어 옵션입니다. EDS는 고급 사용자 관리, 액션 로깅, 데이터 보호, 작업 프로그램 상태 지정 등의 기능을 통해 감사 추적을 강화하고 오류 위험을 최소화하며 XRF 장비가 예상대로 작동하고 있음을 입증할 수 있도록 지원합니다.
Epsilon 4 EDXRF 시스템과 결합한 FingerPrint 소프트웨어 모듈은 실제 조성은 분석 대상이 아니지만, 분석 속도가 중요한 경우의 재료 테스트에 이상적입니다. FingerPrinting은 일반적으로 샘플 전처리가 거의 또는 전혀 필요하지 않으며 비파괴적입니다.
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장비가 최상의 상태로 유지되고 최고 수준으로 작동하게 하도록 Malvern Panalytical은 다양한 서비스를 제공하고 있습니다. 전문적인 기술과 지원 서비스를 통해 장비가 최적의 기능을 할 수 있도록 보장합니다.
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