X'Pert³ MRD

다목적 연구 및 개발 XRD 시스템

Malvern Panalytical의 MRD(Materials Research Diffractometer)의 오랜 성공의 역사는 차세대 X’Pert³ MRD 및 X’Pert³ MRD XL로 이어집니다. 성능과 신뢰성이 개선된 새 플랫폼에서는 다음과 같은 분야의 X선 산란 연구에 더 많은 분석 기능과 동력을 제공합니다.

• 신소재 과학
• 과학 및 산업용 박막 기술
• 반도체 공정의 도량형 특성 연구 개발

두 시스템 모두 최대 100mm(X’Pert³ MRD) 또는 200mm(X’Pert³ MRD XL)의 완벽한 웨이퍼 매핑으로 다양한 응용 분야에 적합합니다.

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특징

미래에 대한 확장성을 보장하는 시스템

X'Pert³ MRD 시스템은 연구에서 공정 개발, 공정 제어에 활용할 수 있는 혁신적인 고급 X선 회절 솔루션입니다. 모든 시스템 필드를 모든 기존 옵션과 향후 새롭게 개발되는 하드웨어 및 소프트웨어로 업그레이드할 수 있는 기술을 사용했습니다.

X’Pert³ MRD

박막 샘플, 웨이퍼(최대 100mm의 완전한 매핑) 및 고체 물질에 사용할 수 있는 표준 연구 개발 버전입니다. Heidenhain 인코더를 사용하는 새로운 고해상도 측각기의 뛰어난 정확성으로 고분해능 분석 기능이 향상되었습니다. 

X'Pert³ MRD XL

X'Pert³ MRD XL은 반도체, 박막, 신소재 산업의 고분해능 XRD 분석 요구를 모두 충족합니다. 최대 200mm의 웨이퍼 매핑이 가능합니다. X’Pert3 버전에서는 입사 빔 구성 요소(CRISP)의 최장 수명과 공압식 셔터 및 빔 감쇠기를 통한 최대 가동 시간이 제공됩니다. 

정교한 자동 웨이퍼 로더를 선택할 경우 최대 직경 300mm의 웨이퍼를 분석할 수 있는 X'Pert³ MRD XL은 산업용 박층 구조의 품질 관리를 위한 고급 도구입니다.

X'Pert³ Extended MRD(XL)

X'Pert³ Extended MRD(XL)를 통해 X'Pert³ MRD 시스템 시리즈의 융통성이 증가합니다. PreFIX 확장 플랫폼을 추가로 장착하면 X선 미러와 고분해능 단색광기를 일렬로 장착하여 입사빔의 강도를 크게 높일 수 있습니다. 

PreFIX 개념을 통해 기본 장비 구성에서 수 분 안에 다른 장비 구성으로 확장할 수 있기 때문에 사용자는 데이터 품질 저하 없이 여러 응용 분야를 수행할 수 있으며, 고분해능 X선 회절의 강도가 높아지며, 역격자공간지도(RSM: Reciprocal Space Map)에서 측정 시간이 짧아지는 장점 얻을 수 있습니다. 2세대 PreFIX는 쉽게 재구성할 수 있으며 광학 장치 위치를 이전보다 더 정확하게 조정할 수 있습니다.

X'Pert³ MRD(XL) 평면

평면 회절용 X'Pert PRO MRD(XL) 시스템을 사용하면 샘플 표면에 수직인 격자면으로부터의 회절을 측정할 수 있습니다. 

단일 시스템에서의 일반적인 분석은 물론 in-plan 분석 할 수 있다는 점, 그리고 다결정 분석과 박막 분석을 할 수 있다는 점은 이 시스템의 여러 가지 장점 중 일부에 불과합니다. 

사양

케이스측각기(Goniometer)

X선 소스

검출기들/스테이지들

크기: 1370(w) x 1131(d) x 1947(h)mm수평 측각기Malvern Panalytical 특수 제조 공장의 청정실에서 제조되는 완전 세라믹 X선관
무게: 1150kg반경: 320mm선형빔과 포인트빔간 초점 변경 시 도구 불필요

-40°< 2θ <160°의 최대 사용 범위(부속품에 따라 다름)모든 전류 규격과 출시 예정 X선관을 지원하는 3kW 발전기
모든 유형의 양극으로 전 세계의 전자, 기계 및 X선 안전 관련 규정 충족정밀하게 정렬된 Heidenhain 인코더를 사용하여 전체 수명 기간 동안 측각기의 정확도를 보장하는 직접 광학 인코딩 시스템시중에서 가장 작은 픽셀 크기(55 x 55µm2)의 하이브리드 픽셀 검출기
시스템에 바퀴가 있어 간편한 설치 및 이동 가능긴 거리 정확도: ±0.0025°100 x 100mm2 x y 평행 이동의 5축 크래들

단거리(0.5°) 정확도: ±0.0004°카이(Chi) 회전: ±92°

각도 재현성: < 0.0002°파이(Phi) 회전: 2 x 360°

최소 각도 분해능: 0.0001°

악세서리

검출기

PIXcel3D

0D-1D-2D 및 3D 데이터를 회절분석기로 가져오는 최초의 검출기

PIXcel3D는 고유한 2D 고체상 하이브리드 픽셀 검출기입니다. 각 픽셀은 55미크론 x 55미크론이고 검출기 어레이는 256 x 256픽셀입니다. 현재 Medipix3 기술을 기반으로 하는 이 검출기는 1픽셀, 멀티 에너지 구분 수준의 점상 분포 함수를 통해 높은 신호 대 잡음비를 제공합니다.

서비스

투자 수익 극대화를
위한 솔루션

장비가 최상의 상태로 유지되고 최고 수준으로 작동하게 하도록
Malvern Panalytical은 다양한 서비스를 제공하고 있습니다. 전문적인 기술과 
지원 서비스를 통해 장비가 최적의 기능을 할 수 있도록 보장합니다.

지원

평생 서비스
• 전화 및 원격 지원
• 예방적 유지보수 및 점검
• 유연한 고객 관리 계약
• 성능 인증서
• 하드웨어 및 소프트웨어 업그레이드
• 지역 및 글로벌 지원

전문 기술

공정에 가치 추가
• 샘플 준비 개발/최적화
• 분석 방법론
• XRD를 위한 턴키 솔루션
• IQ/OQ/PQ, 품질 보증(GLP, ISO17025) 또는 순차순환/연구실 간 연구를 통한 운영
• 연구실 공정 자동화
• 자문 서비스

훈련 및 교육

• 현장 또는 당사 교육 센터에서 교육
• 제품, 응용 분야 및 소프트웨어에 대한 다양한 기본 및 고급 과정

주요 응용 분야

Malvern Panalytical X’Pert³ MRD 및 MRD XL은 다음과 같은 다양한 산업 응용 분야에 사용할 수 있는 올인원 X선 솔루션 시스템입니다.


반도체 및 단결정 웨이퍼

성장 연구 또는 장치 설계 등, 고분해능 XRD를 사용한 레이어 품질, 두께, 변형 및 합금 조성의 측정은 전자 및 광전자 멀티레이어 반도체 장치 연구 및 개발의 핵심입니다.  X선 거울, 단색광 및 검출기 등으로 X’Pert3 MRD 및 MRD XL은 완화된 버퍼층을 통한 격자 정합 반도체부터 비표준 기판의 새로운 이종 층에 이르기까지 다양한 물질 시스템에 적합한 고해상도 구성을 제공합니다.


다결정 고체 및 박막

다결정 층과 코팅은 많은 박막 및 다층 장치의 중요한 구성 요소입니다. 증착 중 다결정 층 형태학의 발전은 기능 재료 연구 및 개발의 주요 연구 영역입니다.  X’Pert3 MRD 및 X’Pert3 MRD XL는 다양한 슬릿, 평행 빔 X선 거울, 폴리카필러리 렌즈, 크로스 슬릿 및 모노카필러리를 모두 갖추고 있어 반사측정, 응력, 텍스처 및 상 식별을 위한 입사 빔 광학을 완벽하게 선택할 수 있습니다.


초박막, 나노물질 및 비정질 층

기능성 장치는 무질서한 비정질 또는 나노복합체 박막을 포함할 수 있습니다. X’Pert3 MRD 및 MRD XL 시스템의 유연성을 통해 여러 분석 방법을 통합할 수 있습니다. 다양한 고분해능 광학, 슬릿 및 평행 플레이트 시준기를 사용하여 그레이징 입사 방법, 평면 회절 및 반사측정에서 최적의 성능을 얻을 수 있습니다.


비대기 조건에서 측정

다양한 조건에서 물질의 거동을 연구하는 것은 재료 연구 및 공정 개발의 필수적인 부분입니다.  X’Pert3 MRD 및 MRD XL은 Anton Paar의 DHS1100 비대기 샘플 스테이지를 쉽게 결합하도록 설계되었으며, 다양한 온도와 불활성 대기 상태에서 자동화된 측정을 가능하게 합니다.

Instrument gives excellent accuracy and is of good quality.Good intensity and rapid performance. It is easy to operate.

Yifan Zheng — Zhejiang University of Technology