서론 

X선 형광(XRF) 분광법은 다양한 유형의 물질로부터 원소 정보를 얻는 데 사용되는 비파괴 분석 기술입니다. 이 기술은 시멘트 생산, 유리 생산, 채광, 미네랄 선광, 철, 강철 및 비철금속, 석유 및 석유화학 제품, 고분자 및 관련 산업, 의약품, 건강관리 제품 및 환경 등의 여러 산업과 응용분야에 사용됩니다. 분광계 시스템은 일반적으로 파장 분산 시스템(WDXRF)과 에너지 분산 시스템(EDXRF)의 두 가지 주요 그룹으로 나뉩니다. 두 시스템의 차이는 검출 시스템에 있습니다. 

WDXRF란 무엇이며 어떻게 작동합니까?

모든 분광계의 기본 개념은 방사선원, 검체 및 검출 시스템입니다. WDXRF 분광기에서 광원 역할을 하는 x선관으로부터 검체에 직접 조사하여 검체에서 나오는 형광을 파장 분산 검출 시스템으로 측정합니다. 각 개별 원소에서 나오는 특징적 방사선은 X선을 파장, 또는 역으로 그 에너지를 기준으로 분리하는 결정을 분석하여 식별할 수 있습니다. 이러한 분석은 서로 다른 파장(순차적) 또는 고정된 위치에서 서로 다른 파장의 X선 강도를 측정하고 동시에 서로 다른 파장의 X 선 강도를 동시에 측정하여 수행할 수 있습니다. ​

WDXRF 분광법의 장점​

  • 높은 해상도, 특히 더 가벼운 원소의 경우
  • 낮은 검출 한계, 특히 더 가벼운 원소의 경우
  • 견고한 분석
  • 높은 처리량

Axios FAST

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고속 샘플 처리

자세한 내용은
측정 박막 계측학, Elemental analysis, Elemental quantification
원소 범위 Be-U
해상도(Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
샘플 처리량 240per 8h day - 480per 8h day
기술 유형 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Zetium

Zetium

구성요소의 탁월함

자세한 내용은
측정 박막 계측학, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
원소 범위 Be-U
해상도(Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
샘플 처리량 160per 8h day - 240per 8h day
기술 유형 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

2830 ZT

2830 ZT

고급 반도체 박막 계측학 솔루션

자세한 내용은
측정 입자의 화학적 성분, 박막 계측학, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
원소 범위 Be-U
해상도(Mg-Ka) 35eV
샘플 처리량 up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
기술 유형 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

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원소 범위 Be-U Be-U Be-U
해상도(Mg-Ka) 35eV 35eV 35eV
LLD 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
샘플 처리량 240per 8h day - 480per 8h day 160per 8h day - 240per 8h day up to 25 wafers per hour
기술 유형 Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)