X선 형광(XRF)은 고체, 액체, 슬러리, 가루 분말을 포함한 다양한 샘플 유형의 화학 조성 확인에 사용되는 분석 기법입니다. X선 형광은 층 및 코팅의 두께와 조성을 결정하는 데에도 사용됩니다. 베릴륨(Be)에서 우라늄(U)에 이르는 원소를 100 wt%에서 sub-ppm 수준 범위의 농도로 분석할 수 있습니다.

XRF는 높은 정밀도와 정확성을 결합하여 간단하고 신속하게 샘플 전처리를 가능하게 하는 강력한 기술입니다. 높은 처리량의 산업 환경에서 사용하기 위해 쉽게 자동화할 수 있음과 동시에, XRF는 샘플에 대한 질적 및 양적 정보를 모두 제공합니다. 이러한 ‘무엇?’과 ‘얼마나’의 정보를 쉽게 조합할 수 있으면 신속한 선별(반 정량) 분석이 가능해집니다.

XRF는 광학 방출 분광법(OES), ICP 및 중성자 활성화 분석(감마 분광법)과 관련하여 이와 유사한 원자 방출 방법입니다. 그러한 방법은 샘플에서 에너지가 가해진 원자에 의해 방출되는 '빛'(이 경우 X선)의 파장과 강도를 측정합니다. XRF에서 x선관으로부터의 1차 X선 빔에 의한 조사는 샘플에 존재하는 원소의 이산 에너지 특성을 갖는 형광 X선의 방출을 유발합니다.

샘플의 X선 형광 스펙트럼의 분리(분산), 식별 및 강도 측정에 사용되는 기술을 통해 파장 분산(WDXRF)에너지 분산(EDXRF) 시스템의 두 가지 주요 유형의 분광기가 개발되었습니다.

Zetium

Epsilon 제품군

Axios FAST

2830 ZT

Zetium Epsilon 제품군 Axios FAST 2830 ZT

구성요소의 탁월함

고속 샘플 처리

고급 반도체 박막 계측학 솔루션

자세한 내용은 자세한 내용은 자세한 내용은 자세한 내용은
측정 유형
박막 계측학
Elemental analysis
Contaminant detection and analysis
Elemental quantification
입자의 화학적 성분
기술 유형
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)
원소 범위 Be-U Na-Am, C-Am Be-U Be-U
LLD 0.1 ppm - 100% 1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
해상도(Mg-Ka) 35eV 145eV 35eV 35eV
샘플 처리량 160per 8h day - 240per 8h day 240per 8h day - 480per 8h day up to 25 wafers per hour