전자 장치 및 반도체

대형 및 박막 전자 부품 제조를 위한 계측 솔루션

재료 연구 및 반도체 기술의 발전으로 생활 방식이 크게 변화되었습니다. 이러한 기술은 휴대폰, 스마트 웨어러블, 장난감, 노트북, 무선 네트워크, 홈 인포테인먼트 시스템, 자동차, 스마트 미터 등 일상 생활의 거의 모든 측면에서 발전을 주도해 왔습니다. 

전자 디스플레이, 데이터 저장 및 RF 필터 기술 산업은 빠르게 발전했으며, 변화의 속도는 무어의 법칙에 따라 계속 변화하고 있습니다. 성장 기술은 이제 마이크론에서 단층에 이르는 막 두께를 나타내는 개별 층으로 이루어진 다층 구조의 증착을 가능하게 합니다. 

고급 박막 장치에 사용되는 일반적인 재료는 반도체, 금속 합금, 유전체, 산화물 및 중합체입니다. 이를 위해서는 여러 조사 기법을 사용하여 기기 매개변수를 정확하게 모니터링하고 제어해야 합니다. 마찬가지로 중요한 것은 CMP 슬러리와 같은 박막 장치 제조에 필수 요소인 공정 재료에 대한 정밀한 제어입니다. 

박막 기반 장치는 일반적으로 복잡한 다단계 제조 프로세스를 사용하여 제조됩니다. X선 형광(XRF) 및 X선 회절(XRD)은 모든 단계에서 주요 박막 매개변수를 모니터링하고 제어하는 제조 공정의 핵심 부분입니다.  전자 디스플레이는 액정, 안료 분산, 양자 점, OLED와 같은 다양한 기술을 사용합니다. 대부분의 경우 입자 크기와 형상은 중요한 역할을 하며 신뢰할 수 있는 특성 분석이 필요합니다. OLED에서 크기 및 분자량 같은 중합체 특성을 엄격하게 제어하는 것은 디스플레이 품질에 있어 가장 중요한 요소입니다.

전자제품 산업을 위한 분석 솔루션

Malvern Panalytical은 전체 가치 사슬에 걸쳐 다양한 솔루션을 제공하는 전자 산업과 밀접한 관련이 있습니다.


  • XRF(2830 ZT)는 최대 300mm 크기의 웨이퍼에 오염과 도펀트 수준, 표면 균일성을 통해 다양한 박막 물질에 대한 두께 및 조성 정보를 제공합니다.
  • XRD(X'Pert3 MRDX'Pert3 MRD XL)는 결정 성장에 대한 계산이 필요 없는 절대적이고 정확한 정보를 제공하여 재료 조성, 박막 두께, 경사 프로필, 위상 및 결정 품질을 제공합니다.
  • 레이저 회절(Mastersizer 3000)은 분말 및 슬러리 분산(예: CMP 슬러리 및 전자 디스플레이 물질)의 입도 분포를 측정합니다.
  • 이미징(Morphologi 4)은 자동 이미징을 사용하여 입자 모양과 형태를 분석합니다. 
  • Zeta 전위(Zetasizer 시리즈)는 제타 전위의 측정을 통해 전자 산업에서 사용되는 슬러리의 안정성을 결정합니다. 또한 나노 입자 현탁액의 입자 크기를 측정합니다.
  • GPC/SEC(OMNISEC)은 전자 산업에서 사용되는 분자의 크기, 분자량, 고유 점도, 분지화 및 기타 매개 변수를 분석합니다. 
  • XRF(Epsilon 4): 원재료 및 완제품에 대한 화학적 조성 분석과 전자 부품에 대한 RoHS/WEEE 분석.
  • XRD(Aeris): 전자 산업에서 원료 및 완제품에 대한 결정상 분석.

당사의 솔루션

2830 ZT

고급 반도체 박막 계측 도구
2830 ZT

X'Pert³

개선된 X’Pert 플랫폼
X'Pert³

OMNISEC

절대 분자량, 고유 점도 및 기타 고분자 매개변수를 측정하는 GPC/SEC 솔루션.
OMNISEC

Epsilon 4

화학 조성 및 불순물 분석을 위한 벤치탑 XRF
Epsilon 4

Aeris

결정립 크기와 결정상을 측정하는 컴팩트한 XRD
Aeris

Morphologi 4

높은 통계 정확도를 가진 입자 형상 분석
Morphologi 4