입도, 입형, 제타 전위의 측정은 전자 산업에서 중요한데, 특히 컴퓨터, 휴대전화, 디지털 기기와 같은 대부분의 전자 장비에서 사용되는 집적 회로의 원료 제조 과정에서 중요합니다. 하나의 과대 입자가 존재하는 것이 웨이퍼의 손상 또는 LCD 제품의 실패를 일으킬 수 있습니다.

연구와 설계 단계 전반에서 그리고 전자 부품의 제조와 품질 제어 시에, 말번의 산업과 응용분야에 관한 전문 지식이 결합되어 있고 사용이 간편한 말번의 기기장치를 이용하면 고객이 다음의 물질을 특성 분석하는 것이 가능합니다.

  • 광전지 생산을 위해 실리콘과 기타 웨이퍼를 폴리싱할 때 사용되는 CMP 슬러리
  • 인쇄 회로 기판에 사용되는 땜납 입자 및 스크린 인쇄 잉크
  • PCB와 다양한 디스플레이(EL, LCD, LED)에 사용되는 은, 전도성 탄소, 페이스트
  • 컬러 액정 디스플레이 장치의 염료 물질에 사용되는 나노 입자

Mastersizer 시리즈

Zetasizer 시리즈

Morphologi 시리즈

미소부위 분석용 Epsilon 1

Epsilon 4

Mastersizer 시리즈

전 세계에서 가장 널리 사용하는 입도분석기.

Zetasizer 시리즈

나노 입자, 콜로이드, 단백질 크기 및 전하 측정을 위해 세계에서 가장 많이 사용되는 시스템

Morphologi 시리즈

수준 높은 입자 특성 분석을 위한 자동 영상 처리 기술

미소부위 분석용 Epsilon 1

미소 분석을 통한 큰 그림 보기

Epsilon 4

신속하고 정확한 앳라인 원소 분석

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측정 유형 Particle size Molecular size, Particle size, Molecular weight, Zeta potential Particle shape, Particle size, Chemical identification Contaminant detection and analysis, Elemental analysis, Elemental quantification Elemental analysis, Elemental quantification, Contaminant detection and analysis
입도 범위 0.01µm - 3500µm 0.3nm - 10µm 0.5µm - 1000µm
온도 범위 0°C - 120°C
원소 범위 Na-Am C-Am
샘플 처리량 40per 8h day - 80per 8h day 80per 8h day - 160per 8h day
해상도(Mg-Ka) 145eV 135eV
기술 유형 Laser Diffraction Dynamic Light Scattering, Static Light Scattering, Size Exclusion Chromatography (SEC), Electrophoretic Light Scattering Image analysis X-ray Fluorescence (XRF) Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)
LLD 1 ppm - 100% 1 ppm - 100%
분산 유형 Dry, Wet, Wet and Dry Wet
시료 셀 유형 Cuvette