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商标
| 商标 | 状态 |
|---|---|
| 1DER | ® |
| AERIS | ® |
| AERIS PANALYTICAL | ® |
| (ASD Inc) logo | ® |
| AMASS | ® |
| AMPLIFY ANALYTICS | ® |
| AMPLIFY ANALYTICS (+ Logo) | ® |
| Archimedes | ® |
| AXIOS | ® |
| CHI-BLUE | ® |
| Claisse | ® |
| Claisse (+ Logo) | ® |
| CREOPTIX | ® |
| CUBIX | ® |
| CUBIX3 | ® |
| dCore | ™ |
| EAGON | ® |
| Eagon 2 | ® |
| EASY SAXS | ® |
| EMPYREAN | ® |
| EPSILON | ® |
| EPSILON X-FLOW | ® |
| EXPERT SAXS | ® |
| EASY SAXS | ® |
| FieldSpec | ® |
| FIPA | ™ |
| FLUOR’X | ® |
| GALIPIX 3D | ® |
| Gemini | ™ |
| goLab | ™ |
| HandHeld 2 | ™ |
| HIGHSCORE | ® |
| Hydrosight | ™ |
| iCore | ™ |
| Indico Pro | ™ |
| Insitec | ® |
| (Insitec logo) | ® |
| (Insitec Measurement Systems logo) | ® |
| ISys | ® |
| LabSizer | ™ |
| LabSpec | ® |
| LeNeo | ® |
| LeDoser | ™ |
| LeDoser-12 | ™ |
| M3 PALS | ™ |
| M4 | ™ |
| MADLS | ® |
| Malvern | ® |
| (Triangular hills logo + Malvern Instruments) | ® |
| Malvern in Chinese characters | ® |
| Malvern Instruments | ® |
| Malvern Instruments in Chinese characters | ® |
| Malvern Link | ™ |
| (Malvern Plus Hills Logo) | ® |
| MALVERN PANALYTICAL | ® |
| MALVERN PANALYTICAL in Chinese characters | ® |
| MALVERN PANALYTICAL in Katakana | ® |
| MALVERN PANALYTICAL in Korean script | ® |
| MALVERN PANALYTICAL (+ X Logo) | ® |
| Mastersizer | ® |
| Mastersizer 2000 | ™ |
| MC (stylised) | ® |
| MDRS | ® |
| Microcal | ® |
| Morphologi | ® |
| (Triangular hills logo) | ® |
| Nanosight | ® |
| NIBS | ™ |
| OIL-TRACE | ® |
| OMNIAN | ® |
| OMNISEC | ® |
| OMNITRUST | ® |
| PANALYTICAL | ® |
| PANALYTICAL LOGO (picture) | ® |
| PANTOS | ® |
| PEAQ-ITC | ® |
| PIXCEL | ® |
| PIXCEL 1D | ® |
| PIXCEL 3D | ® |
| PIXIRAD | ® |
| QualitySpec | ® |
| Spraytec | ™ |
| SST | ® |
| SST-MAX | ® |
| SUPER SHARP TUBE | ® |
| STRATOS | ® |
| SUPER Q | ® |
| SyNIRgi | ™ |
| TerraSpec | ® |
| TheOx® Advanced | ® |
| Ultrasizer | ™ |
| VENUS MINILAB | ® |
| ViewSpec | ™ |
| Viscogel | ™ |
| Viscotek | ® |
| Viscotek SEC-MALS | ™ |
| WAVECHIP | ® |
| WE'RE BIG ON SMALL | ™ |
| (X Logo) | ® |
| X’CELERATOR | ® |
| XPERT3 | ® |
| Zetasizer | ® |
| ZETIUM | ® |
| ZS Helix | ® |
專利
Malvern Panalytical 有一系列獨創且領先市場的產品受到下列專利及專利之申請的保護
Mastersizer
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| GB2494735B | 利用光散射量測粒徑分佈的裝置 | MS3000、MS3000E |
| CN104067105B
EP2756283B1 (GB、FR、DE602012015707.0) US9869625B2 JP6154812B | 利用光散射量測粒徑分佈的裝置與方法 | MS3000、MS3000E |
| US10837889B2
GB2494734B | 利用光散射量測粒徑分佈的裝置與方法 | MS3000、MS3000E |
Zetasizer
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US7217350B2
| 表面電荷引發的遷移率與效應 | Zetasizer Advance 系列、Nano ZS、Nano Z、Nano ZS90、Nano ZSP、Helix |
| EP2467701B1 (CH+LI、GB、FR、DE602010067652.8)
CN102575984B US9279765B2 JP5669843B2 US10317339B2 US11237106B2 | 採用改良式單次散射模式偵測的複雜流體動態光散射式微流變學 | Zetasizer Advance 系列、Nano ZSP、Helix |
| CN103608671B
CN105891304B EP2721399B1 (BE、CH+LI、DK、FR、GB、NL、DE602012031338.2、IT502017000050268) JP6023184B2 US9829525B2 US10274528B2 US11079420B2 | 表面電荷量測 | Zeta Plate Cell 配件 |
| US8702942B2
CN103339500B EP2652490B1 (GB、FR、DE602011046775.1) JP06006231B2 JP06453285B2 US10648945B2 | 採用散阻障層的雷射杜卜勒電泳儀 | Zetasizer Advance 系列、Nano ZS、Nano S、Nano ZS90、S90、Nano ZSP |
| EP2742337B1 (GB、FR、DE602012018122.2)
US9816922B2 | 雙模式顆粒特性分析 | Zetasizer Helix |
| US10197485B2
US10520412B2 US10845287B2 US11435275B2 EP3353527A1 JP6936229B2 CN108291861B | 顆粒特性分析 | Zetasizer Advance 系列 |
| US10119910B2 | 顆粒特性分析儀器 | Zetasizer Advance：Ultra 和 Pro |
| US8675197B2
JP6059872B2 EP2404157B1 (GB、FR、DE602010066495.3) | 顆粒特性分析 | Zetasizer Advance 配件 |
| EP3521806A1
US11441991B2 CN111684261A JP2021513649A | 多角度動態光散射 | Zetasizer Advance： Ultra |
Insitec
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US7418881B2
EP1592957B1 (GB) | 稀釋系統與方法 | Insitec (部分產品) |
| US7871194B2
EP1869429B1 (GB、FR、DE602006060213.8) | 稀釋系統與方法 | Insitec (部分產品) |
| EP2640499B1 (GB) | 線上分散裝置與粉末調和方法 | Insitec dry |
Morphologi
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| EP2106536B1 (GB、FR、DE602008039489.1)
US8111395B2 US8564774B2 | 異質性光譜研究 | Morphologi G3-ID |
| GB2522735B
JP6560849B2 | 粉末分散方法與裝置 | Morphologi G3-ID、Morphologi G3 |
Viscosizer
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US11113362B2
JP6917897B2 EP3274864A1 CN107430593B | 多成分模型參數化 | Viscosizer TD |
Hydro Sight
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US8456633B2 | 光譜測量流程監控 | Hydro Sight |
| CN104704343B
EP2864760A2 US10509976B2 | 非均質流體樣品特性分析 | Hydro Sight |
NanoSight
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US7751053B2
JP04002577B2 EP1499871B1 (FR、DE60335872.1) US7399600B2 | 用於顆粒分析的光學偵測 | NanoSight NS300
NanoSight NS500 NanoSight LM10 |
| EP3071944B1 (GB、FR、DE602014059002.0)
US9909970B2 JP6505101B2 CN105765364B | 儀器校準方面或相關改良 | NanoSight NS300 |
MicroCal ITC
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| CN101855541B
EP2208057A1 JP05542678B2 US8449175B2 US8827549B2 | 等溫滴定微量熱儀裝置與使用方法 | MicroCal ITC 系列 |
| CN102232184B
EP2352993B1 (CH+LI、GB、FR、DE602009044685.1) JP5476394B2 US9103782B2 US9404876B2 US10036715B2 US10254239B2 EP3144666B1 (CH+LI、GB、FR、DE602009059932.1) US20200025698A1 EP3647776A1 | 自動等溫滴定微量熱儀裝置與使用方法 | MicroCal ITC 系列 |
MicroCal DSC
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US8635045B2
CN103221808B EP2646811B1 (GB、FR、DE 602011071793.6) IN336472 JP5925798B2 | 自動量熱資料波峰探尋方法 | MicroCal DSC 系列 |
OMNISEC
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US9759644B2
US10551291B2 | 平衡毛細橋黏度計 | OMNISEC |
| US9612183B2
EP2619543B1 (GB、FR、DE602011011174.4) JP05916734B2 CN103168223B IN341558 | 模組化毛細橋黏度計 | OMNISEC |
QualitySpec 7000
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US8164747B2
CA2667650C EP2092296B1 (CH+LI、NL、SE、DK、DE602007045593.6) | 光學光譜量測裝置、系統與方法 | QualitySpec 7000 |
TerraSpec Halo
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US9207118B2 | 掃描單光儀和二極體陣列光譜儀設備的裝置、系統與方法 | TerraSpec Halo |
QualitySpec Trek
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US9207118B2 | 掃描單光儀和二極體陣列光譜儀設備的裝置、系統與方法 | QualitySpec Trek |
立地式 XRF
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US8210000B2
JP5554163B2 CN101941789B EP2270410B1 (GB、FR、NL、DE602009003389.1) AU2010202662B2 | 熔融爐 | Zetium
Axios FAST Epsilon5 |
| EP1701154B1 (FR、DE)
JP4950523B2 | 像差校正裝置與方法
| Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (晶圓分析儀)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US7949092B2
| 用於執行 X 光分析的裝置與方法
| Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (晶圓分析儀)* Epsilon5* SEMYOS |
| JP5782451B2
EP2510397B1 (GB、FR、NL、DE602010021859.7) | 針對應用於 xuv 波長範圍之具有橫向模式的多層結構製造方法，以及使用此方法製造的 bg 和 Imag 結構 | Zetium*
Axios FAST 2830 ZT (晶圓分析儀)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US9658352B2
CN104833557B JP656263B2 JP6804594B2 | 制定標準的方法 | Zetium
Axios FAST |
| EP2787342B1 (GB、FR、NL、DE602013028642.6)
JP6360151B2 | 壓錠式樣品製備 | Zetium
Axios FAST |
| US10107551B2
EP2966039B1 (GB、FR、NL、DE602014024004.2) JP6559486B2 CN105258987B | 使用助熔劑和白金坩堝製備 XRF 樣品 | Zetium
Axios FAST |
| US9784699B2
JP6861469B2 CN105937890B EP3064931B1 (GB、FR、NL、CH、DE602016057221.4) | 定量 X 光分析 - 基材厚度校正 | Zetium*
Axios FAST |
| US9739730B2
JP6706932B2 CN105938113B EP3064933B1 (GB、FR、NL、CH、DE602016056347.9) | 定量 X 光分析 - 多光路儀器 | Zetium*
Axios FAST |
| US9851313B2
JP6762734B2 CN105938112B EP3064932B1 (GB、FR、NL、CH+LI、DE602016024126.9) | 定量 X 光分析 - 比率校正 | Zetium*
Axios FAST |
| US9239305B2 | 樣品載台 | Zetium*
Axios FAST* Epsilon5 |
| US7978820B2
| X 光繞射與螢光 | Zetium
Axios FAST* 2830 ZT (晶圓分析儀)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US7720192B2
JP5574575B2 CN101311708B | X 光螢光裝置 | Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (晶圓分析儀)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US7194067B2
| X 光光學系統 | Zetium
Axios FAST* 2830 ZT (晶圓分析儀)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US8223923B2
JP5266310B2 CN101720491B EP1983547B1 (GB、FR、NL、DE602008000361D1) | 具金屬線陰極的 X 光光源 | Zetium
Axios FAST 2830 ZT (晶圓分析儀) Epsilon5 SEMYOS |
| US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B2 (GB、FR、NL、DE602015012421.9) | X 光管陽極配置
| Zetium
Axios FAST 2830 ZT (晶圓分析儀) Epsilon5 SEMYOS |
| US10281414B2
EP3330701B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602017006751.2) EP3480587B1 (GB、FR、NL、DE602017061400.9) US10393683B2 JP6767961B2 CN108132267A | 用於 X 光量側的圓錐準直儀 | Zetium* |
| *· 選配/非產品標配 | ||
桌上型 XRF
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US8210000B2
JP5554163B2 CN101941789B EP2270410B1 (GB、FR、NL、DE602009003389.1) | 熔融爐 | Epsilon 1 系列
Epsilon 3X 光譜儀 Epsilon 4 空氣品質版本 |
| EP1701154B1 (FR、DE)
JP4950523B2 | 像差校正裝置與方法
| Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US7949092B2
| 用於執行 X 光分析的裝置與方法
| Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9658352B2
CN104833557B JP6562635B2 JP6804594B2 | 制定標準的方法 | Epsilon 1 系列
Epsilon 3X 光譜儀 Epsilon 4 空氣品質版本 |
| EP2787342B1 (GB、FR、NL、DE602013028642.6)
JP6360151B2 | 壓錠式樣品製備 | Epsilon 1 系列
Epsilon 3X 光譜儀 Epsilon 4 空氣品質版本 |
| US10107551B2
JP6559486B2 CN105258987B EP2966039B1 (GB、FR、NL、DE602014024004.2) | 使用助熔劑和白金坩堝製備 XRF 樣品 | Epsilon 1 系列
Epsilon 3X 光譜儀 Epsilon 4 空氣品質版本 |
| US9784699B2
JP6861469B2 CN105937890B EP3064931B1 (GB、FR、NL、CH、DE602016057221.4) | 定量 X 光分析 - 基材厚度校正 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9739730B2
JP6706932B2 CN105938113B EP3064933B1 (GB、FR、NL、CH、DE602016056347.9) | 定量 X 光分析 - 多光路儀器 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9851313B2
JP6762734B2 CN105938112B EP3064932B1 (GB、FR、NL、CH+LI、DE602016024126.9) | 定量 X 光分析 - 比率校正 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9239305B2 | 樣品載台 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9547094B2
CN104849295B EP2908127B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602014011398.2) JP6526983B2 | X 光分析裝置
| Epsilon 1 系列
Epsilon 3X 光譜儀 Epsilon 4 空氣品質版本 |
| US7978820B2
| X 光繞射與螢光 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US8223923B2
JP5266310B2 CN101720491B EP1983547B1 (GB、FR、NL、DE602008000361D1) | 具金屬線陰極的 X 光光源 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B2 (GB、FR、NL、DE602015012421.9) | X 光管陽極配置
| Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| * 選配/非產品標配 | ||
立地式 XRD
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| EP1701154B1 (FR、DE)
JP4950523B2 | 像差校正裝置與方法 | Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) CubiX³ 系列 |
| US9506880B2
CN104251870B EP2818851A1 JP6403452B2 | 繞射成像 | Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ 系列# |
| US7116754B2 | 繞射儀 | Empyrean#
|
| US7858945B2
JP5254066B2 CN101521246B EP2088451B1 (GB、FR、NL、DE602008041760.3) | 影像偵測器 | Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ 系列# |
| EP2088625B1 (GB、FR、NL、CH + LI、DE602009040563.2) | 影像偵測器 | Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ 系列# |
| US9110003B2
CN103383363B EP2634566B1 (GB、FR、NL、DE602012058202.2) JP6198406B2 | 微束繞射
| Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ 系列# |
| US9640292B2
CN104777179B EP2896960B1 (GB、FR、NL、DE602014012155.1) JP6564683B2 | X 光裝置
| Empyrean
X'Pert³ Powder CubiX³ 系列 |
| US7756248B2
JP5145263B2 CN101545873B EP2090883B1 (GB、FR、NL、DE602008002143D1) | 針對包裝的 X 光偵測
| Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) |
| US8477904B2
JP5752434B2 CN102253065B EP2365319B1 (GB、FR、NL、DE602011055847.1) | X 光繞射與斷層掃描 | Empyrean
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³ 系列* |
| US7542547B2
JP5280057B2 CN101256160B EP1947448B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602007031351.1) | 用於 X 光散射的 X 光繞射設備
| X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)* |
| US7477724B2
EP1703276B1 (GB、FR、NL、DE602005033962.0) | X 光儀器 | Empyrean*
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³ 系列 |
| US8437451B2
JP5999901B2 CN102610290B EP2477191B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602011035906.1) | X 光快門配置 | Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) CubiX³ 系列 |
| US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B1 (GB、FR、NL、DE602015012421.9) | X 光管陽極配置
| Empyrean*
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³ 系列* |
| EP3553508A2
US11035805B2 JP2019184609A CN110389142B | X 光分析裝置與方法 | Empyrean* |
| US10359376B2
EP3273229A1 JP6701133B2 CN107643308B | 適用 X 光分析的樣品載台 | Empyrean* |
| US10782252B2
CN110376231A EP3553506A2 JP2019184610A | 採用光束發散度混合控制的 X 光分析裝置與方法 | Empyrean
X'Pert³ CubiX³ 系列 |
| US10753890B2
EP3372994B1 (AT、CZ、GB、FR、NL、PL、DE602018003874.4) CN108572184B JP6709814B2 | 高解析 X 光繞射方法與裝置 | Empyrean* |
| EP3553509B1 (AT、GB、FR、NL、DE602019017362.8)
JP2019184611A1 US10900912B2 CN110389143A | X 光分析裝置 | Empyrean* |
| US10352881B2
EP3343209B1 (GB、FR、NL、DE602017032595.3) CN108240998B JP6839645B2 | X 光斷層掃描 (CT) | Empyrean* |
| US9753160B2
CN104285164B EP2850458B1 (GB、FR、NL、DE602013040524.7、IT502018000029139) JP6277351B2 | 數位 X 光感測器 | Empyrean
X'Pert³ CubiX³ 系列 |
| * 選配/非產品標配
# 可依特殊要求而提供 | ||
桌上型 XRD
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| EP1701154B1 (FR、DE)
JP4950523B2 | 像差校正裝置與方法 | Aeris
|
| US9506880B2
CN104251870B EP2818851A1 JP6403452B2 | 繞射成像 | Aeris*
|
| US7116754B2 | 繞射儀 | Aeris*
|
| EP2088625B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602009040563.2) | 影像偵測器 | Aeris*
|
| US9640292B2
JP6564572B2 CN104777179B EP2896960B1 (GB、FR、NL、DE602014012155.1) | X 光裝置 | Aeris |
| US8477904B2
JP5752434B2 CN102253065B EP2365319B1 (GB、FR、NL、DE602011055847.1) | X 光繞射與斷層掃描 | Aeris*
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| US7542547B2
JP5280057B2 CN101256160B EP1947448B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602007031351.1) | 用於 X 光散射的 X 光繞射設備
| Aeris*
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| US7477724B2
EP1703276B1 (GB、FR、NL、DE602005033962.0) | X 光儀器 | Aeris*
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| US8437451B2
JP5999901B2 CN102610290B EP2477191B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602011035906.1) | X 光快門配置 | Aeris
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| US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B1 (GB、FR、NL、DE602015012421.9) | X 光管陽極配置
| Aeris*
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| US10753890B2
EP3372994B1 (AT、CZ、DE602018003874.4、GB、FR、NL、PL) CN108572184B JP6709814B2 | 高解析 X 光繞射方法與裝置
| Aeris*
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* 選配/非產品標配 | ||