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商標清單最近更新日期：2025 年 3 月 20 日
| 商標 | 狀態 |
|---|---|
| 1DER | ® |
| AERIS | ® |
| AERIS PANALYTICAL | ™
|
| ASD | ™
|
| (ASD Inc) 標誌 | ® |
| AMASS | ® |
| AMPLIFY ANALYTICS | ® |
| AMPLIFY ANALYTICS (+ 標誌) | ® |
| Archimedes | ® |
| AXIOS | ® |
| CHI-BLUE | ® |
| CLAISSE | ® |
| Claisse (+ 標誌) | ® |
| CREOPTIX | ® |
| CUBIX | ® |
| CubiX3 | ® |
| dCore | ™ |
| EAGON | ® |
| Eagon 2 | ™
|
| EasySAXS | ® |
| EMPYREAN | ® |
| EPSILON | ® |
| EPSILON Xflow | ® |
| ExpertSAXS | ® |
| FIELDSPEC | ® |
| FIPA | ™ |
| FLUOR’X | ® |
| FORJ | ™
|
| GaliPIX3D | ® |
| Gemini | ™ |
| goLab | ™ |
| HandHeld 2 | ™ |
| HighScore | ® |
| Hydrosight | ™ |
| iCore | ™ |
| Indico Pro | ™ |
| INSITEC | ® |
| (Insitec 標誌) | ® |
| (Insitec Measurement Systems 標誌) | ® |
| ISYS | ® |
| LabSizer | ™ |
| LABSPEC | ® |
| LeNeo | ® |
| LeDoser | ™ |
| LeDoser-12 | ™ |
| M3 PALS | ™ |
| M4 | ™ |
| MADLS | ® |
| MALVERN | ® |
| (三角形山形標誌 + Malvern Instruments) | ® |
| 马尔文 (Malvern 的簡體中文寫法) | ® |
| MALVERN INSTRUMENTS | ® |
| 马尔文仪器 (Malvern Instruments 的簡體中文寫法) | ™
|
| Malvern Link | ™ |
| (Malvern Plus 山型標誌) | ® |
| MALVERN PANALYTICAL | ® |
| 马尔文帕纳科 (MALVERN PANALYTICAL 的簡體中文寫法) | ® |
| マルバーン·パナリティカル (MALVERN PANALYTICAL 的片假名寫法) | ® |
| 말번 파날리티칼 (MALVERN PANALYTICAL 的韓文寫法) | ® |
| MALVERN PANALYTICAL (+ X 標誌) | ® |
| MASTERSIZER | ® |
| Mastersizer 2000 | ™ |
| MC (設計字體) | ™
|
| MDRS | ® |
| MICROCAL | ® |
| MORPHOLOGI | ® |
| (三角形山形標誌) | ® |
| NanoSight | ® |
| NIBS | ™ |
| Oil-Trace | ® |
| Omnian | ® |
| OmniSEC | ® |
| OmniTrust | ® |
| PANALYTICAL | ® |
| 帕纳科 (PANALYTICAL 的簡體中文寫法) | ® |
| パナリティカル (PANALYTICAL 的片假名寫法) | ® |
| PANalytical AERIS | ® |
| PANalytical + 標誌 | ® |
| PANTOS | ™
|
| PEAQ-ITC | ® |
| PIXcel | ® |
| PIXcel1D | ® |
| PIXcel3D | ® |
| PIXIRAD | ® |
| QUALITYSPEC | ® |
| REVONTIUM
| ® |
| SMART RETURN
| ™ |
| Spraytec | ™ |
| SST | ® |
| SST-mAX | ® |
| SUPER SHARP TUBE | ® |
| Stratos | ® |
| SuperQ | ® |
| SyNIRgi | ™ |
| TERRASPEC | ® |
| TheOx | ® |
| Ultrasizer | ™ |
| VENUS MINILAB | ™
|
| ViewSpec | ™ |
| Viscogel | ™ |
| VISCOTEK | ® |
| Viscotek SEC-MALS | ™ |
| WAVEchip | ® |
| WAVEcore | ® |
| waveRAPID
| ® |
| WE'RE BIG ON SMALL | ®
|
| (X 標誌) | ® |
| X’CELERATOR | ® |
| X'Pert3 | ® |
| ZETASIZER | ® |
| ZETIUM | ® |
| ZS Helix | ™ |
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專利清單最近更新時間：2025 年 3 月 20 日
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| GB2494735B | 利用光散射量測粒徑分佈的裝置 | Mastersizer 3000、Mastersizer 3000E、Mastersizer 3000+ 系列 |
| CN104067105B (ZL201280042740.0)
EP2756283B1 (GB、FR、DE602012015707.0) US9869625B2 JP6154812B2 | 利用光散射量測粒徑分佈的裝置與方法 | Mastersizer 3000、Mastersizer 3000+ Ultra |
| US10837889B2
GB2494734B | 利用光散射量測粒徑分佈的裝置與方法 | Mastersizer 3000、Mastersizer 3000E、Mastersizer 3000+ 系列 |
| WO2024023498A2
EP4312015A1 | 顆粒特性分析 | Mastersizer 3000+：Pro 與 Ultra |
| WO2024023497A1 | 資料品質 | Mastersizer 3000+：Pro 與 Ultra |
| WO2024180386A1 | 顆粒特性分析 | Mastersizer 3000+：Ultra |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| EP2467701B1 (CH+LI、GB、FR、DE602010067652.8)
CN102575984B (ZL201080036806.6) US9279765B2 JP5669843B2 US10317339B2 US11237106B2 | 採用改良式單次散射模式偵測的複雜流體動態光散射式微流變學 | Zetasizer Advance 系列、Nano ZSP、Helix |
| CN103608671B (ZL201280027695.1)
CN105891304B (ZL201610324224.7) EP2721399B1 (BE、CH+LI、DK、FR、GB、NL、DE602012031338.2、IT502017000050268) JP6023184B2 US9829525B2 US10274528B2 US11079420B2 | 表面電荷量測 | Zeta Plate Cell 配件 |
| US8702942B2
CN103339500B (ZL201180060863.2) EP2652490B1 (GB、FR、DE602011046775.1) JP6006231B2 JP6453285B2 US10648945B2 US11988631B2 | 採用散阻障層的雷射杜卜勒電泳儀 | Zetasizer Advance 系列、Nano ZS、Nano S、Nano ZS90、S90、Nano ZSP |
| EP2742337B1 (GB、FR、DE602012018122.2)
US9816922B2 | 雙模式顆粒特性分析 | Zetasizer Helix |
| US10197485B2
US10520412B2 US10845287B2 US11435275B2 EP3353527B1 (GB、FR、DE602016077138.1) JP6936229B2 CN108291861B (ZL201680068213.5) JP7361079B EP4215900A1 | 顆粒特性分析 | Zetasizer Advance 系列 |
| US10119910B2 | 顆粒特性分析儀器 | Zetasizer Advance：Ultra 和 Pro |
| US8675197B2
JP6059872B2 EP2404157B1 (GB、FR、DE602010066495.3) | 顆粒特性分析 | Zetasizer Advance 配件 |
| EP3521806B1 (AT、FR、GB、DE602018077164.6)
US11441991B2 CN111684261B (ZL201980011816.5) JP7320518B2 | 多角度動態光散射 | Zetasizer Advance：Ultra |
| 設計：
DM/100202 (EM：D100202-0001、D100202-0002；GB：81002020001000、81002020002000；JP：JP1614066S；US： D878227S) CN304816039S (ZL201730635419.9) | 顆粒特性分析裝置 | Zetasizer Advance 系列 |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US7871194B2
EP1869429B1 (GB、FR、DE602006060213.8) | 稀釋系統與方法 | Insitec (部分產品) |
| EP2640499B1 (GB) | 線上分散裝置與粉末調和方法 | Insitec dry |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| EP2106536B1 (GB、FR、DE602008039489.1)
US8111395B2 US8564774B2 | 異質性光譜研究 | Morphologi G3-ID、Morphologi 4-ID |
| GB2522735B
JP6560849B2 | 粉末分散方法與裝置 | Morphologi G3-ID、Morphologi G3、Morphologi 4、Morphologi 4-ID |
| EP3510526B1 (GB、FR、DE60217072468.8)
US11068740B2 CN109716355B (ZL201780054158.9) JP7234106B2 | 顆粒邊界識別 | Morphologi 4、Morphologi 4-ID |
| US8004662B2
US8842266B2 | 藥用混合物評估 | Morphologi 4-ID |
| 設計：
DM/100537 (EM：D100 537-0001、D100 537-0002；GB：81005370001000、81005370002000；JP：JP1622788S、JP1623345S；US： D862261S1) CN304677453S (ZL201730616458.4) | 測量儀器 [測量時間的儀器除外] | Morphologi 4、Morphologi 4-ID |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US11113362B2
JP6917897B2 EP3274864A1 CN107430593B (ZL201680017577.0) | 多成分模型參數化 | Viscosizer TD |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| CN104704343B (ZL201380044016.6)
EP2864760B1 (GB、FR、DE602013085354.1) US10509976B2 | 非均質流體樣品特性分析 | Hydro Sight |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| EP3071944B1 (GB、FR、DE602014059002.0)
US9909970B2 JP6505101B2 CN105765364B (ZL201480063550.6) | 儀器校準方面或相關改良 | NanoSight NS300、NanoSight Pro |
| WO2023148528A1
EP4476523A1 CN118984933A JP2025505204A | 顆粒分析 | NanoSight Pro |
| WO2024094987A1 | 用於特性分析顆粒的裝置與方法 | NanoSight Pro |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| CN101855541B (ZL200880114826.3)
EP2208057B1 (CH+LI、GB、FR、DE602008065108.8) JP05542678B2 US8449175B2 US8827549B2 | 等溫滴定微量熱儀裝置與使用方法 | MicroCal ITC 系列 |
| CN102232184B (ZL200980149081.9)
EP2352993B1 (CH+LI、GB、FR、DE602009044685.1) JP5476394B2 US9103782B2 US9404876B2 US10036715B2 US10254239B2 EP3144666B1 (CH+LI、GB、FR、DE602009059932.1) US20200025698A1 EP3647776B1 (CH+LI、GB、FR、DE602009065333.4) | 自動等溫滴定微量熱儀裝置與使用方法 | MicroCal ITC 系列 |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US8635045B2
CN103221808B (ZL201180057401.5) EP2646811B1 (GB、FR、DE 602011071793.6) IN336472 JP5925798B2 | 自動量熱資料波峰探尋方法 | MicroCal DSC 系列 |
| 設計：
DM/097302 (EM：D097 302；GB：80973020001000；JP：JP1619772S、JP1643496S；US：D826739S1) CN304227374S (ZL201730043139.9) | 微量差示掃描熱量計 | PEAQ-DSC 系列 |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US9759644B2
US10551291B2 | 平衡毛細橋黏度計 | OMNISEC |
| US9612183B2
EP2619543B1 (GB、FR、DE602011011174.4) JP5916734B2 CN103168223B (ZL201180046166.1) IN341558 | 模組化毛細橋黏度計 | OMNISEC |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US8164747B2
CA2667650C EP2092296B1 (CH+LI、NL、SE、DK、DE602007045593.6) | 光學光譜量測裝置、系統與方法 | QualitySpec 7000 |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US9207118B2 | 掃描單光儀和二極體陣列光譜儀設備的裝置、系統與方法 | TerraSpec Halo |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US9207118B2 | 掃描單光儀和二極體陣列光譜儀設備的裝置、系統與方法 | QualitySpec Trek |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US8210000B2
JP5554163B2 CN101941789B (ZL201010223406.8) EP2270410B1 (GB、FR、NL、DE602009003389.1) AU2010202662B2 | 熔融爐 | Zetium
Axios FAST Epsilon5 |
| JP4950523B2
| 像差校正裝置與方法
| Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (晶圓分析儀)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US7949092B2
| 用於執行 X 光分析的裝置與方法
| Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (晶圓分析儀)* Epsilon5* SEMYOS |
| US9658352B2
CN104833557B (ZL201510120748.X) JP656263B2 JP6804594B2 | 制定標準的方法 | Zetium
Axios FAST |
| EP2787342B1 (GB、FR、NL、DE602013028642.6)
JP6360151B2 | 壓錠式樣品製備 | Zetium
Axios FAST |
| US10107551B2
EP2966039B1 (GB、FR、NL、DE602014024004.2) JP6559486B2 CN105258987B (ZL201510504763.4) | 使用助熔劑和白金坩堝製備 XRF 樣品 | Zetium
Axios FAST |
| US9784699B2
JP6861469B2 CN105937890B (ZL201610119027.1) EP3064931B1 (GB、FR、NL、CH、DE602016057221.4) | 定量 X 光分析 - 基材厚度校正 | Zetium*
Axios FAST |
| US9739730B2
JP6706932B2 CN105938113B (ZL201610121520.7) EP3064933B1 (GB、FR、NL、CH、DE602016056347.9) | 定量 X 光分析 - 多光路儀器 | Zetium*
Axios FAST |
| US9851313B2
JP6762734B2 CN105938112B (ZL201610121518.X) EP3064932B1 (GB、FR、NL、CH+LI、DE602016024126.9) | 定量 X 光分析 - 比率校正 | Zetium*
Axios FAST |
| US9239305B2 | 樣品載台 | Zetium*
Axios FAST* Epsilon5 |
| US7720192B2
JP5574575B2 CN101311708B (ZL200810127759.0) | X 光螢光裝置 | Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (晶圓分析儀)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US8223923B2
JP5266310B2 CN101720491B (ZL200880018575.9) EP1983547B1 (GB、FR、NL、DE602008000361D1) | 具金屬線陰極的 X 光光源 | Zetium
Axios FAST 2830 ZT (晶圓分析儀) Epsilon5 SEMYOS |
| US9911569B2
JP7154731B2 CN105810541B (ZL201610016276.8) EP3043371B2 (GB、FR、NL、DE602015012421.9) | X 光管陽極配置
| Zetium
Axios FAST 2830 ZT (晶圓分析儀) Epsilon5 SEMYOS |
| US10281414B2
EP3330701B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602017006751.2) EP3480587B1 (GB、FR、NL、DE602017061400.9) US10393683B2 JP6767961B2 CN108132267B (ZL201711251653.7) | 用於 X 光量側的圓錐準直儀 | Zetium* |
| *· 選配/非產品標配 | ||
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| US8210000B2
JP5554163B2 CN101941789B (ZL201010223406.8) EP2270410B1 (GB、FR、NL、DE602009003389.1) | 熔融爐 | Epsilon 1 系列
Epsilon 3X 光譜儀 Epsilon 4 空氣品質版本 |
| JP4950523B2
| 像差校正裝置與方法
| Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US7949092B2
| 用於執行 X 光分析的裝置與方法
| Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9658352B2
CN104833557B (ZL201510120748.X) JP6562635B2 JP6804594B2 | 制定標準的方法 | Epsilon 1 系列
Epsilon 3X 光譜儀 Epsilon 4 空氣品質版本 |
| EP2787342B1 (GB、FR、NL、DE602013028642.6)
JP6360151B2 | 壓錠式樣品製備 | Epsilon 1 系列
Epsilon 3X 光譜儀 Epsilon 4 空氣品質版本 |
| US10107551B2
JP6559486B2 CN105258987B (ZL201510504763.4) EP2966039B1 (GB、FR、NL、DE602014024004.2) | 使用助熔劑和白金坩堝製備 XRF 樣品 | Epsilon 1 系列
Epsilon 3X 光譜儀 Epsilon 4 空氣品質版本 |
| US9784699B2
JP6861469B2 CN105937890B (ZL201610119027.1) EP3064931B1 (GB、FR、NL、CH、DE602016057221.4) | 定量 X 光分析 - 基材厚度校正 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9739730B2
JP6706932B2 CN105938113B (ZL201610121520.7) EP3064933B1 (GB、FR、NL、CH、DE602016056347.9) | 定量 X 光分析 - 多光路儀器 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9851313B2
JP6762734B2 CN105938112B (ZL201610121518.X) EP3064932B1 (GB、FR、NL、CH+LI、DE602016024126.9) | 定量 X 光分析 - 比率校正 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9239305B2 | 樣品載台 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9547094B2
CN104849295B (ZL201510155965.2) EP2908127B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602014011398.2) JP6526983B2 | X 光分析裝置
| Epsilon 1 系列
Epsilon 3X 光譜儀 Epsilon 4 空氣品質版本 |
| US8223923B2
JP5266310B2 CN101720491B (ZL200880018575.9) EP1983547B1 (GB、FR、NL、DE602008000361D1) | 具金屬線陰極的 X 光光源 | Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US9911569B2
JP7154731B2 CN105810541B (ZL201610016276.8) EP3043371B2 (GB、FR、NL、DE602015012421.9) | X 光管陽極配置
| Epsilon 1 系列*
*Epsilon 3X 光譜儀* *Epsilon 4 空氣品質版本* |
| US11183355B2
EP3675148A1 JP7601502B2 CN111383876B (ZL201911390180.8) | X 光管 | Revontium |
| EP24169034.6 (尚未公開)
| 疊代計算的補充背景擬合 | Revontium |
| EP24169094.0 (尚未公開)
| 樣品處理裝置 | Revontium |
| * 選配/非產品標配 | ||
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| JP4950523B2
| 像差校正裝置與方法 | Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) CubiX³ 系列 |
| US9506880B2
CN104251870B (ZL201410299083.9) EP2818851B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602013084303.1) JP6403452B2 | 繞射成像 | Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ 系列# |
| US7858945B2
JP5254066B2 CN101521246B (ZL200910129197.8) EP2088451B1 (GB、FR、NL、DE602008041760.3) | 影像偵測器 | Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ 系列# |
| EP2088625B1 (GB、FR、NL、CH + LI、DE602009040563.2) | 影像偵測器 | Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ 系列# |
| US9110003B2
CN103383363B (ZL201310069293.4) EP2634566B1 (GB、FR、NL、DE602012058202.2) JP6198406B2 | 微束繞射
| Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ 系列# |
| US9640292B2
CN104777179B (ZL201410833194.3) EP2896960B1 (GB、FR、NL、DE602014012155.1) JP6564683B2 | X 光裝置
| Empyrean
X'Pert³ Powder CubiX³ 系列 |
| US7756248B2
JP5145263B2 CN101545873B (ZL200910134609.7) EP2090883B1 (GB、FR、NL、DE602008002143D1) | 針對包裝的 X 光偵測
| Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) |
| US8477904B2
JP5752434B2 CN102253065B (ZL201110072597.7) EP2365319B1 (GB、FR、NL、DE602011055847.1) | X 光繞射與斷層掃描 | Empyrean
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³ 系列* |
| US7542547B2
JP5280057B2 CN101256160B (ZL200810095161.8) EP1947448B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602007031351.1) | 用於 X 光散射的 X 光繞射設備
| X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)* |
| US7477724B2
| X 光儀器 | Empyrean*
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³ 系列 |
| US8437451B2
JP5999901B2 CN102610290B (ZL201210007967.3) EP2477191B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602011035906.1) | X 光快門配置 | Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) CubiX³ 系列 |
| US9911569B2
JP7154731B2 CN105810541B (ZL201610016276.8) EP3043371B1 (GB、FR、NL、DE602015012421.9) | X 光管陽極配置
| Empyrean*
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³ 系列* |
| EP3553508A2
US11035805B2 JP7398875B2 CN110389142B (ZL201910295269.X) | X 光分析裝置與方法 | Empyrean* |
| US10359376B2
EP3273229B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602017069169.0) JP6701133B2 CN107643308B (ZL201710593858.7) | 適用 X 光分析的樣品載台 | Empyrean* |
| US10782252B2
CN110376231A EP3553506A2 JP7258633B2 | 採用光束發散度混合控制的 X 光分析裝置與方法 | Empyrean*
|
| US10753890B2
EP3372994B1 (AT、CZ、GB、FR、NL、PL、DE602018003874.4) CN108572184B (ZL201810190461.8) JP6709814B2 | 高解析 X 光繞射方法與裝置 | Empyrean* |
| EP3553509B1 (AT、GB、FR、NL、DE602019017362.8)
JP7208851B2 US10900912B2 CN110389143B (ZL201910300453.9) | X 光分析裝置 | Empyrean* |
| US10352881B2
EP3343209B1 (GB、FR、NL、DE602017032595.3) CN108240998B (ZL201711404282.1) JP6839645B2 | 電腦斷層掃描 | Empyrean* |
| US9753160B2
CN104285164B (ZL201380025271.6) EP2850458B1 (GB、FR、NL、DE602013040524.7、IT502018000029139) JP6277351B2 | 數位 X 光感測器 | Empyrean
X'Pert³ CubiX³ 系列 |
| EP3719484B1 (AT、CZ、FR、GB、NL、PL、DE602019046393.6、IT502024000012301)
US12007343B1 CN113661389B (ZL202080027081.8) JP7503076B2 | X 光光數整形裝置與方法 | Empyrean* |
| EP4111184A1
US20230296538A1 CN116368379A JP2023538446A | 用於 X 光繞射分析裝置的 X 光偵測器 | Empyrean* (配備 1Der 偵測器) |
| EP4094073A1
US20230293127A1 CN116438449A JP2023538445A | 識別 X 光繞射中的電荷共用 | Empyrean* (配備 1Der 偵測器) |
| * 選配/非產品標配
# 可依特殊要求而提供 | ||
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| JP4950523B2
| 像差校正裝置與方法 | Aeris
|
| US9506880B2
CN104251870B (ZL201410299083.9) EP2818851B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602013084303.1) JP6403452B2 | 繞射成像 | Aeris*
|
| EP2088625B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602009040563.2) | 影像偵測器 | Aeris*
|
| US9640292B2
JP6564572B2 CN104777179B (ZL201410833194.3) EP2896960B1 (GB、FR、NL、DE602014012155.1) | X 光裝置 | Aeris |
| US8477904B2
JP5752434B2 CN102253065B (ZL201110072597.7) EP2365319B1 (GB、FR、NL、DE602011055847.1) | X 光繞射與斷層掃描 | Aeris*
|
| US7542547B2
JP5280057B2 CN101256160B (ZL200810095161.8) EP1947448B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602007031351.1) | 用於 X 光散射的 X 光繞射設備
| Aeris*
|
| US7477724B2
| X 光儀器 | Aeris*
|
| US8437451B2
JP5999901B2 CN102610290B (ZL201210007967.3) EP2477191B1 (CH+LI、GB、FR、NL、DE602011035906.1) | X 光快門配置 | Aeris
|
| US9911569B2
JP7154731B2 CN105810541B (ZL201610016276.8) EP3043371B1 (GB、FR、NL、DE602015012421.9) | X 光管陽極配置
| Aeris*
|
| US10753890B2
EP3372994B1 (AT、CZ、DE602018003874.4、GB、FR、NL、PL) CN108572184B (ZL201810190461.8) JP6709814B2 | 高解析 X 光繞射方法與裝置
| Aeris*
|
| EP4094073A1
US20230293127A1 CN116438449A JP2023538445A | 識別 X 光繞射中的電荷共用
| Aeris* (配備 1Der 偵測器) |
* 選配/非產品標配 | ||
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| WO2024164079A1 | 熔融系統與使用其進行樣品熔融的方法 | FORJ |
| WO2024164080A1 | 熔融系統與使用其進行樣品熔融的方法 | FORJ |
| WO2024164081A1 | 熔融系統與使用其進行樣品熔融的方法 | FORJ |
| WO2024164082A1 | 熔融系統與使用其進行樣品熔融的方法 | FORJ |
| WO2024164086A1 | 熔融系統與使用其進行樣品熔融的方法 | FORJ* |
| WO2024164083A1 | 用於熔融裝置的錠劑交付系統 | FORJ* |
| 設計：
US 29/873,668 (尚未公開) CA 224,605；235,581；235,582；235,583；235,584；235,585；235,586；235,587 (全部均已註冊) DM/232583：EM, GB (均已註冊)；BR (尚未公開) AU202316700 AU202410300 CN308681450S (ZL202330644590.1) ZA：A2023/01083、A2023/01084、A2023/01085、A2023/01086 | 樣品載台 | FORJ 坩堝及/或模具托盤 |
| * 選配/非產品標配 | ||
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| EP3824469B1 (CH+LI、GB、FR、SE、DE602019066157.6) | 計算反應網路動力學參數的方法 | WAVEdelta、WAVEcontrol |
| CN113811771B (ZL202080036463.7)
EP3969910B2 (CH+LI、FR、GB、SE、DE602021016832.2) JP2022532479A US20220162697A1 | 用於確定分析物與配體間反應之動力學參數的方法 | WAVEdelta、WAVEcontrol |
| CN115667930A
EP4172625B2 (CH+LI、FR、GB、SE、DE602021016832.2) JP2023531046A US20230273202A1 | 用於確定反應動力學參數的方法 | WAVEdelta、WAVEcontrol |
| EP3448564B1 (CH+LI、FR、GB、SE、DE602017039989.2)
CN108883414B (ZL201780021418.2) JP6846434B2 US11135581B2 | 分子回收的方法與組件 | WAVEdelta |
| EP2137514B1 (CH+LI、FR、GB、SE、DE502008016144.9)
US8325347B2 | 整合式光學感測器 | WAVE、WAVEdelta、WAVEchip |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| 10,487,954 B2
10,514,332 | 自動化偵測器校正與自訂氣體調配 | 突破分析儀 (BTA)、AutoChem III |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| 10,487,954
11,105,825 B2 | KwikConnect 樣品反應器密封機制 | AutoChem III |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| 11,874,155 B2
美國與外國專利申請中 | 氣體密度計與氣體吸附分析儀的校正系統與方法 | AccuPyc III |
| 專利號 | 專利名稱 | 儀器 |
|---|---|---|
| 美國與外國專利申請中 | - - | AccuPore |