Solução completa para análise de raios X in situ
Qualquer propriedade macroscópica de um material está diretamente relacionada à sua propriedade estrutural (por exemplo, simetria cristalográfica, tamanho cristalito, vagas, tamanho e forma de nanopartículas ou poros). Temperatura, pressão, atmosfera de gás variável e transformação da fase de acionamento por tensão mecânica, reações químicas, recristalização etc.
As técnicas de difração de raios X (DRX) e de espalhamento de raios X são as primeiras e às vezes a única escolha para a caracterização in situ correta e precisa dessas alterações. Quer seja para a otimização de um processo de fabricação, para o ajuste de um procedimento de síntese ou para pesquisa de ponta e criação de novos materiais, a análise de raios X in situ é a ferramenta mais abrangente para a solução de problemas.
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Para DRX em pó na geometria de reflexão com aquecimento rápido a 1.600 ºC.
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HTK 1200N – aquecedor de forno Para DRX em pó na geometria de transmissão e reflexão, estresse básico, SAXS, PDF e análises de filme fino a temperaturas de 1.200 ºC.
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Para XRD em pó na geometria de reflexão com aquecimento rápido a 2000 ºC. |
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TTK 600 – câmara de baixa temperatura Para DRX de pó em reflexão e transmissão, análise básica de tensão e filme fino na faixa de temperatura de -190 °C to +600 °C.
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CHC plus+ – câmara crio e de umidade Para DRX de pó em reflexão, estresse básico e análise de filme fino com temperatura e umidade controladas.
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MHC-trans – câmara de umidade multiamostra Para DRX de pó em transmissão e medições SAXS básicas com condições controladas de temperatura e umidade.
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Phenix – criostato de baixa temperatura Para DRX em pó em reflexão, tensão básica e análise de filme fino na faixa de temperatura de - 261 °C (12 K) a + 25 °C (298 K).
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Para DRX de pó, SAXS básico e PDF em geometria capilar na faixa de temperatura de -193 ºC (80 K) a 227 ºC (500 K).
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Chimera – câmara de resfriamento e aquecimento Para DRX de pó em reflexão, tensão básica e análise de filme fino na faixa de temperatura de -203 ºC (70 K) a 252 ºC (525 K). |
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HPC 900 – câmara de alta pressão Para DRX de pó em reflexão, análise de tensão básica e filme fino a temperaturas de 900 ºC e pressões de 100 bars.
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Para DRX de pó em reflexão, análise de tensão básica e filme fino a temperaturas de 900 ºC e pressões de 10 bars com vários gases.
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DCS 500 – estágio de resfriamento em domo Para análise avançada de filme fino e medições de tensão a temperaturas de -180 ºC a 500 ºC. |
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DHS 1100 – estágio quente com domo Para análise avançada de filme fino, tensão, textura e DRX de pó básico em reflexão a temperaturas de 1.100 ºC.
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Estágios de aquecimento em bancada - BTS 150/500 Estágios de aquecimento em bancada Anton Paar BTS 150 e BTS 500, uma solução de baixo custo para DRX in situ (-10 ° C a +500 ° C). |
Baixe o folheto para obter uma visão geral dos anexos não ambientais e sua área de aplicação.
