A metrologia de raios X é uma ferramenta ideal para a análise filmes finos de semicondutores compostos no desenvolvimento e na produção em massa de dispositivos epitaxiais micro e optoeletrônicos estruturados em camadas. As ferramentas de medição baseadas em métodos de raio X, como DRX, RRX e FRX, provaram ser de grande poder na investigação ex-situ dos principais parâmetros dos materiais de camadas epitaxiais, heteroestruturas e sistemas de supercela.