Principais aplicações
                
        
          O X’Pert³ MRD e o MRD XL da Malvern Panalytical são sistemas de solução de raios X multifuncionais que podem ser usados em muitas aplicações do setor, incluindo:
          
        
        
          
            
          
        
        
          Semicondutores e wafers de cristal único
        
        Seja para estudos de crescimento ou projeto de dispositivos, a medição da qualidade da camada, espessura, deformação e composição da liga usando XRD de alta resolução tem sido o centro da pesquisa e do desenvolvimento em dispositivos semicondutores multicamada eletrônicos e optoeletrônicos.  Com várias opções de espelhos de raios X, monocromadores e detectores, o X’Pert3 MRD e o MRD XL oferecem configurações de alta resolução para se adequar a diferentes sistemas de materiais que vão desde semicondutores compatíveis com celas, passando por camadas de buffer relaxadas até novas camadas exóticas em substratos não padrão
        
          
        
        
          Sólidos policristalinos e filmes finos
        
        Camadas policristalinas e revestimentos são um componente importante de muitos filmes finos e dispositivos multicamadas. A evolução da morfologia da camada policristalina durante a deposição é uma área de estudo chave na pesquisa e no desenvolvimento de materiais funcionais.  O X’Pert3 MRD e o X’Pert3 MRD XL podem ser totalmente equipados com uma gama de fendas, espelho de raios X de feixe paralelo, lente policapilar, fendas cruzadas e monocapilares para dar a escolha completa de óptica de feixe incidente para reflectometria, tensão, textura e ID de fase.
        
          
        
        
          Filmes ultrafinos, nanomateriais e camadas amorfas
        
        Os dispositivos funcionais podem conter filmes finos desordenados, amorfos ou nanocompostos. A flexibilidade dos sistemas X’Pert3 MRD e MRD XL permite a incorporação de vários métodos analíticos. Uma gama de colimadores ópticos, de fendas e placas paralelas de alta resolução está disponível para proporcionar o desempenho ideal para métodos de incidência rasante, difração em plano e reflectometria.
        
          
        
        
          Medição em condições não ambientes
        
        Estudar o comportamento dos materiais sob diversas condições é uma parte essencial da pesquisa de materiais e do desenvolvimento de processos.  O X’Pert3 MRD e o MRD XL foram concebidos para a fácil incorporação da plataforma da amostra não ambiente DHS1100 da Anton Paar, permitindo medições automatizadas sob uma faixa de temperaturas e atmosfera inerte