TriStar II Plus
세계에서 가장 신뢰받는 고처리량 BET 표면적 분석 플랫폼입니다.
완전 자동화된 3-스테이션 시스템에서 연구 등급의 빠른 BET 표면적 측정을 제공합니다. 진정한 병렬 작동으로 탁월한 생산성을 경험해 보십시오.
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Micromeritics 사의 TriStar II Plus 3030은 우수한 사용 편의성과 정확도를 갖춘 고처리량 BET 표면적 및 기공률 분석 장비로 전세계 선도적인 연구실들의 신뢰를 받고 있습니다.
TriStar II Plus는 가스 흡착법을 사용하여 재료 성능에 영향을 미치는 표면적 및 기공 구조 특성을 측정합니다. 3개의 독립적인 분석 스테이션, 자동화된 워크플로우, 유연한 데이터 분석을 통해 R&D 및 QC 실험실이 까다로운 응용 분야에 필요한 속도, 일관성, 신뢰성을 바탕으로 신뢰할 수 있는 인사이트를 얻을 수 있도록 지원합니다.
전용 압력 변환기가 장착된 3개의 분석 포트를 통해 진정한 병렬 측정을 구현하여, 20분 이내에 결과를 제공하는 고처리량 분석을 지원합니다. 또한 단일 컴퓨터에서 최대 4대의 TriStar 장비를 제어하여 생산성을 더욱 높일 수 있습니다.
고처리량빠르고 정확하며 자동화된 BET 표면적 측정이 더 나은 의사 결정과 높은 처리량으로 이어지는 과정을 확인하세요.
3L 극저온 듀어는 최대 40시간 동안 일관되고 중단 없는 분석을 지원하며, 기공률 및 표면적 분석을 함께 수행하여 한 번의 분석으로 두 배의 데이터를 제공합니다.
생산성
TriStar II Plus는 다양한 산업 및 재료에 대해 신뢰할 수 있는 BET 표면적 분석을 지원하여 작업자가 공정의 핵심적인 개선을 이루도록 돕습니다. 아래에서 자세한 내용을 확인하십시오.
전극 표면적과 기공률에 대한 정확한 인사이트를 통해 에너지 저장 용량 및 생산 효율을 극대화합니다.
나노튜브를 비롯한 후보 물질의 표면적 및 기공 구조의 특성을 분석함으로써 수소 저장 용량을 보다 안정적으로 예측하고 최적화할 수 있습니다.
표면적, 총 기공 부피 및 기공 크기 분포에 대한 지식은 산업 흡착제의 품질 관리와 분리 공정 개발에 중요합니다. 표면적과 다공성 특성은 흡착제의 선택성에 영향을 줍니다.
촉매의 총 표면적 및 기공 구조를 정량화하여 선택성을 최적화하고 원하는 제품 수율을 극대화합니다.
표면적과 기공률을 정확하게 특성 분석함으로써 활성탄이 증기 회수, 용제 회수 및 폐수 오염 제어에 필요한 좁은 범위 내에서 최적의 성능을 발휘하도록 합니다.
공정 및 포장 전 단계에서 용해 속도, 생체이용률, 혼합 균일성, 보관 수명 등 필수 특성을 결정하는 표면적과 기공률 특성을 분석합니다.
지층 기공률에 대한 심층적인 분석을 통해 유체 저장 용량을 추정하고, 지하수 및 석유 탐사의 채굴·생산 계획 수립을 지원합니다.
정확한 표면적 및 기공률 데이터를 사용하여 성형체의 경화, 제품 강도 및 유약 거동을 최적화하여 수축, 크레이징(crazing), 크롤링(crawling) 결함을 줄입니다.
안료 표면적을 측정하여 광택, 텍스처, 색상 및 도막 접착 특성을 예측하고 코팅의 기공률을 평가하여 오프셋 인쇄에서 잉크 수용성과 기포 발생을 보다 효과적으로 관리합니다.
재료의 비표면적과 기공 구조를 쉽게 측정하여 거친 표면이나 내부 기공률이 입자 반응성과 소결 거동에 얼마나 영향을 미치는지 알 수 있습니다.
| 무게 | 37kg(82lbs) |
|---|---|
| 크기(W, D, H) | 40cm(16인치) x 51cm(20인치) x 74cm(29인치) |
| 공급 전압 | 최소 100~240V |
| 전원 | 최대 150VA |
| 주파수 범위 | 50/60Hz |
| Overvoltage category | II |
| 온도 | 10~35°C(50~95 °F), 작동 시
0~50°C(32~122 °F), 비작동 시 |
| 습도 | 20~80%(상대), 비응축 |
| Environment | 실내 전용
고도: 최대 2,000m
지정된 환경의 오염 등급: 2 |
| Specific Surface Area | 0.01m2/g부터, 질소 단위
0.001m2/g부터, 크립톤 단위 |
|---|---|
| Total Surface Area | 0.1 m2부터, 질소 단위
0.01 m2, 크립톤 단위 |
| Pore Volume | 4 × 10-6cm3/g부터 |
| Dewar Duration | 최대 40시간 |
| Gas Consumption | 포트당 최대 300cm3 STP |
| Absolute pressure measurement | 범위: 0~950mmHg
분해능: 0.05 mmHg 이내
정확도: 풀 스케일의 0.1%이내
직진성: 범위의 < ±0.1% |
| Relative pressure measurement | P/P0 범위: 0~1.0 P/P0
분해능: < 10-4 |
| Manifold temperature | 정확도 ±0.25°C
분해능 0.1°C 이내 |
| Nitrogen unit | 지원되는 가스: 질소, 아르곤, 이산화탄소, 부탄, 메탄, 기타 경질 탄화수소 및 기타 비부식성 가스를 분석할 수 있습니다.
산소는 적절한 진공 펌프로 사용할 수 있습니다. 진공 시스템: 20 × 10-3mmHg 이하의 압력을 구현할 수 있어야 하며, 오일식 또는 무오일식 펌프를 사용합니다. |
|---|---|
| Krypton Unit | 지원되는 가스: 질소 단위와 동일하며, 낮은 압력에서 크립톤 표면적 분석을 수행할 수도 있습니다.
진공 시스템: 1 × 10-3mmHg를 수용해야 하며, 무급유 진공 펌프 필요 |
| 소프트웨어 | MicroActive 소프트웨어:
원클릭 QuickStart Analysis 기능을 통해 등온선 데이터 수집을 간소화합니다. 표면 에너지 분석을 지원합니다.
대화형 UI를 통해 자동 품질 점검 수행 및 계산 범위를 쉽게 설정할 수 있습니다. |
|---|---|
| 데이터 모델 | 고급 NLDFT 모델:
총 55개의 DFT/NLDFT 모델을 사용할 수 있습니다. 일반적인 질소 분석 방법 대비 분자 수준의 방 기공 크기 분석 범위까지 분석 범위를 확장합니다.
동일한 시료에서 CO2 및 N2 등온선 데이터를 사용하여 탄소 재료의 단일 미세 기공 크기 분포를 계산합니다. |
| 21 CFR 파트 11 | 소프트웨어가 21 CFR 파트 11 규제 환경을 지원하는지 확인합니다. |
최적의 처리량과 측정 품질을 위해서는 외부 시료 준비를 권장합니다.
최대 6개의 시료 준비 스테이션으로 여러 시료를 동시에 탈기할 수 있어 처리량을 높이고 시료 준비 과정의 병목 현상을 줄일 수 있습니다.
BET와 Langmuir 표면적 모델의 주요 차이점은 Langmuir는 단층 흡착(분자 한 층의 흡착)에 초점을 맞추고 BET는 다층 흡착(분자가 여러 층으로 연속적으로 쌓이는 흡착)을 고려한다는 점입니다.
Brunauer-Emmett-Teller(BET) 표면 분석기는 고체/다공성 표면에서 가스 분자(흡착질)의 물리적 흡착을 측정하는 가스 흡착 기법을 사용합니다. 이는 비파괴 기법입니다.
TriStar는 수은을 사용하는 대신 가스 흡착법을 사용하여 기공률 및 기공 크기 분포를 측정합니다. 기법마다 다른 기공 직경 범위가 측정되며 일부는 중첩됩니다. 수은 압입 포로시메트리(porosimetry)는 직경 3nm에서 최대 500μm 이상의 기공 직경을 측정합니다. 가스 흡착법으로 직경 300nm 이하의 미세한 기공까지 측정할 수 있습니다.
기공률 테스트는 재료 내 빈 공간의 총 부피를 구하는 과정인 반면, 기공 크기는 이러한 개별 기공 또는 통로의 크기를 의미합니다. 기공률은 재료가 저장할 수 있는 유체의 양을 결정하는 반면, 기공 크기는 유체가 재료 내부를 얼마나 쉽게 통과할 수 있는지 또는 입자를 얼마나 효과적으로 여과할 수 있는지를 결정합니다.
TriStar 분석기와 다른 기기의 비교에 대한 자세한 내용은 포로시메트리(porosimetry) 페이지를 참조하십시오.
질소, 아르곤, 이산화탄소, 부탄, 메탄, 기타 경질 탄화수소 및 기타 비부식성 가스를 분석할 수 있습니다.
산소는 적절한 진공 펌프로 사용할 수 있습니다.
예. TriStar 소프트웨어의 Confirm 버전은 21 CFR 파트 11 규제 환경을 지원하며, 요청 시 설치 과정에서 IQ/OQ를 제공받을 수 있습니다.
세계적으로 가장 신뢰받는 고처리량 BET 분석기를 통해 프로세스 전반에서 최적화를 실현하십시오.