X 光分析

X 光繞射  (XRD) 及 X 光散射皆可用於分析如樣本的晶體結構 (X 光晶體學)，或用於辨識樣本中的結晶相並加以量化 (X 光粉末繞射/XRPD)。 

X 光繞射儀 也可搭配工具和配件增加延伸功能，進而以視覺化方式呈現物體內部結構，或運用 X 光散射判定奈米顆粒尺寸的分佈。    

X 光螢光  (XRF) 是廣泛使用的非破壞性且快速技術，僅需進行最少量的樣本製備即可判定材料的元素組成。 

XRF 分析儀可用於各種應用，範圍從篩檢進貨是否具有毒元素到在高通量關鍵生產環境中進行精確分析皆含括在內。 

Malvern Panalytical 提供一系列 XRF 分析儀，可助您因應各式挑戰。

XRD 與 XRF 技術都使用 X 光源及 X 光偵測器，因此有一些相似之處並可彼此互補，不過這兩種技術提供的資訊卻大不相同。 

XRD 提供的資訊是關於樣本中存在的結晶相，另外也能分辨出各種化合物，例如不同的氧化態 (Fe₂O₃/Fe₃O₄) 或不同的同素異形體 (赤鐵礦與磁赤鐵礦，兩者皆屬於氧化鐵 Fe₂O₃)。 

XRF 提供的資訊則是關於樣本的化學 (元素) 組成，即哪些元素 (Fe、O) 存在，數量又各是多少。XRF 的其中一個主要優勢在於可偵測低達 100 ppb (十億分之一) 的化學元素數量。相較於其他技術，XRF 樣本製備不僅快速簡單，同時更兼顧安全性。