Wafer XRD 300

Ihre integrierbare Wafer-Ausrichtungslösung

  • Präzisions-Wafer-Messsystem
  • Ultraschnelle Hochdurchsatzanalyse
  • Integrieren Sie es in Ihre Prozesslinie

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Übersicht

Die vollständige Automatisierung von Werken rückt mit Wafer XRD 300, einem extrem schnellen, hochpräzisen Wafer-Messsystem, das für die Integration in Ihre Prozesslinie bereit steht, einen Schritt näher.

Wafer XRD 300 ist ein Hochgeschwindigkeits-Röntgendiffraktometer, das 300-mm-Wafer analysieren kann und wichtige Daten wie Kristallausrichtung, geometrische Merkmale wie Durchmesser oder Kerbposition und vieles mehr liefert. Er passt auf das Frontend zur Handhabung von Wafern für Ihren gewünschten Fertigungsschritt.

Schnell und präzise: Azimut-Scanmethode

Die Azimut-Scanmethode erfordert nur eine Messrotation, um alle erforderlichen Daten zur vollständigen Bestimmung der Ausrichtung zu erfassen. Sie liefert innerhalb von 10 Sekunden Ergebnisse – ohne Kompromisse bei der Genauigkeit.

Die Probe wird um 360° gedreht, wobei die Röntgenquelle und der Detektor so positioniert werden, dass sie eine bestimmte Anzahl von Reflexionen pro Umdrehung erreichen. Durch diese Reflexionen kann die Ausrichtung des Kristallgitters in Bezug auf die Rotationsachse mit hoher Präzision von 0,01° gemessen werden.

Vollautomatischer Prozess

Mit Messungen, die in nur 10 Sekunden pro Probe durchgeführt werden, ermöglicht Ihnen Wafer XRD 300, jeden Wafer zu prüfen, der Ihren Prozess durchläuft, und ist somit ein leistungsfähiges und effizientes Element in Ihrem QK-Prozess.

Dank des geringen Energieverbrauchs und der luftgekühlten Röntgenröhre sind die Betriebskosten des Wafer XRD 300 niedrig – es ist keine Wasserkühlung erforderlich.

Einfache Verbindung

Das Gerät kann mithilfe verschiedener MES-, SECS/GEM- und ähnlicher Schnittstellen problemlos in bestehende Prozesse in Produktionsumgebungen integriert werden.

Tiefere Einblicke

Hochgenaue Messung der Kristallorientierung von Si-Wafern.

Mit dem Wafer XRD 300 erhalten Sie nie dagewesene Einblicke in Materialien und können Folgendes messen:

  • Kristallausrichtung
  • Kerbposition, Tiefe und Öffnungswinkel
  • Durchmesser

Wichtigste Anwendungen

Produktion und Verarbeitung

Die Fortschritte in der Automatisierung verändern unsere Branchen – und der Wafer XRD 300 ist führend in dieser Branche als praktische, leistungsstarke Lösung für die Verwaltung von Ausrichtungsmessungen mit beispielloser Geschwindigkeit.

Qualitätskontrolle

Der Wafer XRD 300 bietet eine beispiellose Effizienz und Vielseitigkeit bei der Qualitätskontrolle in der Produktion und liefert hochgenaue Ergebnisse in weniger als 10 Sekunden. 

Er eignet sich gut für 300-mm-Produktionsumgebungen, bei denen die Integration in die benutzerdefinierte Automatisierung entscheidend ist.

Spezifikation

Probendurchsatz
Mehr als 10.000 Wafer pro Monat
Geometry
Auf Anfrage
Präzision Neigungsgenauigkeit: 0,003
XRD axis vs notch / flat position 0,03°

Benutzerhandbücher

Software-Downloads

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Support

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Know-how

  • Schlüsselfertige Lösungen für die elementare und strukturelle Halbleitermesstechnik
  • Automatisierung und Beratung
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