La metrología mediante rayos X es la herramienta ideal para el análisis de películas delgadas de semiconductores compuestos en aplicaciones de desarrollo y producción en masa de dispositivos optoelectrónicos y microelectrónicos con estructuras en capas epitaxiales. Las herramientas de medida basadas en métodos de rayos X como DRX y FRX han demostrado ser muy eficaces para la investigación externa de los parámetros de los materiales de capas epitaxiales, heteroestructuras y sistemas de superredes.