Metrología de rayos X
Mejora de la calidad de la película mediante metrología de película delgada
Mejora de la calidad de la película mediante metrología de película delgada
Las herramientas de metrología de película delgada basadas en métodos de rayos X, tales como XRD, XRR y XRF, son rápidas y no destructivas. Está comprobado que son potentes para la investigación ex situ de parámetros críticos de materiales de capas delgadas, heteroestructuras y sistemas de superredes hasta la escala de nanómetros.
La información derivada es esencial para optimizar la calidad de la película, lo que mejora la eficiencia de producción y reduce los costos.
Malvern Panalytical ofrece soluciones de metrología para el desarrollo y el control de producción de dispositivos optoelectrónicos y microelectrónicos estructurados en capas.
2830 ZTSolución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores |
X'Pert³ MRDVersátil sistema XRD de investigación y desarrollo |
X'Pert³ MRD XLVersátil sistema XRD de investigación, desarrollo y control de calidad |
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| Tecnología | |||
| Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) | |||
| Tipo de medición | |||
| Metrología de película delgada | |||
| Identificación química | |||
| Análisis elemental | |||
| Detección y análisis de contaminantes | |||
| Cuantificación elemental | |||