Mejora de la calidad de la película mediante metrología de película delgada
Las herramientas de metrología de película delgada basadas en métodos de rayos X, tales como XRD, XRR y XRF, son rápidas y no destructivas. Está comprobado que son potentes para la investigación ex situ de parámetros críticos de materiales de capas delgadas, heteroestructuras y sistemas de superredes hasta la escala de nanómetros.
La información derivada es esencial para optimizar la calidad de la película, lo que mejora la eficiencia de producción y reduce los costos.
Malvern Panalytical ofrece soluciones de metrología para el desarrollo y el control de producción de dispositivos optoelectrónicos y microelectrónicos estructurados en capas.
2830 ZTSolución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores |
X'Pert³ MRDVersátil sistema XRD de investigación y desarrollo |
X'Pert³ MRD XLVersátil sistema XRD de investigación, desarrollo y control de calidad |
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| Tecnología | |||
| Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) | |||
| Tipo de medición | |||
| Metrología de película delgada | |||
| Identificación química | |||
| Análisis elemental | |||
| Detección y análisis de contaminantes | |||
| Cuantificación elemental | |||
