X'Pert³ MRD Pre-installation manual
Número de versión: 5
Descripción general
La larga y exitosa historia de los difractómetros de investigación de materiales (MRD) de Malvern Panalytical continúa ahora con una nueva generación: X’Pert³ MRD y X’Pert³ MRD XL. El rendimiento y la confiabilidad mejorados de la nueva plataforma han agregado más capacidad analítica y potencia para estudios de dispersión de rayos X en:
- ciencia avanzada de materiales
- tecnología de película fina científica e industrial
- caracterización metrológica en el desarrollo de procesos de semiconductores
Ambos sistemas ofrecen la misma amplia gama de aplicaciones con mapas de oblea completa de hasta 100 mm (X’Pert³ MRD) o 200 mm (X’Pert³ MRD XL).
Flexibilidad del sistema adaptable a los cambios futuros
Los sistemas MRD X'Pert³ ofrecen soluciones avanzadas e innovadoras de difracción de rayos X en la investigación, el desarrollo, el control de procesos y más.
Las tecnologías utilizadas hacen que todos los sistemas se puedan actualizar en terreno a todas las opciones existentes y a los nuevos desarrollos en hardware y software futuros.
Características
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Diseñado para la investigación y el desarrollo
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Para uso con muestras de películas delgadas, obleas y materiales sólidos
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Mapeo completo de obleas de hasta 100 mm
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Posicionamiento de muestras versátil y flexible
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Brazo extendido opcional para componentes ópticos
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Precisión excepcional con el nuevo goniómetro de alta resolución que utiliza codificadores Heidenhain
Aplicaciones clave
Los X’Pert³ MRD y MRD XL de Malvern Panalytical son sistemas de soluciones de rayos X integrales que se pueden utilizar en muchas aplicaciones de industriales, incluidas las siguientes:
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- Semiconductores y obleas de cristales individuales
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Ya sea para estudios de crecimiento o diseño de dispositivos, la medición de la calidad, el espesor, la tensión y la composición de la aleación de la capa, el uso de XRD de alta resolución ha estado en el centro de la investigación y el desarrollo de los dispositivos electrónicos y optoelectrónicos de semiconductores de capas múltiples. Gracias a su variedad de espejos de rayos X, monocromadores y detectores, el X’Pert3 MRD y el MRD XL ofrecen configuraciones de alta resolución para adaptarse a los diferentes sistemas de materiales, desde semiconductores correspondientes a la red, pasando por capas de amortiguadores relajados, hasta capas exóticas nuevas en sustratos no estándares
- Sólidos policristalinos y películas finas
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Las capas y los revestimientos policristalinos son un componente importante de muchos dispositivos de películas finas y capas múltiples. La evolución de la morfología de las capas policristalinas durante la deposición es un área de estudio clave en la investigación y el desarrollo de los materiales funcionales. El X’Pert3 MRD y el X’Pert3 MRD XL se pueden equipar plenamente con una variedad de hendiduras, espejos de rayos X de haz paralelo, lentes policapilares y hendiduras cruzadas y monocapilares con el fin de ofrecer toda la gama de óptica de haces incidentes para reflectometría, estrés, textura e identificación de fase.
- Películas ultrafinas, nanomateriales y capas amorfas
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Los dispositivos funcionales pueden contener películas finas desordenadas, amorfas o nanocompuestas. La flexibilidad de los sistemas X’Pert3 MRD y MRD XL permite incorporar múltiples métodos analíticos. Se dispone de una gama de óptica de alta resolución, hendiduras y colimadores de láminas paralelas, con el fin de proporcionar un rendimiento óptimo para métodos de incidencia rasante, difracción en plano y reflectometría.
- Medición en condiciones no ambientales
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El estudio del comportamiento de los materiales en una variedad de condiciones es una parte esencial de la investigación de materiales y el desarrollo de procesos. El X’Pert3 MRD y el MRD XL están diseñados para incorporar fácilmente la plataforma de muestras no ambientales DHS1100 de Anton Paar, lo que permite mediciones automatizadas en una gama de temperaturas y atmósfera inerte
Instrument gives excellent accuracy and is of good quality.Good intensity and rapid performance. It is easy to operate.
Yifan Zheng — Zhejiang University of Technology
