セラミックス誌オープンアクセス記事として弊社上村の記事が掲載されました！
掲載誌：セラミックス誌2022年9月号
特集
セラミックス電子材料革新を生み出す装置開発の新展開
半導体アレイ検出器と光学系の組合せによる高S/N比粉末XRD測定
マルバーン・パナリティカル（スペクトリス株式会社）上村 祐一郎
本文の一部抜粋
X 線回折（XRD）法は，結晶相の同定，結晶構造解析，ラインプロファイル解析，応力，配向性の評価等，さまざまな用途において広い分野で用いられている解析手法である．広い応用範囲にともない，測定方法も高分解能測定，精密測定，多数試料測定，透過法測定，微小部測定，微量試料測定等の多彩なニーズに合わせた最適な光学系や検出器の選択により X 線の検出感度を向上させる工夫がなされてきた。
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