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商標

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商標リストの最終更新日:2025年3月20日


商標ステータス
1DER®
AERIS®
AERIS PANALYTICAL 
ASD
(ASD Inc) logo®
AMASS®
AMPLIFY ANALYTICS®
AMPLIFY ANALYTICS(+ ロゴ)®
Archimedes®
AXIOS®
CHI-BLUE®
CLAISSE®
Claisse(+ ロゴ)®
CREOPTIX®
CUBIX®
CubiX3®
dCore
EAGON®
Eagon 2
EasySAXS®
EMPYREAN®
EPSILON®
EPSILON Xflow®
ExpertSAXS®
FIELDSPEC®
FIPA
FLUOR’X®
FORJ
GaliPIX3D®
Gemini
goLab
HandHeld 2
HighScore®
Hydrosight
iCore
Indico Pro
INSITEC®
(Insitec logo)®
(Insitec Measurement Systems logo)®
ISYS®
LabSizer
LABSPEC®
LeNeo®
LeDoser
LeDoser-12
M3 PALS
M4
MADLS®
MALVERN®
(Triangular hills logo + Malvern Instruments)®
马尔文(Malvernの中国語表記)®
MALVERN INSTRUMENTS®
马尔文仪器(Malvern Instrumentsの中国語表記)
Malvern Link
(Malvern Plus Hills Logo)®
MALVERN PANALYTICAL®
马尔文帕纳科(MALVERN PANALYTICALの中国語表記)®
マルバーン·パナリティカル(MALVERN PANALYTICALのカタカナ表記)®
말번 파날리티칼(MALVERN PANALYTICALの韓国語表記)®
MALVERN PANALYTICAL(+ Xロゴ)®
MASTERSIZER®
Mastersizer 2000
MC (stylised)
MDRS®
MICROCAL®
MORPHOLOGI®
(Triangular hills logo)®
NanoSight®
NIBS
Oil-Trace®
Omnian®
OmniSEC®
OmniTrust®
PANALYTICAL®
帕纳科(PANALYTICALの中国語表記)®
パナリティカル(PANALYTICALのカタカナ表記)®
PANalytical AERIS®
PANalytical + ロゴ®
PANTOS
PEAQ-ITC®
PIXcel®
PIXcel1D®
PIXcel3D®
PIXIRAD®
QUALITYSPEC®
REVONTIUM
®
SMART RETURN
Spraytec
SST®
SST-mAX®
SUPER SHARP TUBE®
Stratos®
SuperQ®
SyNIRgi
TERRASPEC®
TheOx®
Ultrasizer
VENUS MINILAB
ViewSpec
Viscogel
VISCOTEK®
Viscotek SEC-MALS
WAVEchip®
WAVEcore®
waveRAPID
®
WE'RE BIG ON SMALL®
(Xロゴ)®
X’CELERATOR®
X'Pert3®
ZETASIZER®
ZETIUM®
ZS Helix

特許

Malvern Panalyticalおよび/またはその関連会社は、以下の特許、出願中の特許、登録意匠、および/または出願中の意匠によって保護された、市場をリードする独自の製品を数多く保有しています。  

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便宜上、公報番号を以下に記載します。  末尾に「A」、「A1」、「A2」、または「A3」が付いているものは、出願中の特許を指します。  末尾に「B」、「B1」、または「B2」が付いているものは、付与済みの特許を指します。  

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特許リストの最終更新日:2025年3月20日

Mastersizer

特許番号特許タイトル装置
GB2494735B光散乱による粒度分布を測定する装置Mastersizer 3000、Mastersizer 3000E、Mastersizer 3000+シリーズ
CN104067105B (ZL201280042740.0)
EP2756283B1 (GB, FR, DE602012015707.0)
US9869625B2
JP6154812B2
光散乱による粒度分布を測定する装置と方法Mastersizer 3000、Mastersizer 3000+ Ultra
US10837889B2
GB2494734B
光散乱による粒度分布を測定する装置と方法Mastersizer 3000、Mastersizer 3000E、Mastersizer 3000+シリーズ
WO2024023498A2
EP4312015A1
粒子特性評価Mastersizer 3000+:Pro、Ultra
WO2024023497A1データ品質Mastersizer 3000+:Pro、Ultra
WO2024180386A1粒子特性評価Mastersizer 3000+:Ultra

Zetasizer

特許番号特許タイトル装置
EP2467701B1 (CH+LI, GB, FR, DE602010067652.8)
CN102575984B (ZL201080036806.6)
US9279765B2
JP5669843B2
US10317339B2
US11237106B2
改善された単一拡散モード検出を備えた複雑な流体の動的光散乱法をベースにしたマイクロレオロジーZetasizer Advanceシリーズ、Nano ZSP、Helix
CN103608671B (ZL201280027695.1)
CN105891304B (ZL201610324224.7)
EP2721399B1 (BE, CH+LI, DK, FR, GB, NL, DE602012031338.2, IT502017000050268)
JP6023184B2
US9829525B2
US10274528B2
US11079420B2
表面電荷測定Zeta Plate Cellアクセサリ
US8702942B2
CN103339500B (ZL201180060863.2)
EP2652490B1 (GB, FR, DE602011046775.1)
JP6006231B2
JP6453285B2
US10648945B2
US11988631B2
拡散障壁を使用したレーザードップラー電気泳動法Zetasizer Advanceシリーズ、Nano ZS、Nano S、Nano ZS90、S90、Nano ZSP
EP2742337B1 (GB, FR, DE602012018122.2)
US9816922B2
微粒子のデュアルモード特性評価Zetasizer Helix
US10197485B2
US10520412B2
US10845287B2
US11435275B2
EP3353527B1 (GB, FR, DE602016077138.1)
JP6936229B2
CN108291861B (ZL201680068213.5)
JP7361079B
EP4215900A1
粒子の特性評価Zetasizer Advanceシリーズ
US10119910B2粒子の特性評価装置Zetasizer Advance:Ultra、Pro
US8675197B2
JP6059872B2
EP2404157B1 (GB, FR, DE602010066495.3)
粒子の特性評価Zetasizer Advanceアクセサリ
EP3521806B1 (AT, FR, GB, DE602018077164.6)
US11441991B2
CN111684261B (ZL201980011816.5)
JP7320518B2
多角度動的光散乱法Zetasizer Advance:Ultra
意匠:
DM/100202 (EM: D100202-0001, D100202-0002; GB: 81002020001000, 81002020002000; JP: JP1614066S; US: D878227S)
CN304816039S (ZL201730635419.9)
粒子の特性評価装置Zetasizer Advanceシリーズ

Insitec

特許番号特許タイトル装置
US7871194B2
EP1869429B1 (GB, FR, DE602006060213.8)
希釈システムと方法Insitec(一部の製品)
EP2640499B1 (GB)インライン分散機と紛体混合法Insitec Dry

Morphologi

特許番号特許タイトル装置
EP2106536B1 (GB, FR, DE602008039489.1)
US8111395B2
US8564774B2
不均一性の分光分析Morphologi G3-ID、Morphologi 4-ID
GB2522735B
JP6560849B2
乾式分散の方法と装置Morphologi G3-ID、Morphologi G3、Morphologi 4、Morphologi 4-ID
EP3510526B1 (GB, FR, DE60217072468.8)
US11068740B2
CN109716355B (ZL201780054158.9)
JP7234106B2
粒子境界の識別Morphologi 4、Morphologi 4-ID
US8004662B2
US8842266B2
医薬品混合物の評価Morphologi 4-ID
意匠:
DM/100537 (EM: D100 537-0001, D100 537-0002; GB: 81005370001000, 81005370002000; JP: JP1622788S, JP1623345S; US: D862261S1)
CN304677453S (ZL201730616458.4)
測定装置(時間を計測するためのものを除く)Morphologi 4、Morphologi 4-ID

Viscosizer

特許番号特許タイトル装置
US11113362B2
JP6917897B2
EP3274864A1
CN107430593B (ZL201680017577.0)
多成分モデルのパラメーター化Viscosizer TD

Hydro Sight

特許番号特許タイトル装置
CN104704343B (ZL201380044016.6)
EP2864760B1 (GB, FR, DE602013085354.1)
US10509976B2
不均一な流体試料の特性評価Hydro Sight

NanoSight

特許番号特許タイトル装置
EP3071944B1 (GB, FR, DE602014059002.0)
US9909970B2
JP6505101B2
CN105765364B (ZL201480063550.6)
装置の校正の改善または関連NanoSight NS300、NanoSight Pro
WO2023148528A1
EP4476523A1
CN118984933A
JP2025505204A
粒子分析NanoSight Pro
WO2024094987A1粒子の特性評価を行うための装置および方法NanoSight Pro

MicroCal ITC

特許番号特許タイトル装置
CN101855541B (ZL200880114826.3)
EP2208057B1 (CH+LI, GB, FR, DE602008065108.8)
JP05542678B2
US8449175B2
US8827549B2
等温滴定型マイクロカロリメーター装置と使用方法MicroCal ITC製品
CN102232184B (ZL200980149081.9)
EP2352993B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009044685.1)
JP5476394B2
US9103782B2
US9404876B2
US10036715B2
US10254239B2
EP3144666B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009059932.1)
US20200025698A1
EP3647776B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009065333.4)
自動等温滴定型マイクロカロリメーター装置と使用方法MicroCal ITC製品

MicroCal DSC

特許番号特許タイトル装置
US8635045B2
CN103221808B (ZL201180057401.5)
EP2646811B1 (GB, FR, DE 602011071793.6)
IN336472
JP5925798B2
カロリメトリーデータの自動ピーク検出方法MicroCal DSC製品
意匠:
DM/097302 (EM: D097 302; GB: 80973020001000; JP: JP1619772S, JP1643496S; US: D826739S1)
CN304227374S (ZL201730043139.9)
示差走査型マイクロカロリメーターPEAQ-DSCシリーズ

OMNISEC

特許番号特許タイトル装置
US9759644B2
US10551291B2
バランスキャピラリーブリッジ粘度計OMNISEC
US9612183B2
EP2619543B1 (GB, FR, DE602011011174.4)
JP5916734B2
CN103168223B (ZL201180046166.1)
IN341558
モジュラーキャピラリーブリッジ粘度計OMNISEC

QualitySpec 7000

特許番号特許タイトル装置
US8164747B2
CA2667650C
EP2092296B1 (CH+LI, NL, SE, DK, DE602007045593.6)
光学分光測定のための装置、システムおよび方法QualitySpec 7000

TerraSpec Halo

特許番号特許タイトル装置
US9207118B2モノクロメーターおよびダイオードアレイ分光計機器をスキャンするための装置、システム、および方法TerraSpec Halo

QualitySpec Trek

特許番号特許タイトル装置
US9207118B2モノクロメーターおよびダイオードアレイ分光計機器をスキャンするための装置、システム、および方法QualitySpec Trek

床置きXRF

特許番号特許タイトル装置
US8210000B2
JP5554163B2
CN101941789B (ZL201010223406.8)
EP2270410B1 (GB, FR, NL, DE602009003389.1)
AU2010202662B2
ビーズ炉Zetium
Axios FAST
Epsilon5

JP4950523B2
収差を補正する装置と方法
Zetium*
Axios FAST*
2830 ZT (wafer analyser)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US7949092B2
X線分析を実施する装置と方法
Zetium*
Axios FAST*
2830 ZT (wafer analyser)*
Epsilon5*
SEMYOS
US9658352B2
CN104833557B (ZL201510120748.X)
JP656263B2
JP6804594B2
基準の作成方法Zetium
Axios FAST
EP2787342B1 (GB, FR, NL, DE602013028642.6)
JP6360151B2
加圧による試料ペレットの調製Zetium
Axios FAST
US10107551B2
EP2966039B1 (GB, FR, NL, DE602014024004.2)
JP6559486B2
CN105258987B (ZL201510504763.4)
フラックスとプラチナるつぼを使用したXRF用試料の準備Zetium
Axios FAST
US9784699B2
JP6861469B2
CN105937890B (ZL201610119027.1)
EP3064931B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016057221.4)
定量的X線分析 - マトリックスの厚さの補正Zetium*
Axios FAST
US9739730B2
JP6706932B2
CN105938113B (ZL201610121520.7)
EP3064933B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016056347.9)
定量的X線分析 - 多光路装置Zetium*
Axios FAST
US9851313B2
JP6762734B2
CN105938112B (ZL201610121518.X)
EP3064932B1 (GB, FR, NL, CH+LI, DE602016024126.9)
定量的X線分析 - 比率補正Zetium*
Axios FAST
US9239305B2試料ホルダZetium*
Axios FAST*
Epsilon5
US7720192B2
JP5574575B2
CN101311708B (ZL200810127759.0)
蛍光X線装置Zetium*
Axios FAST*
2830 ZT (wafer analyser)*
Epsilon5*
SEMYOS*
US8223923B2
JP5266310B2
CN101720491B (ZL200880018575.9)
EP1983547B1 (GB, FR, NL, DE602008000361D1)
金属線カソードを備えたX線源Zetium
Axios FAST
2830 ZT (wafer analyser)
Epsilon5
SEMYOS
US9911569B2
JP7154731B2
CN105810541B (ZL201610016276.8)
EP3043371B2 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
X線管アノード配置
Zetium
Axios FAST
2830 ZT (wafer analyser)
Epsilon5
SEMYOS
US10281414B2
EP3330701B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602017006751.2)
EP3480587B1 (GB, FR, NL, DE602017061400.9)
US10393683B2
JP6767961B2
CN108132267B (ZL201711251653.7)
X線測定用コニカルコリメータZetium*
*· オプション/製品の標準ではありません

ベンチトップXRF

特許番号特許タイトル装置
US8210000B2
JP5554163B2
CN101941789B (ZL201010223406.8)
EP2270410B1 (GB, FR, NL, DE602009003389.1)
ビーズ炉Epsilon 1シリーズ
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
JP4950523B2
収差を補正する装置と方法
Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US7949092B2
X線分析を実施する装置と方法
Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9658352B2
CN104833557B (ZL201510120748.X)  
JP6562635B2
JP6804594B2
基準の作成方法Epsilon 1シリーズ
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
EP2787342B1 (GB, FR, NL, DE602013028642.6)
JP6360151B2
加圧による試料ペレットの調製Epsilon 1シリーズ
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
US10107551B2
JP6559486B2
CN105258987B (ZL201510504763.4)
EP2966039B1 (GB, FR, NL, DE602014024004.2)
フラックスとプラチナるつぼを使用したXRF用試料の準備Epsilon 1シリーズ
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
US9784699B2
JP6861469B2
CN105937890B (ZL201610119027.1)
EP3064931B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016057221.4)
定量的X線分析 - マトリックスの厚さの補正Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9739730B2
JP6706932B2
CN105938113B (ZL201610121520.7)
EP3064933B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016056347.9)
定量的X線分析 - 多光路装置Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9851313B2
JP6762734B2
CN105938112B (ZL201610121518.X)
EP3064932B1 (GB, FR, NL, CH+LI, DE602016024126.9)
定量的X線分析 - 比率補正Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9239305B2試料ホルダEpsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9547094B2
CN104849295B (ZL201510155965.2)
EP2908127B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602014011398.2)
JP6526983B2
X線分析装置
Epsilon 1シリーズ
Epsilon 3X分光計
Epsilon 4空気品質エディション
US8223923B2
JP5266310B2
CN101720491B (ZL200880018575.9)
EP1983547B1 (GB, FR, NL, DE602008000361D1)
金属線カソードを備えたX線源Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US9911569B2
JP7154731B2
CN105810541B (ZL201610016276.8)
EP3043371B2 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
X線管アノード配置
Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計*
Epsilon 4空気品質エディション*
US11183355B2
EP3675148A1
JP7601502B2
CN111383876B (ZL201911390180.8)
X線管球Revontium
EP24169034.6(未公開)
反復計算による補完的なバックグラウンドフィッティングRevontium
EP24169094.0(未公開)
試料処理装置Revontium
* オプション/製品の標準ではありません

床置きXRD

特許番号特許タイトル装置
JP4950523B2
収差を補正する装置と方法Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
CubiX³ range
US9506880B2
CN104251870B (ZL201410299083.9)
EP2818851B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602013084303.1)
JP6403452B2
回析イメージングEmpyrean#
X'Pert³ Powder#
X'Pert³ MRD (XL)#
CubiX³ range#
US7858945B2
JP5254066B2
CN101521246B (ZL200910129197.8)
EP2088451B1 (GB, FR, NL, DE602008041760.3)
イメージング検出器Empyrean#
X'Pert³ Powder#
X'Pert³ MRD (XL)#
CubiX³ range#
EP2088625B1 (GB, FR, NL, CH + LI, DE602009040563.2)イメージング検出器Empyrean#
X'Pert³ Powder#
X'Pert³ MRD (XL)#
CubiX³ range#
US9110003B2
CN103383363B (ZL201310069293.4)
EP2634566B1 (GB, FR, NL, DE602012058202.2)
JP6198406B2
マイクロ回析
Empyrean#
X'Pert³ Powder#
X'Pert³ MRD (XL)#
CubiX³ range#
US9640292B2
CN104777179B (ZL201410833194.3)
EP2896960B1 (GB, FR, NL, DE602014012155.1)
JP6564683B2
X線装置
Empyrean
X'Pert³ Powder
CubiX³ range
US7756248B2
JP5145263B2
CN101545873B (ZL200910134609.7)
EP2090883B1 (GB, FR, NL, DE602008002143D1)
パッケージングのX線検出
Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
US8477904B2
JP5752434B2
CN102253065B (ZL201110072597.7)
EP2365319B1 (GB, FR, NL, DE602011055847.1)
X線回折とコンピュータ断層撮影法Empyrean
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
US7542547B2
JP5280057B2
CN101256160B (ZL200810095161.8)
EP1947448B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602007031351.1)
X線散乱法用X回折装置
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
US7477724B2
X線装置Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range
US8437451B2
JP5999901B2
CN102610290B (ZL201210007967.3)
EP2477191B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602011035906.1)
X線シャッターの配置Empyrean
X'Pert³ Powder
X'Pert³ MRD (XL)
CubiX³ range
US9911569B2
JP7154731B2
CN105810541B (ZL201610016276.8)
EP3043371B1 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
X線管アノード配置
Empyrean*
X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)*
CubiX³ range*
EP3553508A2
US11035805B2
JP7398875B2
CN110389142B (ZL201910295269.X)
X線分析装置と方法Empyrean*
US10359376B2
EP3273229B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602017069169.0)
JP6701133B2
CN107643308B (ZL201710593858.7)
X線分析用試料ホルダEmpyrean*
US10782252B2
CN110376231A
EP3553506A2
JP7258633B2
ビーム発散のハイブリッド制御を使用したX線分析する装置と方法Empyrean*
US10753890B2
EP3372994B1 (AT, CZ, GB, FR, NL, PL, DE602018003874.4)
CN108572184B (ZL201810190461.8)
JP6709814B2
高分解能X線回折法および装置Empyrean*
EP3553509B1 (AT, GB, FR, NL, DE602019017362.8)
JP7208851B2
US10900912B2
CN110389143B (ZL201910300453.9)
X線分析装置Empyrean*
US10352881B2
EP3343209B1 (GB, FR, NL, DE602017032595.3)
CN108240998B (ZL201711404282.1)
JP6839645B2
コンピュータ断層撮影法Empyrean*
US9753160B2
CN104285164B (ZL201380025271.6)
EP2850458B1 (GB, FR, NL, DE602013040524.7, IT502018000029139)
JP6277351B2
デジタルX線センサEmpyrean
X'Pert³
CubiX³ range
EP3719484B1 (AT, CZ, FR, GB, NL, PL, DE602019046393.6, IT502024000012301)
US12007343B1
CN113661389B (ZL202080027081.8)
JP7503076B2
X線ビーム成形装置および方法Empyrean*
EP4111184A1
US20230296538A1
CN116368379A
JP2023538446A
X線回折分析装置用X線検出器Empyrean*(1Der検出器付き)
EP4094073A1
US20230293127A1
CN116438449A
JP2023538445A
X線回折における電荷共有の識別Empyrean*(1Der検出器付き)
*製品では、オプション/標準ではありません
#特別なリクエストで利用可能

ベンチトップXRD

特許番号特許タイトル装置
JP4950523B2
収差を補正する装置と方法Aeris
US9506880B2
CN104251870B (ZL201410299083.9)
EP2818851B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602013084303.1)
JP6403452B2
回析イメージングAeris*
EP2088625B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602009040563.2)イメージング検出器Aeris*
US9640292B2
JP6564572B2
CN104777179B (ZL201410833194.3)
EP2896960B1 (GB, FR, NL, DE602014012155.1)
X線装置Aeris
US8477904B2
JP5752434B2
CN102253065B (ZL201110072597.7)
EP2365319B1 (GB, FR, NL, DE602011055847.1)
X線回折とコンピュータ断層撮影法Aeris*
US7542547B2
JP5280057B2
CN101256160B (ZL200810095161.8)
EP1947448B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602007031351.1)
X線散乱法用X回折装置
Aeris*
US7477724B2
X線装置Aeris*
US8437451B2
JP5999901B2
CN102610290B (ZL201210007967.3)
EP2477191B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602011035906.1)
X線シャッターの配置Aeris
US9911569B2
JP7154731B2
CN105810541B (ZL201610016276.8)
EP3043371B1 (GB, FR, NL, DE602015012421.9)
X線管アノード配置
Aeris*
US10753890B2
EP3372994B1 (AT, CZ, DE602018003874.4, GB, FR, NL, PL)
CN108572184B (ZL201810190461.8)
JP6709814B2
高分解能X線回折法および装置
Aeris*
EP4094073A1
US20230293127A1
CN116438449A
JP2023538445A
X線回折における電荷共有の識別
Aeris*(1Der検出器付き)

* オプション/製品の標準ではありません

試料調製

特許番号特許タイトル装置
WO2024164079A1溶融システムおよびそのシステムを用いた試料溶融の実施方法FORJ
WO2024164080A1溶融システムおよびそのシステムを用いた試料溶融の実施方法FORJ
WO2024164081A1溶融システムおよびそのシステムを用いた試料溶融の実施方法FORJ
WO2024164082A1溶融システムおよびそのシステムを用いた試料溶融の実施方法FORJ
WO2024164086A1溶融システムおよびそのシステムを用いた試料溶融の実施方法FORJ*
WO2024164083A1溶融装置用錠剤送達システムFORJ*
意匠:
US 29/873,668(未公開)
CA 224,605;235,581; 235,582; 235,583; 235,584; 235,585; 235,586; 235,587(すべて登録済み)
DM/232583: EM, GB(いずれも登録済み); BR(未公開)
AU202316700
AU202410300
CN308681450S (ZL202330644590.1)
ZA: A2023/01083, A2023/01084, A2023/01085, A2023/01086
試料ホルダFORJ用るつぼおよび/または金型カセット
* オプション/製品の標準ではありません

WAVEsystem(Creoptix)

特許番号特許タイトル装置
EP3824469B1 (CH+LI, GB, FR, SE, DE602019066157.6)反応ネットワークの速度論的パラメータの計算方法WAVEdelta、WAVEcontrol
CN113811771B (ZL202080036463.7)
EP3969910B2 (CH+LI, FR, GB, SE, DE602021016832.2)
JP2022532479A
US20220162697A1
分析種とリガンド間の反応における速度論的パラメータの決定方法WAVEdelta、WAVEcontrol
CN115667930A
EP4172625B2 (CH+LI, FR, GB, SE, DE602021016832.2)
JP2023531046A
US20230273202A1
反応の速度論的パラメータの決定方法WAVEdelta、WAVEcontrol
EP3448564B1 (CH+LI, FR, GB, SE, DE602017039989.2)
CN108883414B (ZL201780021418.2)
JP6846434B2
US11135581B2
分子回収のための方法およびアセンブリWAVEdelta
EP2137514B1 (CH+LI, FR, GB, SE, DE502008016144.9)
US8325347B2
集積型光センサーWAVE、WAVEdelta、WAVEchip

BreakThrough Analyzer (BTA)

特許番号特許タイトル装置
10,487,954 B2
10,514,332
検出器の自動校正およびカスタムガス混合BreakThrough Analyzer (BTA)、AutoChem III

AutoChem III

特許番号特許タイトル装置
10,487,954
11,105,825 B2
試料反応器用KwikConnectシーリング機構AutoChem III

AccuPyc III

特許番号特許タイトル装置
11,874,155 B2
米国および外国特許出願中
ガスピクノメーターおよびガス吸着分析装置の校正システムおよび方法AccuPyc III

AccuPore

特許番号特許タイトル装置
米国および外国特許出願中- -AccuPore