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登録商標
| 登録商標
| 状態 |
|---|---|
| 1DER | ® |
| AERIS | ® |
| AERIS PANALYTICAL | ® |
| (ASD Inc) logo | ® |
| AMASS | ® |
| AMPLIFY ANALYTICS | ® |
| AMPLIFY ANALYTICS (+ Logo) | ® |
| Archimedes | ® |
| AXIOS | ® |
| CHI-BLUE | ® |
| Claisse | ® |
| Claisse (+ Logo) | ® |
| CREOPTIX | ® |
| CUBIX | ® |
| CUBIX3 | ® |
| dCore | ™ |
| EAGON | ® |
| Eagon 2 | ® |
| EASY SAXS | ® |
| EMPYREAN | ® |
| EPSILON | ® |
| EPSILON X-FLOW | ® |
| EXPERT SAXS | ® |
| EASY SAXS | ® |
| FieldSpec | ® |
| FIPA | ™ |
| FLUOR’X | ® |
| GALIPIX 3D | ® |
| Gemini | ™ |
| goLab | ™ |
| HandHeld 2 | ™ |
| HIGHSCORE | ® |
| Hydrosight | ™ |
| iCore | ™ |
| Indico Pro | ™ |
| Insitec | ® |
| (Insitec logo) | ® |
| (Insitec Measurement Systems logo) | ® |
| ISys | ® |
| LabSizer | ™ |
| LabSpec | ® |
| LeNeo | ® |
| LeDoser | ™ |
| LeDoser-12 | ™ |
| M3 PALS | ™ |
| M4 | ™ |
| MADLS | ® |
| Malvern | ® |
| (Triangular hills logo + Malvern Instruments) | ® |
| Malvern in Chinese characters | ® |
| Malvern Instruments | ® |
| Malvern Instruments in Chinese characters | ® |
| Malvern Link | ™ |
| (Malvern Plus Hills Logo) | ® |
| MALVERN PANALYTICAL | ® |
| MALVERN PANALYTICAL in Chinese characters | ® |
| MALVERN PANALYTICAL in Katakana | ® |
| MALVERN PANALYTICAL in Korean script | ® |
| MALVERN PANALYTICAL (+ X Logo) | ® |
| Mastersizer | ® |
| Mastersizer 2000 | ™ |
| MC (stylised) | ® |
| MDRS | ® |
| Microcal | ® |
| Morphologi | ® |
| (Triangular hills logo) | ® |
| Nanosight | ® |
| NIBS | ™ |
| OIL-TRACE | ® |
| OMNIAN | ® |
| OMNISEC | ® |
| OMNITRUST | ® |
| PANALYTICAL | ® |
| PANALYTICAL LOGO (picture) | ® |
| PANTOS | ® |
| PEAQ-ITC | ® |
| PIXCEL | ® |
| PIXCEL 1D | ® |
| PIXCEL 3D | ® |
| PIXIRAD | ® |
| QualitySpec | ® |
| Spraytec | ™ |
| SST | ® |
| SST-MAX | ® |
| SUPER SHARP TUBE | ® |
| STRATOS | ® |
| SUPER Q | ® |
| SyNIRgi | ™ |
| TerraSpec | ® |
| TheOx® Advanced | ® |
| Ultrasizer | ™ |
| VENUS MINILAB | ® |
| ViewSpec | ™ |
| Viscogel | ™ |
| Viscotek | ® |
| Viscotek SEC-MALS | ™ |
| WAVECHIP | ® |
| WE'RE BIG ON SMALL | ™ |
| (X Logo) | ® |
| X’CELERATOR | ® |
| XPERT3 | ® |
| Zetasizer | ® |
| ZETIUM | ® |
| ZS Helix | ® |
特許
Malvern Panalyticalには、以下の特許および特許出願によって保護されている、市場をリードする独自の製品が数多くあります。
マスターサイザー
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| GB2494735B | 光散乱による粒度分布を測定する装置 | MS3000、MS3000E |
| CN104067105B
EP2756283B1 (GB, FR, DE602012015707.0) US9869625B2 JP6154812B | 光散乱による粒度分布を測定する装置と方法 | MS3000、MS3000E |
| US10837889B2
GB2494734B | 光散乱による粒度分布を測定する装置と方法 | MS3000、MS3000E |
ゼータサイザー
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US7217350B2
| 表面電荷から生じる移動性と効果 | ゼータサイザーアドバンスシリーズ、Nano ZS、Nano Z、Nano ZS90、Nano ZSP、Helix |
| EP2467701B1 (CH+LI, GB, FR, DE602010067652.8)
CN102575984B US9279765B2 JP5669843B2 US10317339B2 US11237106B2 | 改善された単一拡散モード検出を備えた複雑な流体の動的光散乱法をベースにしたマイクロレオロジー | ゼータサイザーアドバンスシリーズ、Nano ZSP、Helix |
| CN103608671B
CN105891304B EP2721399B1 (BE, CH+LI, DK, FR, GB, NL, DE602012031338.2, IT502017000050268) JP6023184B2 US9829525B2 US10274528B2 US11079420B2 | 表面電荷測定 | Zeta Plate Cellアクセサリ |
| US8702942B2
CN103339500B EP2652490B1 (GB, FR, DE602011046775.1) JP06006231B2 JP06453285B2 US10648945B2 | 拡散障壁を使用したレーザードップラー電気泳動法 | ゼータサイザーアドバンスシリーズ、 Nano ZS、Nano S、Nano ZS90、S90、Nano ZSP |
| EP2742337B1 (GB, FR, DE602012018122.2)
US9816922B2 | 微粒子のデュアルモード特性評価 | ゼータサイザーへリックス |
| US10197485B2
US10520412B2 US10845287B2 US11435275B2 EP3353527A1 JP6936229B2 CN108291861B | 粒子の特性評価 | ゼータサイザーアドバンスシリーズ |
| US10119910B2 | 粒子の特性評価装置 | ゼータサイザーアドバンス:UltraとPro |
| US8675197B2
JP6059872B2 EP2404157B1 (GB, FR, DE602010066495.3) | 粒子の特性評価 | ゼータサイザーアドバンスアクセサリ |
| EP3521806A1
US11441991B2 CN111684261A JP2021513649A | 多角度動的光散乱法 | ゼータサイザーアドバンス:Ultra |
インシテック
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US7418881B2
EP1592957B1 (GB) | 希釈システムと方法 | Insitec (一部の製品) |
| US7871194B2
EP1869429B1 (GB, FR, DE602006060213.8) | 希釈システムと方法 | Insitec (一部の製品) |
| EP2640499B1 (GB) | インライン分散機と紛体混合法 | インシテック(乾式) |
モフォロギ
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| EP2106536B1 (GB, FR, DE602008039489.1)
US8111395B2 US8564774B2 | 不均一性の分光分析 | モフォロギG3-ID |
| GB2522735B
JP6560849B2 | 乾式分散の方法と装置 | モフォロギG3-ID、モフォロギG3 |
Viscosizer
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US11113362B2
JP6917897B2 EP3274864A1 CN107430593B | 多成分モデルのパラメーター化 | Viscosizer TD |
Hydro Sight
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US8456633B2 | 分光プロセス監視 | Hydro Sight |
| CN104704343B
EP2864760A2 US10509976B2 | 不均一な流体試料の特性評価 | Hydro Sight |
ナノサイト
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US7751053B2
JP04002577B2 EP1499871B1 (FR, DE60335872.1) US7399600B2 | 粒子解析のための光学検出 | ナノサイトNS300
ナノサイトNS500 ナノサイトLM10 |
| EP3071944B1 (GB, FR, DE602014059002.0)
US9909970B2 JP6505101B2 CN105765364B | 装置の校正の改善または関連 | ナノサイト NS300 |
MicroCal ITC
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| CN101855541B
EP2208057A1 JP05542678B2 US8449175B2 US8827549B2 | 等温滴定型マイクロカロリメーター装置と使用方法 | MicroCal ITC製品 |
| CN102232184B
EP2352993B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009044685.1) JP5476394B2 US9103782B2 US9404876B2 US10036715B2 US10254239B2 EP3144666B1 (CH+LI, GB, FR, DE602009059932.1) US20200025698A1 EP3647776A1 | 自動等温滴定型マイクロカロリメーター装置と使用方法 | MicroCal ITC製品 |
MicroCal DSC
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US8635045B2
CN103221808B EP2646811B1 (GB, FR, DE 602011071793.6) IN336472 JP5925798B2 | カロリメトリーデータの自動ピーク検出方法 | MicroCal DSC製品 |
OmniSEC
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US9759644B2
US10551291B2 | バランスキャピラリーブリッジ粘度計 | OmniSEC |
| US9612183B2
EP2619543B1 (GB, FR, DE602011011174.4) JP05916734B2 CN103168223B IN341558 | モジュラーキャピラリーブリッジ粘度計 | OmniSEC |
QualitySpec 7000
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US8164747B2
CA2667650C EP2092296B1 (CH+LI, NL, SE, DK, DE602007045593.6) | 光学分光測定のための装置、システムおよび方法 | QualitySpec 7000 |
TerraSpec Halo
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US9207118B2 | モノクロメーターおよびダイオードアレイ分光計機器をスキャンするための装置、システム、および方法 | TerraSpec Halo |
QualitySpec Trek
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US9207118B2 | モノクロメーターおよびダイオードアレイ分光計機器をスキャンするための装置、システム、および方法 | QualitySpec Trek |
床置きXRF
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US8210000B2
JP5554163B2 CN101941789B EP2270410B1 (GB, FR, NL, DE602009003389.1) AU2010202662B2 | ビーズ炉 | Zetium
Axios FAST Epsilon5 |
| EP1701154B1 (FR, DE)
JP4950523B2 | 収差を補正する装置と方法
| Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (wafer analyser)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US7949092B2
| X線分析を実施する装置と方法
| Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (wafer analyser)* Epsilon5* SEMYOS |
| JP5782451B2
EP2510397B1 (GB, FR, NL, DE602010021859.7) | xuv波長範囲に適応するために横方向パターンを備えた多層構造を製造する方法、およびこの方法に従って製造されたbfとImag構造 | Zetium*
Axios FAST 2830 ZT (wafer analyser)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US9658352B2
CN104833557B JP656263B2 JP6804594B2 | 基準の作成方法 | Zetium
Axios FAST |
| EP2787342B1 (GB, FR, NL, DE602013028642.6)
JP6360151B2 | 押して試料ペレットを準備 | Zetium
Axios FAST |
| US10107551B2
EP2966039B1 (GB, FR, NL, DE602014024004.2) JP6559486B2 CN105258987B | フラックスとプラチナるつぼを使用したXRF用試料の準備 | Zetium
Axios FAST |
| US9784699B2
JP6861469B2 CN105937890B EP3064931B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016057221.4) | 定量的X線分析 - マトリックスの厚さの補正 | Zetium*
Axios FAST |
| US9739730B2
JP6706932B2 CN105938113B EP3064933B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016056347.9) | 定量的X線分析 - 多光路装置 | Zetium*
Axios FAST |
| US9851313B2
JP6762734B2 CN105938112B EP3064932B1 (GB, FR, NL, CH+LI, DE602016024126.9) | 定量的X線分析 - 比率補正 | Zetium*
Axios FAST |
| US9239305B2 | 試料ホルダ | Zetium*
Axios FAST* Epsilon5 |
| US7978820B2
| X線回析と蛍光 | Zetium
Axios FAST* 2830 ZT (wafer analyser)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US7720192B2
JP5574575B2 CN101311708B | 蛍光X線装置 | Zetium*
Axios FAST* 2830 ZT (wafer analyser)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US7194067B2
| X線光学システム | Zetium
Axios FAST* 2830 ZT (wafer analyser)* Epsilon5* SEMYOS* |
| US8223923B2
JP5266310B2 CN101720491B EP1983547B1 (GB, FR, NL, DE602008000361D1) | 金属線カソードを備えたX線源 | Zetium
Axios FAST 2830 ZT (wafer analyser) Epsilon5 SEMYOS |
| US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B2 (GB, FR, NL, DE602015012421.9) | X線管アノード配置
| Zetium
Axios FAST 2830 ZT (wafer analyser) Epsilon5 SEMYOS |
| US10281414B2
EP3330701B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602017006751.2) EP3480587B1 (GB, FR, NL, DE602017061400.9) US10393683B2 JP6767961B2 CN108132267A | X線測定用コニカルコリメータ | Zetium* |
| *· オプション/製品の標準ではありません | ||
ベンチトップXRF
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| US8210000B2
JP5554163B2 CN101941789B EP2270410B1 (GB, FR, NL, DE602009003389.1) | ビーズ炉 | Epsilon 1シリーズ
Epsilon 3X分光計 Epsilon 4空気品質エディション |
| EP1701154B1 (FR, DE)
JP4950523B2 | 収差を補正する装置と方法
| Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計* Epsilon 4空気品質エディション* |
| US7949092B2
| X線分析を実施する装置と方法
| Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計* Epsilon 4空気品質エディション* |
| US9658352B2
CN104833557B JP6562635B2 JP6804594B2 | 基準の作成方法 | Epsilon 1シリーズ
Epsilon 3X分光計 Epsilon 4空気品質エディション |
| EP2787342B1 (GB, FR, NL, DE602013028642.6)
JP6360151B2 | 押して試料ペレットを準備 | Epsilon 1シリーズ
Epsilon 3X分光計 Epsilon 4空気品質エディション |
| US10107551B2
JP6559486B2 CN105258987B EP2966039B1 (GB, FR, NL, DE602014024004.2) | フラックスとプラチナるつぼを使用したXRF用試料の準備 | Epsilon 1シリーズ
Epsilon 3X分光計 Epsilon 4空気品質エディション |
| US9784699B2
JP6861469B2 CN105937890B EP3064931B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016057221.4) | 定量的X線分析 - マトリックスの厚さの補正 | Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計* Epsilon 4空気品質エディション* |
| US9739730B2
JP6706932B2 CN105938113B EP3064933B1 (GB, FR, NL, CH, DE602016056347.9) | 定量的X線分析 - 多光路装置 | Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計* Epsilon 4空気品質エディション* |
| US9851313B2
JP6762734B2 CN105938112B EP3064932B1 (GB, FR, NL, CH+LI, DE602016024126.9) | 定量的X線分析 - 比率補正 | Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計* Epsilon 4空気品質エディション* |
| US9239305B2 | 試料ホルダ | Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計* Epsilon 4空気品質エディション* |
| US9547094B2
CN104849295B EP2908127B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602014011398.2) JP6526983B2 | X線分析装置
| Epsilon 1シリーズ
Epsilon 3X分光計 Epsilon 4空気品質エディション |
| US7978820B2
| X線回析と蛍光 | Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計* Epsilon 4空気品質エディション* |
| US8223923B2
JP5266310B2 CN101720491B EP1983547B1 (GB, FR, NL, DE602008000361D1) | 金属線カソードを備えたX線源 | Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計* Epsilon 4空気品質エディション* |
| US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B2 (GB, FR, NL, DE602015012421.9) | X線管アノード配置
| Epsilon 1シリーズ*
Epsilon 3X分光計* Epsilon 4空気品質エディション* |
| * オプション/製品の標準ではありません | ||
床置きXRD
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| EP1701154B1 (FR, DE)
JP4950523B2 | 収差を補正する装置と方法 | Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) CubiX³ range |
| US9506880B2
CN104251870B EP2818851A1 JP6403452B2 | 回析イメージング | Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ range# |
| US7116754B2 | 回析装置 | Empyrean#
|
| US7858945B2
JP5254066B2 CN101521246B EP2088451B1 (GB, FR, NL, DE602008041760.3) | イメージング検出器 | Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ range# |
| EP2088625B1 (GB, FR, NL, CH + LI, DE602009040563.2) | イメージング検出器 | Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ range# |
| US9110003B2
CN103383363B EP2634566B1 (GB, FR, NL, DE602012058202.2) JP6198406B2 | マイクロ回析
| Empyrean#
X'Pert³ Powder# X'Pert³ MRD (XL)# CubiX³ range# |
| US9640292B2
CN104777179B EP2896960B1 (GB, FR, NL, DE602014012155.1) JP6564683B2 | X線装置
| Empyrean
X'Pert³ Powder CubiX³ range |
| US7756248B2
JP5145263B2 CN101545873B EP2090883B1 (GB, FR, NL, DE602008002143D1) | パッケージングのX線検出
| Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) |
| US8477904B2
JP5752434B2 CN102253065B EP2365319B1 (GB, FR, NL, DE602011055847.1) | X線回折とコンピュータ断層撮影法 | Empyrean
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³ range* |
| US7542547B2
JP5280057B2 CN101256160B EP1947448B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602007031351.1) | X線散乱法用X回折装置
| X'Pert³ Powder*
X'Pert³ MRD (XL)* |
| US7477724B2
EP1703276B1 (GB, FR, NL, DE602005033962.0) | X線装置 | Empyrean*
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³ range |
| US8437451B2
JP5999901B2 CN102610290B EP2477191B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602011035906.1) | X線シャッターの配置 | Empyrean
X'Pert³ Powder X'Pert³ MRD (XL) CubiX³ range |
| US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B1 (GB, FR, NL, DE602015012421.9) | X線管アノード配置
| Empyrean*
X'Pert³ Powder* X'Pert³ MRD (XL)* CubiX³ range* |
| EP3553508A2
US11035805B2 JP2019184609A CN110389142B | X線分析装置と方法 | Empyrean* |
| US10359376B2
EP3273229A1 JP6701133B2 CN107643308B | X線分析用試料ホルダ | Empyrean* |
| US10782252B2
CN110376231A EP3553506A2 JP2019184610A | ビーム発散のハイブリッド制御を使用したX線分析する装置と方法 | Empyrean
X'Pert³ CubiX³ range |
| US10753890B2
EP3372994B1 (AT, CZ, GB, FR, NL, PL, DE602018003874.4) CN108572184B JP6709814B2 | 高分解能X線回折法および装置 | Empyrean* |
| EP3553509B1 (AT, GB, FR, NL, DE602019017362.8)
JP2019184611A1 US10900912B2 CN110389143A | X線分析装置 | Empyrean* |
| US10352881B2
EP3343209B1 (GB, FR, NL, DE602017032595.3) CN108240998B JP6839645B2 | コンピュータ断層撮影法 | Empyrean* |
| US9753160B2
CN104285164B EP2850458B1 (GB, FR, NL, DE602013040524.7, IT502018000029139) JP6277351B2 | デジタルX線センサ | Empyrean
X'Pert³ CubiX³ range |
| *製品では、オプション/標準ではありません
#特別なリクエストで利用可能 | ||
ベンチトップXRD
| 特許番号 | 特許タイトル | 装置 |
|---|---|---|
| EP1701154B1 (FR, DE)
JP4950523B2 | 収差を補正する装置と方法 | Aeris
|
| US9506880B2
CN104251870B EP2818851A1 JP6403452B2 | 回析イメージング | Aeris*
|
| US7116754B2 | 回析装置 | Aeris*
|
| EP2088625B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602009040563.2) | イメージング検出器 | Aeris*
|
| US9640292B2
JP6564572B2 CN104777179B EP2896960B1 (GB, FR, NL, DE602014012155.1) | X線装置 | Aeris |
| US8477904B2
JP5752434B2 CN102253065B EP2365319B1 (GB, FR, NL, DE602011055847.1) | X線回折とコンピュータ断層撮影法 | Aeris*
|
| US7542547B2
JP5280057B2 CN101256160B EP1947448B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602007031351.1) | X線散乱法用X回折装置
| Aeris*
|
| US7477724B2
EP1703276B1 (GB, FR, NL, DE602005033962.0) | X線装置 | Aeris*
|
| US8437451B2
JP5999901B2 CN102610290B EP2477191B1 (CH+LI, GB, FR, NL, DE602011035906.1) | X線シャッターの配置 | Aeris
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| US9911569B2
JP2016131150A CN105810541B EP3043371B1 (GB, FR, NL, DE602015012421.9) | X線管アノード配置
| Aeris*
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| US10753890B2
EP3372994B1 (AT, CZ, DE602018003874.4, GB, FR, NL, PL) CN108572184B JP6709814B2 | 高分解能X線回折法および装置
| Aeris*
|
* オプション/製品の標準ではありません | ||