Epsilon Xline 結合了我們先進的能量分散式 XRF (EDXRF) 技術與線上功能。此先進解決方案能應用於捲對捲 (R2R) 塗佈製程，用以進行即時材料監測和製程控制。直接分析功能可用以針對材料成分和裝載持續進行最佳化，有助於將成品不符規格的情況降至最低，並且最大化成本效益。彈性靈活的 Epsilon Xline 可因應各種表面與元素，實現精準的製程控制。
完全線上自動化。Epsilon Xline 適用於各種薄膜和塗佈應用，並且可與既有應用無縫整合，滿足您的連續 R2R 生產需求。
簡單又安全。不同於手持式或傳統儀器，Epsilon Xline 具備完整 X 光安全性，且易於使用，能提供高度精準的分析資料。
凝聚多年產業經驗。Epsilon Xline 係 Malvern Panalytical 運用自身在 元素分析 領域 70 多年以來的經驗，與產業合作夥伴合作開發而成，旨在因應當下生產需求，並進一步共同開展產業整體的未來。
產量最大化。利用無干擾的即時監測功能，直接取得優化營運所需的洞見並進行有效控制，實現具成本競爭力的生產效能。
最佳材料效率。我們的產業標準解決方案可以消弭不一致的情況、協助避免浪費寶貴材料，並確保產出高品質產品。
專利且經驗證的準確度。Epsilon Xline 與客戶共同開發測試，採用專利高度校正技術，可穩定執行分析，並提供準確的結果。
由於鉑催化劑佔燃料電池總成本 20% 以上，因此需透過均勻散佈和一致性疊層來使催化劑塗佈達到最佳化。而快速、精準的製程監測就是最理想的解決方案！Epsilon Xline 可助您輕鬆實現高效率作業控制，讓您可以：
X 光螢光光譜技術 (XRF) 是一種非破壞性的元素分析技術，可用以在催化劑薄膜塗佈過程中進行線上監測，無需採樣，也不會產生化學或物理變化。
由此產生的即時線上分析內容可用以快速最佳化許多製程參數和產品特性。
Epsilon Xline 以及所有其他 Epsilon 系列儀器所採用的技術係以最先進的激發與偵測技術為基礎研發而成，皆經驗證且相當實用。
精心設計的光程、可因應各式輕元素與重元素的廣泛激發能力，以及快速的高解析度 SDD 偵測器系統，共同締造 Epsilon Xline 優異的效能。這些創新設計讓本產品得以產生再現性高、極度準確的結果，且維護成本低廉。
| 样品类型 | 塗佈線 |
|---|---|
| Coating types | 連續、通道、片狀 |
| Line speed continuous coating | 最大每分鐘 30 m |
| Line speed patch coating | 最大每分鐘 11 m
|
| Type | 金屬陶瓷、側窗
50 µm (鈹) |
|---|---|
| Anode material | 銀 |
| Tube setting | 軟體控制，適用電壓 4 - 50 kV，最大 3 mA，最大光管功率 15 W |
| X-Ray filtering | 六種，軟體可選 (銅 300 µm；銅 500 µm；鋁 50 µm；鋁 200 µm；鈦 7 µm；銀 100 µm) |
| Type | 高解析度矽漂移偵測器 SDD10
窗: 8 µm (鈹) |
|---|---|
| 解决方案 | < 145 eV @ 5.9 keV/1000 cps
通常為 135 eV @ 5.9 keV/1000 cps
|
| Radiation levels | < 1 µSv/h，距離外側表面 10 cm 時 |
|---|
透過內建的 OPC 連接功能，將 Epsilon Xline 無縫整合至您的生產線。隨附的專用軟體套件可協助您根據不同材料和測量模式需求輕鬆架設 Epsilon Xline。只要在儀器上直接輸入指令或使用遠端控制台進行操作，即可在簡單易用的介面上顯示完整追蹤資料的概覽。
Epsilon 軟體是 XRF 分析軟體平台，與帕納科的 Epsilon 1 和 Epsilon 4 桌上型 EDXRF 系統系列搭配使用。該軟體提供設定和操作 Epsilon 桌上型系統所需的所有功能。軟體內建的高度智慧極大地促進了分析程序的組裝，使用戶能夠從半個世紀的應用專業知識中受益。每日 XRF 分析是一項常規任務，沒有經驗的人員只需經過最少的指導即可輕鬆完成。許多功能都可以增強軟體的可用性。
Stratos 軟體模組具有演算法，可根據測量結果同時確定層狀材料的化學成分和厚度。該軟體提供了一種快速、簡單且非破壞性的分析塗層、表面層和多層結構的方法。虛擬分析師在為複雜堆疊設定測量程序期間提供智慧。
Stratos 可用於 Epsilon 4 EDXRF 和 Zetium XRF 光譜儀，無論樣品類型或基質如何，都能提供快速可靠的結果。
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