Metrologia de filmes finos
Análise de filmes finos por raios X
Análise de filmes finos por raios X
A metrologia de raios X é a ferramenta ideal para a análise de filme fino no desenvolvimento e na produção em massa de um tipo diferente de dispositivos micro e optoeletrônicos estruturados em camadas.
As técnicas de metrologia de raios X acompanharam o progresso da indústria com o desenvolvimento de novas aplicações e tecnologias baseadas em camadas.
Elas continuam a servir como ferramentas essenciais desde a fase de P&D até a produção piloto e a fabricação automatizada em larga escala de dispositivos semicondutores.
As ferramentas de medição baseadas em métodos de raios X, como a XRD, a XRR e a XRF, fornecem acesso rápido, não destrutivo, confiável, preciso e comprovado a parâmetros críticos de filmes finos, que vão desde camadas únicas ultrafinas até pilhas multicamadas complexas.
Saiba mais sobre nossos instrumentos de análise de filmes finos, abaixo.
Espectrômetros WDXRF de piso de alto padrão
Espectrômetro WDXRF simultâneo de alto rendimento
Solução de metrologia de filme fino de semicondutores avançados
Rapidez e precisão na análise elementar em linha
Versátil sistema XRD de pesquisa e desenvolvimento
Versátil sistema XRD de pesquisa, desenvolvimento e controle de qualidade
