Metrologia de filme fino

A metrologia de raios X é a ferramenta ideal para a análise de filme fino no desenvolvimento e na produção em massa de um tipo diferente de dispositivos micro e optoeletrônicos estruturados em camadas. As ferramentas de medição baseadas em métodos de raios X XRD, XRR e FRX fornecem acesso rápido, não destrutivo, confiável e preciso comprovado a parâmetros de filme fino críticos, que vão de camadas únicas ultrafinas até pilhas multicamadas complexas.

As técnicas de metrologia de raios X têm acompanhado o progresso do setor por meio do desenvolvimento de novas aplicações e tecnologias baseadas em camada e continuam a servir como ferramentas essenciais desde a fase de P&D até a produção piloto e a fabricação automatizada em larga escala de dispositivos semicondutores.