Metrologia de filme fino

Análise de filmes finos por raios X

A metrologia de raios X é a ferramenta ideal para a análise de filme fino no desenvolvimento e na produção em massa de um tipo diferente de dispositivos micro e optoeletrônicos estruturados em camadas. As ferramentas de medição baseadas em métodos de raios X XRD, XRR e FRX fornecem acesso rápido, não destrutivo, confiável e preciso comprovado a parâmetros de filme fino críticos, que vão de camadas únicas ultrafinas até pilhas multicamadas complexas.

As técnicas de metrologia de raios X têm acompanhado o progresso do setor por meio do desenvolvimento de novas aplicações e tecnologias baseadas em camada e continuam a servir como ferramentas essenciais desde a fase de P&D até a produção piloto e a fabricação automatizada em larga escala de dispositivos semicondutores.

Zetium

Zetium

Excelência elementar

Axios FAST

Axios FAST

Alta produtividade de amostras

2830 ZT

2830 ZT

Solução de metrologia de filme fino de semicondutores avançados

Epsilon 4

Epsilon 4

Rapidez e precisão na análise elementar em linha

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD

Versátil sistema XRD de pesquisa e desenvolvimento

X'Pert³ MRD XL

X'Pert³ MRD XL

Versátil sistema XRD de pesquisa, desenvolvimento e controle de qualidade

Tipo de medição
Metrologia de filme fino
Tecnologia
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
X-ray Diffraction (XRD)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)