Las herramientas de metrología de película delgada basadas en métodos de rayos X, tales como XRD, XRR y XRF, son rápidas y no destructivas. Está comprobado que son potentes para la investigación ex situ de parámetros críticos de materiales de capas delgadas, heteroestructuras y sistemas de superredes hasta la escala de nanómetros. La información derivada es esencial para optimizar la calidad de la película, lo que mejora la eficiencia de producción y reduce los costos. Malvern Panalytical ofrece soluciones de metrología para el desarrollo y el control de producción de dispositivos optoelectrónicos y microelectrónicos estructurados en capas.

2830 ZT

2830 ZT

Solución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores

Más detalles
Medición Identificación química, Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Rango primario Be-U
Resolución (Mg-Ka) 35eV
Rendimiento de muestra up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
Tecnología Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

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Solución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores

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Medición Identificación química, Thin film metrology, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Rango primario Be-U
Resolución (Mg-Ka) 35eV
Rendimiento de muestra up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
Tecnología Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD XL

2830 ZT X'Pert³ MRD X'Pert³ MRD XL

Solución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores

Versatile research & development XRD system

Versatile research, development & quality control XRD system

Más detalles Más detalles Más detalles
Tecnología
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
Tipo de medición
Thin film metrology
Identificación química
Elemental analysis
Contaminant detection and analysis
Elemental quantification