Las herramientas de metrología de película delgada basadas en métodos de rayos X, tales como XRD, XRR y XRF, son rápidas y no destructivas. Está comprobado que son potentes para la investigación ex situ de parámetros críticos de materiales de capas delgadas, heteroestructuras y sistemas de superredes hasta la escala de nanómetros. La información derivada es esencial para optimizar la calidad de la película, lo que mejora la eficiencia de producción y reduce los costos. Malvern Panalytical ofrece soluciones de metrología para el desarrollo y el control de producción de dispositivos optoelectrónicos y microelectrónicos estructurados en capas.

2830 ZT

2830 ZT

Solución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores

Más detalles
Medición Identificación química, Metrología de película delgada, Análisis elemental, Detección y análisis de contaminantes, Cuantificación elemental
Rango primario B-Am
Resolución (Mg-Ka) 35eV
Rendimiento de muestra up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
Tecnología Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

2830 ZT

Solución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores

Más detalles
Medición Identificación química, Metrología de película delgada, Análisis elemental, Detección y análisis de contaminantes, Cuantificación elemental
Rango primario B-Am
Resolución (Mg-Ka) 35eV
Rendimiento de muestra up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
Tecnología Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD XL

2830 ZT X'Pert³ MRD X'Pert³ MRD XL

Solución avanzada de metrología de película delgada de semiconductores

Versátil sistema XRD de investigación y desarrollo

Versátil sistema XRD de investigación, desarrollo y control de calidad

Más detalles Más detalles Más detalles
Tecnología
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
Tipo de medición
Metrología de película delgada
Identificación química
Análisis elemental
Detección y análisis de contaminantes
Cuantificación elemental