Análisis de estructuras en capas epitaxiales
La difracción de rayos X de alta resolución es una poderosa herramienta para el análisis estructural no destructivo de capas epitaxiales, heterostructuras y sistemas de superredes.
Es una herramienta estándar utilizada en la producción industrial, así como durante la fase de desarrollo de estructuras de crecimiento epitaxial.
A partir de los patrones de difracción se puede obtener mucha información importante, incluida la siguiente:
Incluso se puede investigar la formación de interdifusión e intermezcla de interfaces en determinadas circunstancias.
A fin de lograr una rápida inspección, se pueden utilizar para el análisis las posiciones pico del sustrato y las capas.
No obstante, en general se aplican simulaciones de patrón completo basadas en la teoría de dispersión dinámica para la determinación cuantitativa de parámetros relevantes.
Difractómetros de rayos X multipropósito
Versátil sistema XRD de investigación y desarrollo
Versátil sistema XRD de investigación, desarrollo y control de calidad
