Solution complète pour l'analyse par rayons X in situ
L'analyse par rayons X in situ, souvent appelée analyse dans des conditions non ambiantes, est l'une des applications clés de la recherche sur les matériaux de pointe dans les environnements universitaires et industriels.
Toute propriété macroscopique d'un matériau est directement liée à sa propriété structurale (par exemple, symétrie cristallographique, taille de cristallites, lacunes, taille et forme des nanoparticules ou des pores). Température, pression, atmosphère gazeuse variable et transformation de la phase de déclenchement de contrainte mécanique, réactions chimiques, recristallisation, etc.
Les techniques de diffraction des rayons X (XRD) et de diffusion des rayons X sont le premier et parfois le seul choix pour la caractérisation in situ correcte et précise de ces changements. Qu'il s'agisse d'optimiser un procédé de fabrication ou d'ajuster une procédure de synthèse, ou pour la recherche et la création de nouveaux matériaux de pointe, l'analyse par rayons X in situ est l'outil le plus complet pour résoudre les problèmes.
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Pour la diffraction des rayons X de poudre en géométrie de réflexion avec chauffage rapide à 1 600 °C.
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Pour la diffraction des rayons X de poudre en géométrie de réflexion et transmission, la contrainte de base, la diffusion de rayons X aux petits angles (SAXS), la fonction atomique de distribution de paires (PDF) et les analyses de couches minces à des températures allant jusqu'à 1 200 °C.
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Pour la diffraction des rayons X de poudre en géométrie de réflexion avec chauffage rapide à 2 000 °C. |
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TTK 600 – chambre basse température Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion et transmission, analyse des couches minces et des contraintes de base dans des température comprises entre -190 °C et +600 °C.
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CHC plus+ – cryochambre et chambre d'humidité Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion, analyse des couches minces et des contraintes de base avec température et humidité contrôlées.
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MHC-trans - chambre d'humidité multi-échantillon Pour la diffraction des rayons X de poudre en transmission et mesures de base SAXS avec des conditions de température et d'humidité contrôlées.
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Phenix – cryostat basse température Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion, analyse des couches minces et des contraintes de base dans des températures comprises entre -261 °C (12 K) et +25 °C (298 K).
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Pour la diffraction des rayons X de poudre, SAXS de base et PDF en géométrie capillaire dans des températures comprises entre -193 °C (80 K) à 227 °C (500 K).
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Chimera – chambre de refroidissement et de chauffage Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion, analyse des couches minces et des contraintes de base dans des températures comprises entre -203 °C (70 K) à 252 °C (525 K). |
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HPC 900 – chambre haute pression Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion, analyse des couches minces et des contraintes de base à des températures jusqu'à 900 °C et des pressions jusqu'à 100 bars.
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Pour la diffraction des rayons X de poudre en réflexion, analyse des couches minces et des contraintes de base à des températures jusqu'à 900 °C et des pressions jusqu'à 10 bars avec différents gaz.
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DCS 500 – élément de refroidissement Pour l'analyse avancée des couches minces et les mesures de contraintes à des températures de -180 °C à 500 °C. |
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DHS 1100 – élément de chauffage Pour l'analyse avancée des couches minces, la diffraction des rayons X de poudre de base, de textures et contraintes en réflexion à des températures jusqu'à 1 100 °C.
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BTS 150/500 – platine de chauffage de paillasse Les platines de chauffage de paillasse Anton Paar BTS 150 et BTS 500 constituent une solution économique de diffraction des rayons X in situ (-10 °C à +500 °C). |
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