X'Pert³

多功能研發用 XRD 系統

Malvern Panalytical 的 X'Pert³ 系列 XRD 繞射系統將延續發揚 X'Pert 平台的輝煌成果。具備嶄新的嵌入式電子控制平台,加上符合最新、最嚴謹的 X 光安全規範,以及在環境友善和可靠性方面的進展,X'Pert³ 平台已為未來發展做好準備。

• 具備 CRISP,入射光模組可達到最長壽命 
• 具備氣動快門和光強衰減器,可達最長正常運行時間 
• 歸功於第 2 代 PreFIX 技術,可輕鬆擴充新應用 
• 無需工具即可進行快速可靠的X光管焦點位置變換 
• 新的嵌入式電子控制系統,可直接連線至網際網路 
• 符合最嚴謹的安全法規

X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD 系統提供從研究到製程開發和製程控制的先進和創新的 X 射線衍射解決方案。

特點包括

  • 晶圓最大直徑:100毫米
  • 證券交易委員會/創業板
  • 無塵室 ISO 4
X'Pert³ MRD

X'Pert³ MRD XL

額外的 PreFIX 安裝平台允許串聯安裝 X 射線鏡和高分辨率單色儀,從而顯著增加入射光束的強度。

特點包括

  • 晶圓最大直徑:300毫米
  • 證券交易委員會/創業板
  • 無塵室 ISO 4
X'Pert³ MRD XL

我們的產品如何比較

  • X'Pert³ MRD

    新一代高分辨X射线衍射仪

    X'Pert³ MRD

    技術類型

    • X光繞射(XRD)

    量測類型

    • 相鑑定
    • 相定量
    • 薄膜測量
    • 殘餘應力
    • 界面粗糙度
    • 磊晶分析
    • 紋理分析
    • 倒置空間分析

    Wafer max. diameter

    • 100 mm
    • SECS/GEM
    • Cleanroom ISO 4
  • X'Pert³ MRD XL

    能滿足研發與品管的自動化 XRD 系統

    X'Pert³ MRD XL

    技術類型

    • X光繞射(XRD)

    量測類型

    • 相鑑定
    • 相定量
    • 薄膜測量
    • 殘餘應力
    • 界面粗糙度
    • 磊晶分析
    • 紋理分析
    • 倒置空間分析

    Wafer max. diameter

    • 300 mm
    • SECS/GEM
    • Cleanroom ISO 4