產品特色
前瞻的系統靈活性
X'Pert³ MRD 系統提供先進和創新的 X 光繞射技術,可解決您在研究到製程開發以至於製程控制上所遇到的挑戰,所採用的這些技術兼容現有系統且可輕易升級轉移,包含了硬體和軟體等各方面。
X'Pert³ Extended MRD (XL)
X'Pert³ Extended MRD (XL) 為 X'Pert³ MRD 系列提供了更高的相容性,額外的 PreFIX 平台可同時安裝平行光反射鏡模組和高解析度單色儀,大幅提高入射光束強度。
由於 PreFIX 的概念,我們得以大幅提高量測的應用彈性,且無須犧牲其他方面的效能,包括數據品質,具高強度的高解析 X 光繞射、較短的量測時間 (例如倒易空間圖譜) 等,也可以在數分鐘內將原本的標準儀器配置變更到進階配置,有了第 2 代的 PreFIX,不僅可輕鬆調配機台配置,光學定位也比以往來得更為精準。
X'Pert³ MRD(XL) In-plane
有了適用於 In-plane 繞射的 X'Pert³ MRD (XL) 系統,我們可以量測與樣品表面垂直之晶格面的繞射訊號。
其在單一系統即具備標準和平面內幾何配置,且可對多晶形材料和高度完美的薄膜進行各種繞射實驗分析。
規格
外部機殼 | 測角儀 | X 光源 X 光偵測器/樣品載台 |
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尺寸:1370 (寬) x 1131 (深) x 1972 (高) mm | 水平測角儀 | 由 Malvern Panalytical 專門工廠在無塵室條件下製造的全陶瓷 X 光管 |
重量:1150 kg | 半徑:420 mm | 可自由切換線光源和點光源模式,不需特殊工具。 |
最大可動範圍 (取決於配件) -40°< 2θ <160° | 3 kW 高壓產生器可支援所有現行以及未來的 X 光管規格 | |
符合全球所有相關的電氣、機械和 X 光安全法規,適用於所有 X 光靶類型 | 使用超高精度的 Heidenhain 直接光學編碼系統,可實現測角儀的永久精準度 | Hybrid pixel 偵測器具有市場上最小的像素尺寸 (55 x 55 µm2) |
系統內建移動滑輪,便於安裝和搬移位置 | 長範圍精準度: ±0.0025° | 5 軸可動樣品載台,具備 200 x 200 mm2 x、y 移動功能 |
短範圍 (0.5°) 精準度:±0.0004° | Chi 旋轉:±92° | |
角度再現性:< 0.0002° | Phi 角旋轉: 2 x 360° | |
最小角度變量:0.0001° |
配件
偵測器
產品服務
最佳投資效益的
解決方案
Malvern Panalytical 提供多項產品服務,
以確保您的儀器保持在最佳狀態,發揮一流的性能,我們的應用專家
和技術支援服務能確保您的儀器在最佳狀態下運作。
客戶服務與技術支援
完整維修
• 電話與線上支援
• 設備保養與定期檢查
• 彈性的客戶維護合約
• 效能認證證書
• 硬體和軟體相關升級
• 台灣當地與全球支援
專業技術
為您的作業流程增加更多價值
• 樣品製備方法開發/最佳化
• 分析方法
• XRD 的整合式解決方案
• 透過 IQ/OQ/PQ 操作驗證、品質保證 (GLP,ISO17025) 或循環測試/實驗室測試
• 實驗室程序自動化
• 諮詢服務
教育訓練
• 提供現場教育訓練或訓練中心培訓
• 包含各種產品、應用分析與軟體的基礎課程及進階課程
分析服務和校正材料
• 專家 (XRF) 分析服務
• 氧化物和微量分析
• 客製化校正材料
主要功能
Malvern Panalytical X’Pert³ MRD 和 MRD XL 是多合一的 X 光解決方案,可用於許多工業應用,其中包括:
半導體和單晶晶圓
不論是磊晶成長研究或元件設計,使用高解析度 XRD 分析各層的品質、厚度、應變與合金成分已成為電子和光電子多層半導體元件的研發重心, X’Pert3 MRD 和 MRD XL 具有各種 X 光光學模組、單光器和偵測器選擇,可提供高解析度配置,以符合不同材料系統的應用,像是從磊晶成長半導體到新穎基材上的鬆弛緩衝層。
多晶形固體與薄膜
多晶形材料層和塗層是許多薄膜和多層元件的重要元素,沉積期間,多晶形材料層的形態演化是功能性材料研發的關鍵研究領域, X’Pert3 MRD 和 X’Pert3 MRD XL 可以完整配備各種狹縫、平行射束 X 光反射鏡、多毛細管透鏡、交叉狹縫和單一毛細管,讓您充分選擇適用於反射儀、應力、織構和晶相鑑定的入射光束光學元件。
超薄膜、奈米材料和非晶形層
功能性元件中可能含有無序、非晶形或奈米複合薄膜,彈性的 X’Pert3 MRD 和 MRD XL 系統能讓您納入多種分析方法,有各種高解析度光學元件、狹縫和平行板準直器可供使用,提供最佳化效能的低掠角入射方法、In-plane 繞射和反射式量測。
可控環境條件下的量測
研究材料在各種條件下的行為是材料研究和製程開發的必要部分, X’Pert3 MRD 和 MRD XL 的設計目的是為了輕鬆納入 Anton Paar 的 DHS1100 可控環境樣品載台,以實現在不同溫度範圍和惰性氣氛下的自動化測量。