X'Pert³ MRD XL Pre-installation manual (English)
版本号: 6
概述
X’Pert³ MRD XL 世代延續了 Malvern Panalytical MRD 悠久的成功歷史，在效能和可靠性上均有所提升，為以下領域的 X 光繞射研究增添了更多分析功能和應用：
- 先進材料科學
- 科學與工業薄膜技術
- 半導體製程開發的計量特性分析
X’Pert³ MRD XL 可處理各種應用，且可在最高達 200 mm 的完整晶圓上做定位分析。
X'Pert³ MRD 系統提供先進和創新的 X 光繞射技術，可解決您在研究到製程開發以至於製程控制上所遇到的挑戰，所採用的這些技術兼容現有系統且可輕易升級轉移，包含了硬體和軟體等各方面。
面向未來的系統彈性
X'Pert3 MRD 将新技术融入到了测角仪轴承设计和位置编码中，从而提高了整体性能。在测角仪轴承上应用的创新成果改进了黏滑行为，即使是在高负载条件下，也能够极其流畅地作旋转移动。在 omega 和 2theta 轴上使用了一流的 Heidenhain 光学编码器，因而改进了短距离和长距离准确性，并且同时提高了位置报告和测角仪定位的速度。
X'Pert3 MRD 的欧拉环样品台可实现高精度、可重复且无障碍的移动，方便进行样品旋转、倾斜以及 x 轴、y 轴和 z 轴平移，确保为要求严格的 XRD 应用实现用途广泛且准确的样品定位。
马尔文帕纳科的探测器产品组合在不断发展。PIXcel3D 探测器具有在半导体和薄膜应用中的特殊优势，该探测器具备完整的多功能性，允许实现高动态范围的测量，而无需进行光束衰减。PIXcel 探测器可用于各类应用需求，可以轻松地将它从 0D 接收狭缝模式切换为 1D 和 2D 静态及扫描模式。
Extended MRD (XL)
X'Pert³ Extended MRD (XL) 為 X'Pert³ MRD 系列提供了更高的相容性，額外的 PreFIX 平台可同時安裝平行光反射鏡模組和高解析度單色儀，大幅提高入射光束強度。
由於 PreFIX 的概念，我們得以大幅提高量測的應用彈性，且無須犧牲其他方面的效能，包括數據品質，具高強度的高解析 X 光繞射、較短的量測時間 (例如倒易空間圖譜) 等，也可以在數分鐘內將原本的標準儀器配置變更到進階配置，有了第 2 代的 PreFIX，不僅可輕鬆調配機台配置，光學定位也比以往來得更為精準。
MRD (XL) In-plane
有了適用於 In-plane 繞射的 X'Pert³ MRD (XL) 系統，我們可以量測與樣品表面垂直之晶格面的繞射訊號。
其在單一系統即具備標準和平面內幾何配置，且可對多晶形材料和高度完美的薄膜進行各種繞射實驗分析。
应用
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- 半导体和单晶晶圆
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无论是用于生长研究还是设备设计，使用高分辨率 XRD 对结构层质量、厚度、应力和合金组分进行测量的过程已成为电子和光电子多层半导体设备的研发核心所在。借助多种可供选择的 X 射线反射镜、单色器和探测器，X'Pert3 MRD 和 X'Pert3 MRD XL 提供了高分辨率配置以适应不同的材料系统。从晶格匹配半导体，到弛豫缓冲层，再到非标准基片上的新型外来层。
- 多晶固体和薄膜
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多晶薄膜和涂层是许多薄膜和多层膜设备的重要组成部分。沉积过程中多晶层形态的演变是功能材料研发的一个关键研究领域。X'Pert3 MRD 和 X'Pert3 MRD XL 可全面配备狭缝系统、平行光 X 射线反射镜、多毛细管透镜、交叉狭缝和单毛细管等一系列入射光路部件，以满足反射测量、应力、织构和物相鉴定测试的需要。
- 超薄薄膜、纳米材料和非晶层
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功能设备可能包含无序、非晶或纳米复合材料薄膜。X'Pert3 MRD 和 X'Pert3 MRD XL 系统的灵活性允许结合使用多种分析方法。可提供一系列高分辨率光学器件、狭缝和平行板准直器，确保为掠入射、面内衍射和反射测量实现更高的性能。
- 非常温条件下的测量
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研究材料在各种条件下的变化是材料研究和过程开发中不可缺少的组成部分。X'Pert3 MRD 和 X'Pert3 MRD XL 经过专门的设计，可轻松整合 Anton Paar 提供的 DHS1100 变温样品台，从而能够在一系列温度范围和惰性气体环境下自动进行测量。
Instrument gives excellent accuracy and is of good quality.Good intensity and rapid performance. It is easy to operate.
Yifan Zheng — Zhejiang University of Technology
