X 射线反射法 (XRR)
薄膜、表面和界面
Aeris 結合 X 射線反射率測量：輕鬆測量薄膜與表面粗糙度. 了解更多
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X 射线反射仪 (XRR) 是一种分析技术，用于使用 X 射线的总外部反射效应来研究薄层结构、表面和界面。
了解薄膜的厚度可以為材料性能提供關鍵見解。閘極氧化層是開發半導體時的關鍵組成部分。它們以薄的絕緣層形式存在，通常只有幾奈米厚，如果過薄，電流會洩漏，導致過熱。如果過厚，切換速度會變慢，從而導致性能下降。XRR 還可以在分析磁性、光學和儲能裝置中的塗層時提供關鍵見解等。
在反射測量實驗中，透過在臨界角附近（通常為掠入射角）測量樣品的 X 射線反射。
低於全外反射的臨界角時，X 射線僅能穿透樣品幾奈米；高於該角度時，穿透深度迅速增加。在每一個電子密度發生變化的界面上，會有部分 X 射線被反射，這些部分反射光束的干涉形成了反射率實驗中觀察到的振盪圖樣。
透過這些反射率曲線，可以確定層的厚度和密度，以及界面和表面粗糙度，而不受各層結晶性質（單晶、多晶或非晶）的影響。
圖 1：從 Aeris 上基於影格的 1D 測量中擷取的資料所進行的 XRR 擬合，其中藍色曲線為實驗數據，紅色曲線為 50 nm 銥層的擬合曲線。
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