A fluorescência de raios X (XRF) é uma técnica analítica que pode ser utilizada para determinar a composição química de uma ampla variedade de tipos de amostras, incluindo sólidos, líquidos, pastas e pós soltos. A fluorescência de raios X também é usada para determinar a espessura e a composição das camadas e revestimentos. Ela pode analisar elementos desde o berílio (Be) até o urânio (U) em faixas de concentração de 100% de peso em níveis de ppm inferiores.

A XRF é uma técnica robusta, que combina alta precisão e exatidão com preparação de amostra simples e rápida. Ela pode ser facilmente automatizada para uso em ambientes industriais de alta produtividade, além de a XRF fornecer informações qualitativas e quantitativas sobre uma amostra. A facilidade de combinar informações do tipo "o quê?" e "quanto" também viabiliza a rapidez da análise do exame (semiquantitativo).

A XRF é um método de emissão atômica, semelhante neste quesito à espectroscopia de emissão óptica (OES), ICP e análise de ativação de nêutrons (espectroscopia gama). Esses métodos medem o comprimento de onda e a intensidade da "luz" (raios X, neste caso) emitida pelos átomos energizados na amostra. Na XRF, a irradiação por um feixe de raios X primário de uma ampola de raios X causa a emissão de raios X fluorescentes com energias discretas, características dos elementos presentes na amostra.

A tecnologia usada para a separação (dispersão), a identificação e a medição de intensidade de um espectro de fluorescência de raios X da amostra dá origem a dois tipos principais de espectrômetros: sistemas de dispersão por comprimento de onda (WDXRF) e de energia dispersiva (EDXRF).

Série Epsilon

Série Epsilon
Mais detalhes
Medição Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Gama elementar Na-Am, C-Am
Resolução (Mg-Ka) 145eV
LLD 1 ppm - 100%
Tecnologia Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

Epsilon Xflow

Epsilon Xflow

Informações diretas do seu processo de produção

Mais detalhes
Medição Elemental analysis, Contaminant detection and analysis
Gama elementar Na-Am
Resolução (Mg-Ka) 135eV
LLD 1 ppm - 100%
processamento de amostra on-line
Tecnologia Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

Zetium

Zetium

Excelência elementar

Mais detalhes
Medição Identificação química, Metrologia de filme fino, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Gama elementar Be-U
Resolução (Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
processamento de amostra 160per 8h day - 240per 8h day
Tecnologia Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)

Axios FAST

Axios FAST

Alta produtividade de amostras

Mais detalhes
Medição Metrologia de filme fino, Elemental analysis, Elemental quantification
Gama elementar Be-U
Resolução (Mg-Ka) 35eV
LLD 0.1 ppm - 100%
processamento de amostra 240per 8h day - 480per 8h day
Tecnologia Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

2830 ZT

2830 ZT

Solução de metrologia de filme fino de semicondutores avançados

Mais detalhes
Medição Identificação química, Metrologia de filme fino, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Gama elementar Be-U
Resolução (Mg-Ka) 35eV
processamento de amostra up to 25 wafers per hour
LLD 0.1 ppm - 100%
Tecnologia Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Série Epsilon

Série Epsilon

Epsilon Xflow

Epsilon Xflow

Informações diretas do seu processo de produção

Zetium

Zetium

Excelência elementar

Axios FAST

Axios FAST

Alta produtividade de amostras

2830 ZT

2830 ZT

Solução de metrologia de filme fino de semicondutores avançados

Mais detalhes Mais detalhes Mais detalhes Mais detalhes Mais detalhes
Medição Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification Elemental analysis, Contaminant detection and analysis Identificação química, Metrologia de filme fino, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification Metrologia de filme fino, Elemental analysis, Elemental quantification Identificação química, Metrologia de filme fino, Elemental analysis, Contaminant detection and analysis, Elemental quantification
Gama elementar Na-Am, C-Am Na-Am Be-U Be-U Be-U
Resolução (Mg-Ka) 145eV 135eV 35eV 35eV 35eV
LLD 1 ppm - 100% 1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
processamento de amostra   on-line 160per 8h day - 240per 8h day 240per 8h day - 480per 8h day up to 25 wafers per hour
Tecnologia Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF), Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF) Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)

Zetium

Série Epsilon

Axios FAST

2830 ZT

Zetium Série Epsilon Axios FAST 2830 ZT

Excelência elementar

Alta produtividade de amostras

Solução de metrologia de filme fino de semicondutores avançados

Mais detalhes Mais detalhes Mais detalhes Mais detalhes
Tipo de medição
Metrologia de filme fino
Elemental analysis
Contaminant detection and analysis
Elemental quantification
Identificação química
Tecnologia
Wavelength Dispersive X-ray Fluorescence (WDXRF)
Energy Dispersive X-ray Fluorescence (EDXRF)
Gama elementar Be-U Na-Am, C-Am Be-U Be-U
LLD 0.1 ppm - 100% 1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100% 0.1 ppm - 100%
Resolução (Mg-Ka) 35eV 145eV 35eV 35eV
processamento de amostra 160per 8h day - 240per 8h day 240per 8h day - 480per 8h day up to 25 wafers per hour