Jede makroskopische Eigenschaft eines Materials steht in direktem Zusammenhang mit seiner strukturellen Eigenschaft (z. B. kristallographische Symmetrie, Kristallitgröße, Leerstellen, Größe und Form von Nanopartikeln oder Poren). Temperatur, Druck, variierende Gasatmosphäre und mechanische Phasenumwandlung durch mechanische Belastung, chemische Reaktionen, Rekristallisierung usw.
Röntgenbeugung (XRD) und Röntgenstreuverfahren sind die erste und manchmal die einzige Wahl für die korrekte und genaue In-Situ-Charakterisierung dieser Änderungen. Ob zur Optimierung eines Fertigungsprozesses oder zur Abstimmung eines Syntheseverfahrens oder zur aktuellsten Forschung und Herstellung neuer Materialien – die In-Situ-Röntgenanalyse ist das umfassendste Tool zur Problemlösung.
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TTK 600 – Niedrigtemperaturkammer Für Reflektometrie- und Durchleitungs-Pulver-XRD, Grundspannungs- und Dünnschichtanalyse im Temperaturbereich -190 °C bis +600 °C.
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CHC plus+ – Kryo- und Feuchtigkeitskammer Für Reflektometrie-Pulver-XRD, Grundspannungs- und Dünnschichtanalyse mit kontrollierter Temperatur und Feuchtigkeit.
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MHC-Trans – Feuchtigkeitskammer für mehrere Proben Für Pulver-XRD in Transmissions- und Basis-SAXS-Messungen mit kontrollierten Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingungen.
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Phenix – Niedertemperaturkryostat Für Reflektometrie-Pulver-XRD, Grundspannungs- und Dünnschichtanalyse im Temperaturbereich von -261 °C (12 K) bis +25 °C (298 K).
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Für Pulver-XRD, Basis-SAXS und PDF in der Kapillargeometrie im Temperaturbereich von -193 °C (80 K) bis 227 °C (500 K).
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Chimera – Kühl- und Heizkammer Für Reflektometrie-Pulver-XRD, Grundspannungs- und Dünnfilmanalyse im Temperaturbereich von -203 °C (70 K) bis 252 °C (525 K). |
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Für Reflektometrie-Pulver-XRD, Grundspannungs- und Dünnschichtanalyse bei Temperaturen bis 900 °C und Drücken bis 100 bar.
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Für Reflektometrie-Pulver-XRD, Grundspannungs- und Dünnschichtanalyse bei Temperaturen bis 900 °C und Drücken bis 10 bar mit verschiedenen Gasen.
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PLS 500 – Kuppelförmige Kühlstufe Für erweiterte Dünnschichtanalyse und Spannungsmessungen bei Temperaturen von -180 °C bis 500 °C. |
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DHS 1100 – Kuppelförmiger Heizzusatz Für die erweiterte Dünnschichtanalyse, Spannung, Textur und grundlegende Reflektometrie-Pulver-XRD bei Temperaturen bis 1100 °C.
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BTS 150/500 – Tisch-Heizbühnen Tisch-Heizbühnen Anton Paar BTS 150 und BTS 500, eine kostengünstige Lösung für In-Situ-XRD (-10 °C bis +500 °C). |
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