Die Dünnschicht-Messtechnik ist das ideale Werkzeug für die Dünnschichtanalyse von Verbindungshalbleitern in der Entwicklung und Serienfertigung von epitaktisch geschichteten Mikrostrukturen und optoelektronischen Bauelementen. Die auf Röntgentechnologie basierenden Messverfahren wie XRD, XRR und RFA haben sich als besonders leistungsfähig erwiesen für die Ex-situ-Untersuchung kritischer Materialparameter von epitaktischen Schichten, Heterostrukturen und Übergitterstrukturen.