X'Pert³ MRD Pre-installation manual
Versionsnummer: 5
Überblick
Die lange und erfolgreiche Geschichte der Materialforschungsdiffraktometer (MRD) von Malvern Panalytical wird mit einer neuen Generation fortgesetzt: X'Pert³ MRD und X'Pert³ MRD XL. Durch die verbesserte Leistung und Zuverlässigkeit der neuen Plattform wurden die Analysemöglichkeiten und die Leistung für Röntgenstreuungs-Untersuchungen in folgenden Bereichen verbessert:
- Moderne Materialwissenschaft
- Wissenschaftliche und industrielle Dünnschichttechnologie
- Messtechnische Charakterisierung in der Halbleiter-Prozessentwicklung
Beide Systeme unterstützen dieselbe große Auswahl von Anwendungen und komplette Wafer-Mappings bis 100 mm (X'Pert³ MRD) bzw. 200 mm (X'Pert³ MRD XL).
Zukunftssichere Systemflexibilität
Die X'Pert³ MRD-Systeme bieten fortschrittliche und innovative Röntgendiffraktionslösungen, die sowohl in der Forschung als auch in der Prozessentwicklung und -steuerung eingesetzt werden.
Die verwendeten Technologien machen es möglich, alle Systeme vor Ort auf alle vorhandenen Optionen und neue Entwicklungen in der Hardware und Software aufzurüsten.
Leistungsmerkmale
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Maßgeschneidert für Forschung und Entwicklung
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Zur Verwendung mit dünnen Filmproben, Wafern und festen Materialien
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Komplettes Wafer-Mapping bis 100 mm
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Vielseitige und flexible Probenpositionierung
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Optionaler verlängerter Arm für optische Komponenten
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Hervorragende Genauigkeit durch neues hochauflösendes Goniometer mit Heidenhain-Encodern
Wichtigste Anwendungen
Die Malvern Panalytical X'Pert³ MRD und MRD XL sind All-in-One-Röntgenlösungen, die in vielen Industrieanwendungen eingesetzt werden können, darunter:
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- Halbleiter und Einkristall-Wafer
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Ob für Wachstumsstudien oder das Gerätedesign: Die Messung von Schichtqualität, Dicke, Dehnung und Legierungszusammensetzung mittels hochauflösender Röntgendiffraktion steht im Mittelpunkt der Forschung und Entwicklung von elektronischen und optoelektronischen Multilayer-Halbleiterbauelementen. Mit einer Auswahl an Röntgenspiegeln, Monochromatoren und Detektoren bieten die X'Pert³ MRD und MRD XL hochauflösende Konfigurationen für verschiedene Materialsysteme, von gitterangepassten Halbleitern über entspannte Pufferschichten bis hin zu neuartigen exotischen Schichten auf nicht standardmäßigen Substraten.
- Polykristalline Feststoffe und Dünnschichten
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Polykristalline Schichten und Beschichtungen sind ein wichtiger Bestandteil vieler Dünnschichten und mehrschichtiger Geräte. Die Entwicklung der polykristallinen Schichtmorphologie während der Abscheidung ist ein wichtiger Untersuchungsbereich in der Forschung und Entwicklung von Funktionswerkstoffen. X'Pert³ MRD und X'Pert³ MRD XL können mit einer Reihe von Blenden, einem Parallelstrahl-Röntgenspiegel, einer Polykapillarlinse, einer Kreuzblende und Monokapillaren ausgestattet werden, um die volle Auswahl an Optiken für den einfallenden Strahl für Reflektometrie, Belastung, Textur und Phasenidentifizierung zu bieten.
- Ultradünne Schichten, Nanomaterialien und amorphe Schichten
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Funktionale Geräte können ungeordnete oder amorphe Dünnschichten oder Nanokomposit-Dünnschichten enthalten. Die Flexibilität der Systeme X'Pert³ MRD und MRD XL ermöglicht die Integration mehrerer Analysemethoden. Eine Reihe von hochauflösenden Optiken, Blenden und Parallelplattenkollimatoren stehen zur Verfügung, um die optimale Leistung für Verfahren mit streifendem Einfall, In-plane-Beugung und Reflektometrie zu bieten.
- Messung unter Non-ambient-Bedingungen
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Die Untersuchung des Verhaltens von Materialien unter verschiedenen Bedingungen ist ein wesentlicher Bestandteil der Materialforschung und Prozessentwicklung. Die X'Pert³ MRD und MRD XL wurden für die einfache Integration der Non-ambient-Probenbühne DHS1100 von Anton Paar entwickelt und ermöglichen automatisierte Messungen unter verschiedenen Temperaturen und inert Atmosphären.
Instrument gives excellent accuracy and is of good quality.Good intensity and rapid performance. It is easy to operate.
Yifan Zheng — Zhejiang University of Technology
